【課題】 被ハンドリング体を静電破壊から保護するハンドリング治具及びハンドリング治具用スタンドの提供を目的とする。
【解決手段】 ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動又は往復移動自在に取り付けられたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５に取り付けられ、フォトマスク基板１０と当接する爪６とからなるハンドリング治具1であって、グリップ２，レバー３，固定アーム４，回動アーム５及び爪６に、導電性材料又は帯電防止剤による帯電防止処理を施した材料を使用した構成としてある。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の品質劣化を防止できるガラス基板収納ケース、ガラス基板収納ケースから別のケースにガラス基板を自動で入れ替えるガラス基板入替、ガラス基板を個別に管理するガラス基板管理装置、ガラス基板を専用のガラス基板収納ケースに収納させて取引するガラス基板流通方法、気密効果を高めるシール部材及びこのシール部材を用いたシール構造を提供する。
【解決手段】レチクルＲが載置される底部材１２と、底部材１２に載置されたレチクルＲを覆うように底部材１２に合わせられ底部材１２との間に空間部を形成する蓋部材２０と、底部材１２又は／及び蓋部材２０に設けられ蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態で空間部を気密にするシール部材１８と、蓋部材２０に設けられ底部材１２に引っ掛けられて蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態を維持するフック部材２４と、を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 ウェハの基板電極への脱吸着に対して、信頼性が高くさらにスループットの高いプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理装置におけるプラズマ処理方法であって、処理終了時（Ｔ１）に、被処理材に印加する高周波電力（ＲＦ）の出力をエッチング処理の進行しない出力まで低下させ、冷却ガス排気終了（Ｔ２）後、被処理材に印加する高周波とアンテナ電極に印加する高周波との位相差を０度とするとともにＥＳＣ電源をオフし、被処理材に蓄積された電荷を放出する（Ｔ３）。 （もっと読む）

【課題】金属製の留め具を利用することなくハンドルを取付けたり取り外したりできるウェハー搬送用のウェハー搬送モジュールの提供。
【解決手段】ウェハー搬送モジュールのシェル５８には開閉可能なドア２４が備えられている。中央支持構造６０はシェル５８の底部において露出する処理装置とのインターフェース部と、ウェハーを支持するためにウェハー搬送モジュール内を上方に延びる一体構造のウェハー支持コラム９２とを有する。また、シェル５８の側壁７４、７６には、取り外し可能なハンドル２８に設けられた係合部材と協動する係合部材を備えた溝７８を有している。ハンドル２８には、このハンドル２８を側壁７４、７６の所定の位置へロックするための戻り止めが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 電子部品を搬送するための搬送容器に存在する異物の認識を容易にする。
【解決手段】 半導体チップ２を搬送するトレイ１を有彩色とした。これにより、トレイ１に存在する異物の認識を容易にすることができる。また、半導体チップ２の搬送時に半導体チップ２の主面が対向する上段のトレイ１の裏面の収容部１ｅの底面に、半導体チップ２の主面に接しないような高さの孤立状の突起１ｆを分散させて配置した。これにより、トレイ１に帯電した電荷に起因して半導体チップ２が上段のトレイ１の裏面に張り付いてしまう現象を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の真空吸着用治具の目的は、加工中に半導体ウエハに発生した静電気がたまらないようにすることである。さらには、載置面に形成した導電性膜の機械的な密着強度を高めて粒子脱落によるパーティクルの発生を抑制することである。
【解決手段】 被吸着物が載置される、多孔質体から構成された載置部と、前記載置部を収容するための凹部が形成されてなる支持部と、前記載置部と前記支持部とを接合する接合部と、を具備してなる真空吸着用治具であって、前記載置部の載置面にダイヤモンドライクカーボン膜を１〜５μｍの厚さで形成してなることを特徴とする真空吸着用治具。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
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【課題】金属製の留め具を利用することなくハンドルを取付けたり取り外したりできるウェハー搬送用のウェハー搬送モジュールの提供。
【解決手段】ウェハー搬送モジュールのシェル５８には開閉可能なドア２４が備えられている。中央支持構造６０はシェル５８の底部において露出する処理装置とのインターフェース部と、ウェハー３８を支持するためにウェハー搬送モジュール２０内を上方に延びる一体構造のウェハー支持コラム９２とを有する。また、シェル５８の側壁７４、７６には、取り外し可能なハンドル２８に設けられた係合部材と協動する係合部材を備えた溝７８を有している。ハンドル２８には、このハンドル２８を側壁７４、７６の所定の位置へロックするための戻り止めが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 コーティング斑の発生を防止すると共に、保持台と基板の帯電を抑制する基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｇを略水平に保持するスピンチャック５０と、スピンチャックに基板を吸着保持させる吸着手段と、スピンチャックを回転させる駆動モータ５８と、スピンチャックに保持された基板に所定の塗布液を供給するレジスト供給ノズル７０と、を具備してなり、スピンチャックを、導電性樹脂材料にて形成すると共に、該導電性樹脂材料の表面抵抗率を、１×１０^１〜１×１０^１２（Ω／ｓｑ．）にする。これにより、スピンチャックからの熱的影響が基板の表面に及ぶのを抑制することができると共に、基板の帯電量を低減することができる。 （もっと読む）

高温高強度ポリマーおよび少なくとも１つの金属酸化物および、任意の少なくとも１つのピグメントの混合物から製造する、例えば、マトリックス・トレイ、チップ・トレイ、およびウェハ・キャリヤなどの電子部品を処理するための静電放電を起こさない装置に関する。金属酸化物を導電性材料として使用すると、色の薄い静電放電を起こさない材料を有利に作成可能である。このような材料は、材料の性能仕様を劣化させることなく、ピグメントにより着色することができる。
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【課題】 低膨張性と導電性を確保しつつ、基板を変形させることなく保持することができる基板保持装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】 絶縁性を有する低膨張材からなると共に複数の支持ピン８が形成された基板保持板１により、基板を保持する基板保持装置ＷＨにおいて、基板保持板ＷＨは、基板と接触すると共に基板保持板１を貫通する導電部４を少なくとも１つ以上備える。
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【課題】 半導体レーザ用等の薄く割れやすい半導体ウェハを、一般貨物並みの取り扱いでも運搬できる収納具を開発する。
【解決手段】 ウェハ２が配置される平坦部３ａを有する基部３と、基部３の上に配置したクッション材と、クッション材を覆い、基部３の外縁角部に密着して固定される外蓋５とを有する半導体ウェハ運搬用収納具１において、前記クッション材がガーゼ状のクリーンルーム用ワイパー等のようにクリーンな複数のクッション性シート４を重ねた構造をしており、クッション性シートの枚数の調節により、外蓋５が基部３に固定された時のウェハ２にかかる荷重をウェハ２が基部３に対して横滑りや浮き上がりが生じない程度の適切な荷重に制御する。 （もっと読む）

【課題】 剥離帯電による基板の電位を低減することにより、基板割れおよびＥＳＤ不良を抑制する。
【解決手段】 本発明の露光装置では、露光処理後に、ステージ３から基板２を持ち上げていったん停止させて除電器７により、基板２に帯電した静電気の除電を行う。そして、このような基板２の上昇と停止とを繰り返して、基板２を除電しながら、基板２をアーム６まで搬送する。これにより、剥離帯電による基板２の帯電量を低減することができ、基板割れおよびＥＳＤ不良を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 軟Ｘ線を放射することによって基板を除電する除電手段を備えたステッパ（基板保持装置）１において、静電気破壊を確実に防止しつつ、軟Ｘ線の放射時間を削減して、安全性を向上させるとともに、メンテナンスサイクルを延ばす。
【解決手段】 軟Ｘ線イオナイザ１３のＯＮ／ＯＦＦの切り替えを、露光ステージ１１に基板１００を搬入・搬出するためのリフトピン１２の動作に連動させて切り替える。これにより、露光ステージ１１から基板１００をリフトアップする際には軟Ｘ線イオナイザ１３をＯＮにして基板１００の除電を行い、剥離帯電に伴う基板１００の静電気破壊を防止するとともに、基板１００が搬入されていない場合や基板１００を露光ステージ１１に吸着保持している場合には軟Ｘ線イオナイザ１３をＯＦＦにする。 （もっと読む）

【課題】 静電チャック周囲の電界の形成を抑制してパーティクルによる汚染を低減する。
【解決手段】 静電チャック１００において、導電性膜１０は、静電チャック１００の吸着面５を除く表面に被覆形成され、かつ接地部１１によって電気的にアースされている。内部電極３と被吸着物としてのウエハWとの間に電圧を印加すると、静電気力が発生してウエハWを吸着する。このとき、接地された導電性膜１０により静電チャック１００周囲の電位は略ゼロに等しいレベルになるため、パーティクルを引き寄せる電界の形成が抑制され、ウエハＷへのパーティクルの付着が防止される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板等の搬送装置において、簡単な構造で、且つ、発塵や頻繁なメンテナンスを伴うことなく、長期間に亘って、確実に基板の静電気を除去する。
【解決手段】基板の搬送装置１０は、ローラー軸１２Ａ〜１２Ｄ，１２Ｈ〜１２Ｊに取付けられたローラーによってシート状の絶縁材料、例えばガラス基板を搬送するものであって、ローラー軸の外端に設けられた軸受け様プーリ２４Ａ〜２４Ｄ，２４Ｈ〜２４Ｊの外輪に、導電性ワイヤー２６が順次、少なくとも１回巻き掛けられて、導電性引張りばね２８を介して接地され、ガラス基板の静電気をアースするものである。 （もっと読む）

【課題】 ウエハカセットなどのウエハ保持容器を経て搬送するウエハへの前記ウエハ保持容器でのパーティクルの付着をなくし、配線ショート等のパターン形成不良の発生を防止する。
【解決手段】 複数のウエハ処理工程間でウエハ４を保管するウエハ保管装置２０を、ウエハ４をウエハ表面４ａが上下方向に沿う向きに保持するウエハカセット１と、ウエハカセット１内に上下方向の気流を流す気流取り入れ口２３ａ，排気口２４ａなどからなる気流発生機構と、ウエハカセット１の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構２２とを備えた構造とする。これにより、ウエハカセット１内の雰囲気中のパーティクルや、複数枚保持されたウエハ４の内の他のウエハ４に付着していたパーティクルが、重力作用によってウエハ表面４ａに落下すること、および、ウエハ表面４ａへ静電吸着することを防止可能である。 （もっと読む）

【課題】 保管時におけるウエハ等の保管物への水分等の有害物質の付着を防止することができ、さらには帯電に起因するデバイス破壊を確実に防止することができ、よって当該保管物の製造歩留まりや品質の向上を図ることができるクリーンストッカーを提供する。
【解決手段】 搬入口１１および搬出口１２が設けられた建屋１０の内部に、保管物３、５を収納する複数段の棚１３と、搬入出口との間に走行自在に設けられ、棚に対する保管物の出し入れを行うストッカークレーン１４とが設けられるとともに、清浄化した空気を建屋１０内に流動させる清浄空気循環手段１５が設けられたクリーンストッカーであって、建屋１０に、内部を分子状汚染物質が１０ｐｐｂ以下に除去された大気圧露点−１００℃以下のクリーンドライエアによって充満させるクリーンドライエアの供給管１６を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 搬送時における水分等の有害物質の付着を防止することができ、よって当該平板状部材の製造歩留まりや品質の向上を図ることができる平板状部材の搬送装置を提供する。
【解決手段】 平板状部材１の導入口５と送出口６とを有する筐体２と、この筐体２内に配設され、送出口６に向けて平板状部材１の両側部を支承しつつ搬送する搬送手段８と、平板状部材１の裏面側に配設され、噴出する気体によって平板状部材１を浮上させる浮上ユニット９とを備えた平板状部材の搬送装置において、筐体１に、その内部を分子状汚染物質が１０ｐｐｂ以下に除去された大気圧露点−１００℃以下のクリーンドライエアによって充満させる第１のクリーンドライエアの供給管１９を設けるとともに、浮上ユニット９に、平板状部材１の浮上用気体として上記クリーンドライエアを供給する第２のクリーンドライエアの供給管１２を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板搬送容器固定用のラッチ動作で容器を開ける際に、ファンの運転に伴う気流が発生せず、汚染粒子の吸込みなどを生じない基板搬送容器及び使用方法を提供する。
【解決手段】 基板を内部に収容すると共に基板搬出入用の開口部を持った容器本体と該開口部を開閉可能なドアとで構成される基板搬送保管容器において、基板搬送保管容器は、ファンを内蔵し気流を形成する手段を有する環境ボックスと、ドアをロックするロック機構とを備え、ロック機構の開閉ロック動作を検知するセンサを設けた基板搬送保管容器。センサが前記基板搬送保管容器のロック機構のツメに取り付けられ、センサによりロック状態を検知する。ロック機構のロックの解除動作が開始される前に環境ボックスのファンに停止信号が送信されて、基板搬送保管容器が開く前に環境ボックスのファンの運転が停止される。 （もっと読む）