【課題】基板から液体を確実に除去することが可能な基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】第１および第２の洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ１，ＳＤ２において、リンス液供給ノズル６６０は、リンス液供給管６６１ａを介して脱気モジュールＤＭに接続されている。脱気モジュールＤＭはリンス液供給管６６１ｂを介してリンス液供給源Ｒ２に接続されている。脱気モジュールＤＭにおいて、リンス液の脱気処理が行われる。脱気処理後のリンス液が、リンス液供給管６６１ａを通してリンス液供給ノズル６６０に供給される。基板Ｗの乾燥処理時に、リンス液供給ノズル６６０から基板Ｗ上にリンス液が供給される。それにより、基板Ｗ上にリンス液の液層が形成される。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィプロセスに適用する非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ポリマーの製造方法、ポリマーを使用する組成物、及び組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。より詳細には、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセス。 （もっと読む）

【課題】現像後のリンス処理における現像液濃度の偏りに起因するムラを防止する現像装置及び現像方法の提供。
【解決手段】基板上に現像液を供給する現像液供給機構と、基板上にリンス液を吐出するリンスノズル２とリンスノズルにリンス液を供給するバッファタンク３とバッファタンクに純水を供給する純水配管７及びエアオペレートバルブ６とバッファタンクに現像液を供給する現像液配管４及びエアオペレートバルブ５とバッファタンク内のリンス液の現像液濃度を測定し、現像液濃度が所望の値になるようにエアオペレートバルブ５、６の開閉を制御する現像液濃度測定部８とを少なくとも備えるリンス液供給機構とを少なくとも備え、現像液濃度測定部８は、基板上に現像液が供給された後、リンス液を吐出する際に、リンス液の現像液濃度をリンス処理の時間経過に伴って徐々に低下させる。 （もっと読む）

【課題】基板上でのパターン倒れを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄処理部５ａ〜５ｄを有する。洗浄処理部５ａ〜５ｄは、スピンベース２２、チャック回転駆動機構２４、チャンバ３１、真空ポンプ３３、蒸気供給管３４および液体供給ノズル４６を備える。チャンバ３１がスピンベース２２から離間した位置に設定されかつスピンベース２２が回転されている状態で、スピンベース２２上の基板Ｗに液体供給ノズル４６から薬液およびリンス液が供給される。スピンベース２２が停止されかつチャンバ３１がスピンベース２２に密着した位置に設定されている状態で、真空ポンプ３３によりチャンバ３１内が排気されるとともに蒸気供給管３４からチャンバ３１内にＩＰＡの蒸気が供給される。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】現像液ノズル２１が基板Ｗの中心部の上方に位置する状態で現像液の吐出を開始する。そして、現像液ノズル２１が現像液を吐出しつつ基板Ｗの中心部の上方から周縁部の上方まで移動する。これにより、基板Ｗ上の全体に十分に現像液が供給される。続いて、基板Ｗの回転速度が下降するとともに、現像液ノズル２１が現像液を吐出しつつ基板Ｗの周縁部の上方から中心部の上方まで移動する。この場合、基板Ｗの外方に振り切られる現像液の量が減少し、供給された現像液が基板Ｗ上で保持される。それにより、基板Ｗ上に現像液の液層が形成される。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】まず、基板Ｗの回転速度が低い状態で、基板Ｗの中心部にリンス液が供給される。この場合、リンス液が表面張力によってほぼ一定の領域内で保持される。基板Ｗの回転速度が上昇すると、基板Ｗ上に保持されているリンス液に遠心力が働き、リンス液が基板Ｗの周縁部に向けて拡がろうとする。そのとき、基板Ｗの中心部に現像液が供給される。この場合、現像液がリンス液とともに基板Ｗ上の全体に瞬間的に拡がる。 （もっと読む）

【課題】基板上における気流の乱れを抑制または防止できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハＷを所定の回転軸線Ｃ１まわりに回転させる基板回転手段と、基板回転手段により回転されるウエハＷの主面に向けて、かつ基板回転手段によるウエハＷの回転方向下流側に向けて、気体を吐出し、ウエハＷの主面上にウエハＷの回転方向に沿う気流を形成するための複数の気体吐出ノズルとを含む。ウエハＷ上に形成される気流の流速は、ウエハＷの回転軸線Ｃ１からの距離が異なる各位置において、ウエハＷの周速と一致されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＡ液などの低表面張力液体および時間の無駄を生じることなく、基板の表面から純水を良好に除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する
【解決手段】純水ノズル３によって、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に純水を供給することができる。一方、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面には、ＩＰＡノズル４によって、純水よりも表面張力の低いＩＰＡ液を供給することができる。このＩＰＡ液の供給時には、測定装置５によって、ウエハＷの表面上の液中における水分濃度が検出される。そして、この水分濃度に基づいて、制御部２１により、ＩＰＡ液の供給が終了されるべきであるか否かが判定される。 （もっと読む）

【課題】基板上に疎密なレジストパターンが混在して形成される場合でも、それぞれのレジストパターンを所定の目標寸法に形成する。
【解決手段】検査用ウェハにフォトグラフィー処理を行い、疎密なレジストパターンを形成する。パターン寸法測定装置において、それぞれのレジストパターン寸法を測定し、測定結果を制御部に出力する（ステップＳ１）。制御部では、密のレジストパターンの寸法測定結果に基づいて、ＰＥＢ装置における加熱温度の補正値を算出する（ステップＳ２）。疎のレジストパターンの寸法測定結果に基づいて、現像処理装置における現像液の温度又は現像液の吐出時間の補正値を算出する（ステップＳ３）。これら算出結果を、ＰＥＢ装置及び現像処理装置に出力し、それぞれの処理装置での処理条件を変更する（ステップＳ４）。 （もっと読む）

【課題】小型で、しかも基板表面を迅速に、かつ良好に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理空間１６２への乾燥窒素ガスの供給が２系統、つまり（１）基板Ｗの表面外周部から乾燥窒素ガスを供給する系統と、（２）基板Ｗの表面中心部から乾燥窒素ガスを供給する系統で同時に行われて処理空間１６２の湿度を均一に低下させることができる。また、処理空間１６２への乾燥窒素ガスの供給とともに処理空間１６２の排気を湿式処理時の排気よりも抑えているので、処理空間１６２の湿度を迅速に低下させることができる。そして、このようにして処理空間１６２の湿度を低下させた状態で乾燥処理を実行しているので、基板表面でのウォーターマーク等の発生を抑制しつつ基板を乾燥することができる。 （もっと読む）

【課題】基板面内により均一に処理を施すと共にスループットの向上を図る。
【解決手段】基板処理装置１は、基板２を水平搬送しながらその上面に現像液の液層Ｘを形成するための液ノズル１６と、基板２上に形成された液層Ｘを除去するための除去手段とを備える。この除去手段は、基板２を横断するように設けられて該基板２の上面に向かってエアを吐出するエアナイフ１８と、該エアナイフ１８によるエア吐出位置よりも基板２の後端側に隣接する位置に配置され、前記エアの吐出時に生じる液層Ｘの波打ちを抑える波消し部材２０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】水置換が完了する間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、パターン品質が損なわれない、現像装置における基板搬送方法、基板搬送装置を提供する。
【解決手段】現像槽から水洗槽へは、その初期には現像液２０を基板の先端部の現像液量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部での現像液量を少なくＤ２、末期には先端部での現像液量を少なくＤ２保って行い、水置換は現像液量の少ない先端部から開始する。水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その初期には水を先端部で水量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部で少なくＤ２、末期には先端部での水量を少なくＤ２保って行い、エアナイフでの水の排除は水量の少ない基板の先端部から開始する。 （もっと読む）

【課題】処理液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理する。
【解決手段】基板Ｗを第１回転速度（例えば１０００ｒｐｍ）で回転させる一方、薬液吐出ノズル４から基板表面Ｗfにフッ酸を第１流量、例えば２（Ｌ／ｍｉｎ）で基板表面Ｗfに供給する。これにより、厚みＴ1のフッ酸液膜２７が基板表面Ｗf全体に形成され、基板表面Ｗf全体がフッ酸と馴染んだ状態となる。次に、薬液吐出ノズル４からのフッ酸の吐出流量を２（Ｌ／ｍｉｎ）に保ったまま、基板Ｗの回転速度を、第１回転速度よりも低速の第２回転速度、例えば１０ｒｐｍに減速する（第２工程）。このように回転速度を減速することにより、基板表面Ｗf上に厚さＴ2（＞Ｔ1）の液盛り２８が形成される。また、液盛り形成後の第３工程において、フッ酸をさらに継続してノズル４から吐出させて液盛り状態を継続して常にフレッシュなフッ酸が補給される。 （もっと読む）

【課題】現像処理における析出系欠陥の発生、ＣＤ変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。
【解決手段】基板上の露光後のレジスト膜に現像液を塗布し、現像を進行させ、現像後の基板から現像液を振り切り、基板上に疎水基の炭素数が１１以上、かつ、二重結合および三重結合を有していない臨界ミセル濃度以下のポリエチレングリコール系の界面活性剤を含有するリンス液を供給し、基板に純水を供給して基板上のリンス液を純水に置換し、基板を回転させて基板上の純水を広げるとともに振り切り、基板を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】基板表面を乾燥させる前に該基板表面に未使用の有機溶剤を供給して基板表面を乾燥に適した表面状態に調整した後に基板表面を乾燥させる基板処理方法および装置において、有機溶剤の消費量を抑制する。
【解決手段】基板処理した際に発生する使用済みのＩＰＡを回収し、再利用ＩＰＡとして貯留タンク７１に貯留している。そして、基板Ｗに乾燥処理の実行前に２段階のＩＰＡ供給を行っている。つまり、リンス処理を受けた基板Ｗに対して再利用ＩＰＡを供給して基板表面Ｗfに付着しているリンス液（ＤＩＷ）を再利用ＩＰＡに置換した後に未使用のＩＰＡを基板表面Ｗfに供給して乾燥処理に適した表面状態を形成している。 （もっと読む）

【課題】基板を略水平に保持した状態で所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法において、基板表面へのミストの付着を確実に防止しながら基板を乾燥させる。
【解決手段】リンス後の液膜Ｌが形成された基板Ｗに対して（図ａ）、該基板を回転させながらガス噴射ヘッド２００の下部から窒素ガスを噴射させる（図ｂ）。次いでガス噴射ヘッド２００の外周部に設けた噴射口から斜め下向きに環状に窒素ガスを噴射させながら、ガス噴射ヘッド２００を上昇させてゆく（図ｃ）。基板上の液膜Ｌと乾燥領域ＤＲとの境界に窒素ガスを吹き付けながら乾燥させてゆくことにより（図ｄ〜ｅ）、基板へのミストの付着や基板表面が酸化されるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】現像液の消費量を抑制することができる現像装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを現像する現像装置において、基板Ｗを回転可能に保持するスピンチャックと、現像液を吐出する複数の吐出口ａ０、ａ１、ａ２（以下、単に吐出口ａという）が一列に並んで形成されて、各吐出口ａから吐出された現像液を互いに分離したままで基板Ｗに着液させる現像液ノズル１１と、吐出口ａの並び方向ｄ１を平面視で基板Ｗの中心に向かう一方向に保ちつつ、この一方向に前記現像液ノズル１１を移動することによって、前記現像液ノズル１１を平面視で基板Ｗの略中心と周縁とにわたって移動する水平移動機構２１と、スピンチャックと水平移動機構２１とを制御して、吐出口ａから基板Ｗ上に現像液をそれぞれ螺旋状に着液させて基板Ｗを現像する制御部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。
【解決手段】基板の表面にレジストを塗布してする塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、を備えるように塗布、現像装置を構成する。前記薬液としては例えばアルコールや酸を含んだアルコールが用いられる。 （もっと読む）

【課題】液処理装置の液処理ステージからの処理液の持ち出しを最小限のものとし、かつ基板への処理むらの発生を防止する。
【解決手段】現像ステージＳｔ１の内部に長さ寸法が基板１の幅方向の全長より長い寸法を有する排液ノズル１１が設置されており、その噴射通路１３は搬送される基板１に対して４５度以下となり、噴射口１３ａは基板１に対して平行な整流化面１５に開口しており、整流化面１５と基板１の表面１ａとの間には、均一な隙間Ｇを有するスリット状の通路が形成され、噴射口１３ａより前方側の部位には噴射通路１３の傾斜角より小さい角度の空気呼び込み壁１６が形成されており、噴射通路１３から噴射された加圧空気が噴射口１３ａから噴射する際に、コアンダ効果により整流化面１５への密着性が高くなり、スリット状の通路内でほぼ確実に基板１の表面と平行な流れにとなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、現像工程において塗布膜の白濁がなく高解像度なパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜の形成方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の目的は、アルカリ現像液の供給部を前記塗布膜の中心部に配置し、塗布膜を回転させると共に供給部を中心部から塗布膜の外周部側へと移動させながらアルカリ現像液の供給を行い、アルカリ現像液が塗布膜に拡がった段階で塗布膜の回転を停止し、静置する工程を実施する現像工程、および前記現像工程では、塗布膜を静置する時間の合計をＴｓ１〔秒間〕とし、洗浄工程の直前の塗布膜の静置時間をＴｓ２〔秒間〕としたとき、Ｔｓ２／Ｔｓ１が０．５以上とすることにより達成することができる。 （もっと読む）