【課題】中間層の成膜工程を改善することで、所望の超電導特性（例えば臨界電流特性）を実現できるとともに、中間層の薄膜化により超電導線材の生産性を向上できる技術を提供する。
【解決手段】金属基板上１０にイオンビームアシスト蒸着法により配向層２１を形成し、この配向層の上に緩衝層２２を形成する超電導線材用テープ基材２の製造方法において、配向層に所定の熱履歴を与えることにより配向層の格子歪みを緩和する。具体的には、配向層を２００℃以上１０００℃以下、好ましくは４００℃以上６００℃以下で加熱することにより、配向層に所定の熱履歴を与える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化物超電導導体の複合化をスロットを用いて効率的、かつ、簡便に行うことができ、個々の酸化物超電導導体について外部から作用すると思われる負荷を軽減して酸化物超電導導体の損傷の問題を回避することができる酸化物超電導ケーブルの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、テープ状の基材上に中間層を介し酸化物超電導層が形成され、この酸化物超電導層上に安定化層が形成されてなる酸化物超電導導体と、管体からなりその外周面に溝部が複数、その長さ方向に沿って形成されてなるスロットとが備えられ、前記酸化物超電導導体が、その基材側を前記溝部の底部側に向けた状態で前記溝部に収容されるとともに、前記スロットの周方向に複数本、前記スロットの長さ方向に配置されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】交流損失が小さい超電導ケーブル、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】超電導ケーブル1は、磁性材料からなる磁性基板上に超電導相が形成された薄膜線材120を螺旋状に巻回してなる多層構造の超電導線材層(超電導導体層12,超電導シールド層14)を具える。各超電導線材層は、薄膜線材120を巻き付け半径R_(n)(m)、巻き付けピッチP_(n)(m)で巻回することで形成されている。n層目の超電導線材層に実効値I_(n)(Arms)の交流電流が流されたときに、この層の外側に形成される外側磁場をB_(n)out(T)、内側に形成される内側磁場をB_(n)in(T)とし、B_(n)out＞B_(n)inを満たすとき、薄膜線材120の超電導相が外周側を向いて巻回され、B_(n)out＜B_(n)inを満たすとき、薄膜線材120の超電導相が内周側を向いて巻回されていることで、交流損失が小さい。 （もっと読む）

【課題】長尺のテープ状基材に対して安定した組成のＹ系超電導層を形成できるとともに、装置の小型化と生産性の向上を図ることができる超電導線材の製造方法及びＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】基材導入領域においてテープ状基材を移動させながら加熱する第１工程と、成膜領域においてテープ状基材を移動させながら成膜温度に加熱するとともに、このテープ状基材表面にＹ系超電導層を成膜する第２工程と、を有する超電導線材の製造方法において、第１工程では、テープ状基材の表面温度が成膜温度よりも３０℃を超えて高くならないように温度制御を行う。第２工程では、成膜されるＹ系超電導層内に含まれるＢａとＹの原子比をＸ_Ｂａ／Ｘ_Ｙ、ＣｕとＹの原子比をＸ_Ｃｕ／Ｘ_Ｙ、ＣｕとＢａの原子比をＸ_Ｃｕ／Ｘ_Ｂａとしたときに、Ｘ_Ｂａ／Ｘ_Ｙ＞１．０、Ｘ_Ｃｕ／Ｘ_Ｙ＜３．０、Ｘ_Ｃｕ／Ｘ_Ｂａ＞１．２となるように原料ガスを導入する。 （もっと読む）

ＥＬＲ材料からなる極めて低い抵抗（「ＥＬＲ」）フィルムの動作特性は、ＥＬＲフィルムの適切な表面上に変性材料を堆積して、変性ＥＬＲフィルムを生成することによって改善することができる。本発明のいくつかの実施態様では、ＥＬＲフィルムは、「ｃ−フィルム」の形をとることができる。そのような動作特性は、高温でのＥＬＲ状態での動作、追加の電荷の保持、改善された磁気的性質による動作、改善された機械的性質による動作、またはその他の改善された動作特性を含むことができる。本発明のいくつかの実施態様では、ＥＬＲ材料は、ＹＢＣＯなどであるがこれに限定されない混合原子価酸化銅ペロブスカイトである。本発明のいくつかの実施態様では、変性材料は、クロムなどであるがこれに限定することのない、酸素に容易に結合する伝導性材料である。
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【課題】低コストで結晶の緻密度や配向性の高い酸化物超電導体の薄膜を形成することが可能な酸化物超電導線材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る酸化物超電導線材の製造方法は、酸化物超電導体からなる粉末を準備する工程（Ｓ１０）と、粉末をエアロゾル化する工程（Ｓ３０）と、エアロゾル化する工程により形成されたエアロゾルを、基板の主表面上に噴射する工程（Ｓ４０）とを備える。上記粉末は酸化物超電導体を形成するための前駆体からなる粉末であってもよい。噴射する工程の後に、噴射する工程により形成される薄膜を酸化物超電導体の緻密膜に変換する工程（Ｓ５０）をさらに備えており、変換する工程における薄膜の内部の温度が、薄膜の基板から離れた領域から基板に近づくにつれて高くなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定したプルームを長時間均一に発生させ、長尺の基材に対し均一な膜質の酸化物超電導層を生成することを可能とする方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、レーザー光をターゲットに集光照射し、プルームを生成させ、該プルームからの粒子をテープ状の長尺基材上に堆積させて酸化物超電導層を形成する方法であって、減圧チャンバー内部の転向部材間に長尺基材が複数の隣接するレーンを構成するように巻き掛け、長尺基材のレーンに近接させてターゲットを配置し、ターゲットに対してレーザー光を集光照射する集光手段を設けたレーザー蒸着装置を用い、集光手段の焦点距離を１．０〜２．０ｍの範囲に、レーザー光のエネルギー密度を１．０〜４．０Ｊ／ｃｍ^２の範囲に設定し、ターゲットに対し斜め方向からレーザー光を集光照射しターゲット上で走査し、レーザー光の照射位置毎にプルームを発生させて成膜する方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、結晶配向性に優れ、超電導特性に優れた酸化物超電導層を形成するための基となるＩＢＡＤ−ＭｇＯなどの中間層の下地として望ましい層を備え、ＩＢＡＤ−ＭｇＯなどの中間層の結晶配向度を更に高めることができる構造を備えた酸化物超電導導体用基材の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材２１上に、ＸＯ_２−Ｙ_２Ｏ_３混合酸化物（但し、Ｘは、ＴｉまたはＨｆを示す。）のベッド層２２とイオンビームアシスト法により成膜された中間層２３とが備えられ、酸化物超電導層が積層されて酸化物超電導導体の基材として利用されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】超電導線材の製造に用いる酸化物超電導薄膜の製造方法として、厚膜の酸化物超電導薄膜であっても、酸素導入過程においてクラックを発生せず、その結果、高いＩｃ値を有する酸化物超電導薄膜の製造方法とを提供し、また高Ｉｃ値を有する超電導線材を提供する。
【解決手段】超電導線材の製造に用いる酸化物超電導薄膜の製造方法であって、酸化物超電導薄膜を形成した後の酸素導入過程において、酸素濃度を上昇させながら熱処理を行う酸化物超電導薄膜の製造方法。熱処理は、酸素濃度１ｐｐｍ以上の雰囲気下で、酸素濃度をＰとした場合の常用対数ｌｏｇＰが、毎分０．５以下で上昇するように酸素濃度を制御しながら行われる。酸化物超電導薄膜の形成は塗布熱分解法により行う。 （もっと読む）

【課題】高温超伝導体（ＨＴＳ）、特に被覆導体として知られる高温超伝導体、及び該被覆導体の形状の自由度を改善することを可能にする被覆導体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】第１の予め製造されたテープ形状の被覆導体１の最上層上に第２の基板２層を備え、第１の予め製造された被覆導体のＨＴＳ層を、中立軸位置の領域とするステップと、第２の基板層で覆われた第１の予め製造された被覆導体をその長手方向軸の周りに曲げて、内側の基板層と外側の基板層との間に挟まれたＨＴＳ層を備えた、本質的に丸い断面を備えた被覆導体を得るステップと、を含む方法 （もっと読む）

【課題】磁場中において高い超電導特性を有する超電導線材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属基板１１上に中間層１２を介してイットリウム系超電導層１３が形成されてなる超電導線材１において、イットリウム系超電導層をランタノイド系元素を含む構成とする。このとき、該超電導層中のイットリウムの組成をＹ、ランタノイド系元素の組成をＬとしたとき、組成比Ｌ／（Ｌ＋Ｙ）が０．０１〜０．４０となるようにする。 （もっと読む）

帯状基板（２）と少なくとも１つの超電導層（３）とを有するマルチフィラメント導体（１）であって、少なくとも１つの超電導層（３）が帯状基板（２）の少なくとも一方の表面に形成されて複数のフィラメント（２０，２０’）に分割されており、帯状基板（２）がそれの長手方向の延びに平行に第１方向（２１）を有し、少なくとも１つのフィラメント（２０，２０’）がそれの長手方向の延びに平行に第２方向（２２）を有するマルチフィラメント導体（１）において、帯状基板（２）の第１方向（２１）と少なくとも１つのフィラメント（２０，２０’）の第２方向（２２）とが零よりも大きい角度をなしていることを特徴とするマルチフィラメント導体（１）。 （もっと読む）

【課題】良好な配向性を維持したまま高い強度を有する膜形成用配向基板および超電導線材を提供する。
【解決手段】膜形成用配向基板５Ａは、無配向で非磁性の第１の金属層１と、その第１の金属層１に貼り合わされ、かつ少なくとも表層が配向した集合組織を有する第２の金属層２とを備えている。第１の金属層１は第２の金属層２より高い強度を有している。 （もっと読む）

【課題】 超電導テープ線の保護層の劣化を起こすことなく、冷却や電磁力による超電導テープ線の各層に生じる負荷応力の防止する超電導テープ線の提供を目的とする。
【解決手段】 可撓性を有する基板上２に、酸化物超電導層４が中間層３を介して形成され、酸化物超電導層４上に保護層５が形成されることによりなる積層物を形成し、酸化物超電導層４への過剰電流の迂回経路となる安定化層６を、積層物の表面の少なくとも保護層５の面上に形成し、金属テープ７を保護層５の面上に形成される安定化層６の面上に接着する。 （もっと読む）

【課題】高温超伝導体層および金属保護層のような、層構造の導電性層と金属基板との間の改良された電気的接続を備えた被覆導体を提供する。特に、電気的接続の位置を自由に選択することができるような電気的接続を提供する。
【解決手段】金属基板１と、少なくとも一つのバッファ層、最上部のバッファ層２上に堆積された高温超伝導体層、及びオプションとして該高温超伝導体層上に堆積された金属保護層からなる層構造と、を含む被覆導体であって、該層構造内に、該層構造の高温超伝導体層を該金属基板に電気的に接続する少なくとも一つの導電性経路が備わる被覆導体。 （もっと読む）

【課題】
格子定数を変化させたCeO₂層の作用でCeO₂面側に高い臨界電流を有する超電導膜を得ることができるCeO₂層を有するA l₂O₃-CeO₂二層薄膜構造体、当該Al₂O₃-CeO₂二層薄膜構造体を用いて、格子定数を変化させたCeO₂層を活用してCeO₂面側に高い臨界電流を有する超電導膜を形成したAl₂O₃-CeO₂-超電導物質三層薄膜構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
厚さ0.4ｍｍ〜1.0ｍｍのAl₂O₃単結晶層上に、厚さ20ｎｍ〜300ｎｍのCeO₂層を設けた薄膜構造体に、エネルギー密度１mJ/cm²〜250ｍＪ/cm²のレーザ光を1000〜1000000パルス照射し、CeO₂層の格子定数を変化させたCeO₂を有するAl₂O₃-CeO₂二層薄膜構造体のCeO₂層側に厚さ100nｍ〜800nｍの超電導薄膜を設けたAl₂O₃-CeO₂-超電導物質三層薄膜構造体及びその製造方法。 （もっと読む）

基板と、この基板の上に重なるバッファ層と、このバッファ層の上に重なる高温超伝導（HTS）層からなる超伝導部材である。HTS層は複数のナノロッドを含む。基板テープを提供する段階と、この基板テープの上に重なるバッファ層を蒸着する段階と、前記バッファ層の上に重なるドットアレイを形成する段階と、前記ナノドットアレイの上にそれを核とするナノロッドのアレイを蒸着する段階と、前記ナノロッドのアレイの周りに、バッファ層の上に重なる高温超伝導（HTS）層を蒸着する段階からなる超伝導部材を形成する方法である。
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【課題】ニッケルめっき層表面の配向性および平坦性を向上しうる基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、めっき法を用いて銅層上にニッケル層が形成された基材を準備する工程と、前記ニッケル層を８００〜１０００℃で熱処理する工程と、前記ニッケル層を熱処理する工程の後に前記ニッケル層上に被覆層をエピタキシャル成長させる工程とを備えた、基板の製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】超電導線材の交流損失を低減することができる基板、基板の製造方法、超電導線材および超電導線材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板は、銅層と、銅層上に形成され、かつ銅およびニッケルを含む合金層と、合金層上に形成されたニッケル層と、ニッケル層上に形成された中間層とを備えている。合金層とニッケル層との界面における合金層のニッケルの濃度よりも、合金層と銅層との界面における合金層のニッケルの濃度が小さい。 （もっと読む）

【課題】安定化層線材と酸化物超電導層線材の種類によらず、これらを確実に接合して高品質の超電導線材を製造することが可能であり、かつ生産性および作業性の低下も生じない製造装置および方法の提供。
【解決手段】安定化層線材１と酸化物超電導層線材２とをハンダを介して接合することによってテープ状の超電導線材７を製造する装置であって、安定化層線材１および酸化物超電導層線材２をハンダ層を介して重ね合わせた被複合化材６をハンダの溶融温度以上に加熱する予熱手段３と、予熱手段３を経た被複合化材６を加圧して安定化層線材１と酸化物超電導層線材２とを接合させて超電導線材７を得る加圧手段４とを備えた製造装置。加圧手段４は、被複合化材６の移動方向に対し、その位置を調整可能とされている。 （もっと読む）