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Fターム[5G321CA04]の内容

超電導導体及びその製造方法 (9,304) | 超電導導体の構造 (3,937) | 超電導体の内部構造 (841) | 結晶配向型(例;C軸配向) (343)

Fターム[5G321CA04]に分類される特許

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【課題】帯状の基材の幅方向において膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することができ、構成粒子の収率及び生産性の向上を図ることが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜方法は、レーザ光Lをターゲット6の表面に照射して、このターゲット6の構成粒子6Aを叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子6Aを帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する成膜方法であって、前記レーザ光Lが前記ターゲット6の表面に照射する位置を、前記基材の幅方向と同じ方向に振幅させ、前記基材を、転向部材に該基材の裏面が接しつつ長手方向に移動する状態として、前記構成粒子6Aの堆積領域内を通過させることにより、前記基材の表面上に前記構成粒子6Aを堆積させ、前記基材の表面上に薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】酸化物超電導線材において、臨界電流値をさらに向上させる必要があるが、超電導相の前駆体の結晶粒が小さいため、超電導線材の多芯線の圧延を行なった際に結晶粒の配向性が乱れることがある。この結晶粒の配向性の乱れは、臨界電流および臨界電流密度の向上を妨げる要因となりうるため、超電導相の前駆体の結晶粒を大きくする必要がある。
【解決手段】扁平加工を行ない、超電導相の前駆体の結晶粒の反応性を良好にする。その上で、本格的な圧延を行なう前に中間熱処理を行ない、反応性が良好となった超電導相の前駆体の結晶粒同士が反応により結合して大きな粒径をもつ結晶粒とする。 (もっと読む)


【課題】高強度で且つ長手方向に安定した高度な2軸配向を有する酸化物超電導線材用金属積層基板を安価に提供する。
【解決手段】厚みが0.2mm以下の非磁性の金属板T1と、圧下率90%以上で冷間圧延された厚み50μm以下のCu合金からなる金属箔T2とを常温表面活性化接合にて積層し、積層後、150℃以上1000℃以下の熱処理により前記金属箔を結晶配向させた後、前記金属箔上に厚みで10μm以下のNiまたはNi合金のエピタキシャル成長膜T3を積層させて酸化物超電導線材用金属積層基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、良好な結晶配向性を維持しつつも中間層を薄膜化し、製造も容易とすることができる薄膜積層体の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材11上に、イオンビームアシスト法(IBAD法)により形成された面内方向の結晶軸分散の半値幅(Δφ)において11〜13°の範囲に結晶配向可能な材料からなる中間層12と、該中間層上に成膜法により直に形成された蛍石系結晶構造およびそれに準じる結晶構造とされて100nm以上の膜厚で前記中間層の結晶配向性よりも優れたΔφ=8゜以下、300nm以上の膜厚でΔφ=5゜以下となる結晶配向性とされたキャップ層13とが積層されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、良好な結晶配向性を維持しつつも中間層を薄膜化することで、膜の内部応力に起因する基板の反り返りを防止し、生産性にも優れた多結晶薄膜と酸化物超電導導体を提供することを第一の目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材11上に、拡散防止層9とベッド層12を介して、第一層13と第二層14を積層してなる中間層15を有し、前記第一層13と前記第二層14の結晶構造はそれぞれ、岩塩構造と蛍石構造であり、前記第一層13は<111>配向し、前記第二層14は<100>配向していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】2世代高温超伝導線材の2本の超伝導体層を直接当接させて溶融拡散することによって、1本に連結する2世代高温超伝導線材の溶融拡散接合方法を提供する。
【解決手段】基板部、緩衝層、超伝導体層及び安定化材層を含む2世代高温超伝導線材の接合方法に関するもので、2世代高温超伝導線材の2本に含まれた安定化材層の一部を除去し、安定化材層が除去されて露出された2世代高温超伝導線材の2本の超伝導体層を当接させるように固定した後、超伝導体層の溶融点まで加熱することによって、当接させた超伝導体層を溶融拡散して2世代高温超伝導線材の2本を接合する。その後、接合部分を酸素雰囲気で酸化させ、2世代高温超伝導線材の超伝導特性を回復する。このような構成により、中間媒介体なしに直接超伝導体層を当接させて溶融拡散することによって、常伝導接合に比べて接合抵抗がほぼなく、充分に長い線材を製作することができ、特に、酸素分圧を真空に近い状態にして共融点を低下させることによって、銀(Ag)を含有した安定化材層などが溶融されない状態で接合することができる。 (もっと読む)


ワイヤの機械的な完全性を維持する一方で、2本の積層ワイヤを共に接合する2面ジョイントが開示されている。2面ジョイントは、テーパ端部を有した2本の積層HTSワイヤを接合することができ、底部ストラップおよび頂部ストラップを備えている。一態様では、積層した繋いだ超伝導体ワイヤは、超伝導体ジョイントを備えており、それは、第1および第2超伝導体ワイヤを備えている。各ワイヤは、ラミネート層と、該ラミネート層上の基板層と、該基板層上の緩衝層と、該緩衝層上の超伝導体層と、該超伝導体層上の空隙層と、該空隙層上のラミネート層とを備えている。各ワイヤは、第1積層ワイヤの第2ラミネート層と第2積層ワイヤの第2ラミネート層とに電気的に接続する第1HTSストラップと、第1ラミネート層に近接したバッキング・ストラップを備えている。
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希土類金属Ba2Cu3O7膜を生成する組成物及び方法が記載される。組成物は、バリウム(Ba)金属有機化合物、1又はそれより多い希土類金属有機化合物を含み、組成物は、ハロゲンも含む。例えば、組成物は、ハロゲン化された有機溶媒を含む。組成物はまたほぼ230℃よりも大きい沸点を有する溶媒を含む。前駆体溶液は、また、水を生成するために、ハロゲン化された溶媒と反応しない低粘度溶媒を含む。高粘度化合物は、より厚い膜の形成を可能とするために含まれることもある。得られた前駆体溶液は、基板上に堆積され、50℃/分よりも大きい加熱速度で熱分解され、滑らかな、剪断膜を生成するために結晶化される。100nmよりも大きい厚さの膜は、4×10A/cmの輸送Jc値を用いて、77°Kでさまざまな基板上で生成される。 (もっと読む)


【課題】
精密な温度制御による溶融凝固過程や高配向性基体上の薄膜成長過程を経ることなしに、高い2軸もしくは3軸配向性を高い再現性で実現する超伝導体の提供。
【解決手段】
発明1の酸化物超伝導焼結体は、三軸を有する超伝導酸化物粉末が焼結されてなる酸化物超伝導焼結体であって、前記超伝導酸化物粉末の三軸が、それぞれ同一方向に配向されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】超電導線材を超電導体で接続した超電導線材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】c軸面を主面とした第1超電導層を有する第1超電導線と、前記第1超電導体と並置され、c軸面を主面とした第2超電導層を有する第2超電導線と、前記第1超電導層の前記主面と、前記第2超電導層の前記主面と、にそれぞれ接続され、前記第1超電導層と前記2超電導層とを電気的に接続する超電導体からなる超電導接続体と、を備えたことを特徴とする超電導線材を提供する。 (もっと読む)


超伝導性物品であって、基板、基板の上に横たわるバッファ層、及びバッファの上に横たわる高温超伝導性(HTS)材料よりなるフィラメントを持つものが与えられる。フィラメントは基板の長さに沿って伸び、かつ、隣接するフィラメントから水平方向にある空間だけ空けて配置されている。多層フィラメント超伝導性テープは、少なくとも約0.4である臨界電流保持比を持つ。
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【課題】テクスチャ化された基板を使用して被覆された導体を製造する方法であって、すでにテクスチャ化された基板を成形することができ、それにもかかわらず、高温超伝導材料のよくアライメントされた活性層をエピタキシャル成長させることができる方法を提供する。
【解決手段】曲がった面を備えた、形状を変化させた基板を作成する方法であって、一つまたは複数のバッファ層を備え、平面を備えたテクスチャ化された基板を供給するステップと、最初のバッファ層で被覆された該基板の形状を変化させるステップと、エピタキシャル成長によって、最初のバッファ上に、テクスチャ化された第2のバッファ層を供給するステップとを含む、形状を変化させた基板を作成する方法。 (もっと読む)


【課題】同一種類の構成元素からなり異なる金属モル濃度の酸化物超電導層を積層して超電導特性を向上させる。
【解決手段】酸化物超電導線材10は、Ni―W合金基板11上に、中間層12及び超電導層14を順次積層した構造からなり、中間層12は、Ce―Zr―O酸化物からなる第1中間層12a及びCeO酸化物からなる第2中間層12bを順次積層した2層構造を有し、超電導層14は、YBaαCuからなる第1の超電導層13a、YBaβCuからなる第2の超電導層13b及びYBaγCuからなる第3の超電導層13cからなる3層構造を有しており、α<β<γ≦2で第2中間層12b上から順次Baのモル比が2以下の範囲で増加するように配合されている。各超電導層は、TFA―MOD法により同一組成からなる複数の仮焼膜の積層体を一括して本焼することにより形成される。 (もっと読む)


【課題】超電導層中に磁束ピンニング点を微細分散させることにより、磁場印加角度依存性に優れたY系酸化物超電導線材を得る。
【解決手段】2軸配向性を有する高配向性金属基板11上に、MOD法によるCe―Zr―O酸化物からなる拡散防止層12a及びRFスパッタ法によるCeO酸化物からなる反応防止層12bを順次積層した2層構造の中間層12並びにTFA―MOD法によるYBaCuからなる第1の超電導層13a及びTFA―MOD法によるY(Ce、Zr)BaCuからなる第2の超電導層13bを順次積層した2層構造の超電導層13を形成し、第2の超電導層13b中に微細に分散したBaCeO、BaZrO不純物粒子とこの粒子近傍の無配向領域が磁束ピンニング点を形成することにより、Y系酸化物超電導線材10の磁場印加角度依存性を著しく向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】無配向である基材上にベッド層を用いることなく、単結晶に近い良好な配向性を有する多結晶薄膜を直接形成することが可能な多結晶薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】被成膜面βが無配向である基材α上に設けられた六方晶系の面内配向を有する多結晶薄膜の製造方法であって、被成膜面β上に多結晶薄膜を成膜する際にイオンビームアシスト法を用い、成膜の温度を100度から1200度の範囲とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板の表面特性を改善して、優れた臨界電流特性を示す超電導線材を具現化するための超電導線材用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面が金属からなる基板に対して、板厚減少率80%以上の圧延を行う第1の圧延工程と、前記第1の圧延工程を経た前記基板を、還元性雰囲気中で熱処理を行う第1の熱処理工程と、前記第1の熱処理工程を経た前記基板に対して、板厚減少率10〜50%の圧延を行う第2の圧延工程と、前記第2の圧延工程を経た前記基板に対して、前記第1の熱処理工程の温度よりも高い温度で熱処理を行う第2の熱処理工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】ピンニングセンターが効果的に導入されることにより、超電導特性の向上する酸化物超電導体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板12と、この基板12上に形成され、結晶粒の<001>方向が前記基板に略垂直に配向し、隣接する結晶粒同士の(100)面が互いに0度以上4度以下または86度以上90度以下の傾角をなすよう配向する高い結晶性の酸化物超電導膜14を備え、酸化物超電導膜14が基板に略平行に積層される複数の高密度磁場捕捉層14a、cと、高密度磁場捕捉層14a、c間に挟まれる低密度磁場捕捉層14bとで形成される積層構造を有し、高密度磁場捕捉層14a、cの基板12に水平な断面における平均粒界幅が80nm以下であり、かつ、この平均粒界幅が低密度磁場捕捉層14bの基板12に水平な断面における平均粒界幅よりも小さいことを特徴とする酸化物超電導体10およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】REBaCu系(RE123系)超電導体の前駆体膜の形成に要する加熱処理時間を大幅に短縮することができるとともに、出発原料の金属有機酸塩がフッ素を含むと否とにかかわらず、厚みが2μmを超える厚膜で、かつ、高い臨界電流を有するRE123系超電導テープ線材が得られること。
【解決手段】テープ状基板上に、REBaCu系超電導体を構成する各金属元素を所定の組成比で含む金属有機酸塩を混合してなる原料溶液を塗布し、原料塗布テープ状基板を作製する第1工程と、グロー放電プラズマ中を前記原料塗布テープ状基板を通過させることにより、前記超電導体の前駆体膜が形成された前駆体膜形成テープ状基板を得る第2工程と、前記前駆体膜形成テープ状基板に前記超電導体を生成させる熱処理を施す第3工程とを備えたRE−Ba−Cu−O系超電導テープ線材の製造方法である。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つの基板と、酸化物材料から作られた少なくとも1つの配向したバッファ層とを含む、高温超電導体層配置に関する。本発明によれば、前記バッファ層は、均質な混晶相を形成する追加成分を少なくとも1種含有し、前記追加成分は、第一サブグループから選択される遷移金属であり、及び/又は、1,600℃以下のアニール温度にて、酸化物バッファ材料と、少なくとも部分的に溶融する。前記追加成分は、特に、銅及び/又は銀とすることができる。 (もっと読む)


【課題】成膜速度が速いため、製造時間が短くなり、製造コストを低減することができる酸化物超電導線材用の2軸配向薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材10上に積層される中間層20(薄膜)であって、該中間層20上に希土類系酸化物超電導層30が積層される酸化物超電導線材用の2軸配向薄膜を、2軸配向性を有するシーライト構造の酸化物から形成する。この基材10上に積層される2軸配向性を有する薄膜はイオンビームアシスト蒸着法により積層される。中間層20は、シーライト構造を有するYNbO,GdNbOの1種から形成される。 (もっと読む)


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