【課題】耐光性、耐熱性、および透明性の優れたカラーフィルタ用の感光性着色組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式＜化１＞で表される色素単量体を重合して得られる着色重合物と、この着色重合物を基板に固定すると共に、露光又は露光とこれに続く後処理によりその現像液溶解性能が変化する感光性材料とを主成分とする。
【化１】
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【課題】 感度、耐薬性、耐刷性の良好な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（ａ）、及び、光熱変換物質（ｂ）を含有し、キノンジアジド化合物を含有しないポジ型感光性組成物に於て、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（ａ）としてフェノール性水酸基の少なくとも一部がエステル化されたアルカリ可溶性樹脂（ａ−１）を含有するポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ＩＲ−照射の間に融蝕による損傷を受けないヒートモード画像形成要素を提供する。
【解決手段】 ａ）親水性表面を有する平版印刷ベースならびに最上層を含み、その最上層がＩＲ−線に対して感受性であり、アルカリ性水溶液中に可溶性のポリマーを含み、そしてケイ酸塩としてＳｉＯ₂を含有するアルカリ性現像液に関して非浸透性であるヒートモード画像形成要素を製造し；
ｂ）該ヒートモード画像形成要素をＩＲ−線に画像通りに露出し；
ｃ）該画像通りに露出されたヒートモード画像形成要素を該アルカリ性現像液を用いて現像し、該最上層がインドアニリン色素、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素、ポルフィン誘導体、アントラキノン色素、メロスチリル色素、ピリリウム化合物、ジフェニル及びトリフェニルアゾ化合物及びスクアリリウム誘導体から成る群より選ばれるＩＲ−色素を含むことを特徴とする平版印刷版の作製のための方法。 （もっと読む）

【課題】 画線部と非画線部のコントラストに優れ、耐刷力に優れた感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 少なくとも（ａ）アルカリ可溶性樹脂と（ｂ）光熱変換物質とを含むポジ型感光性組成物に於て、更に、（ｃ）熱の作用により該アルカリ可溶性樹脂を架橋しうる化合物を含み、かつ該光熱変換物質の共存下で露光された時に酸を発生する機能を有する化合物を実質的に含まないことを特徴とするポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 露光部と未露光部のコントラストに優れ、画線部の残膜率が十分な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性有機高分子物質及び酸発色性色素を含有していることを特徴とするポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 紫外光のみならず可視光〜赤外光を用いても容易に記録を行うことができる光重合性組成物の提供。
【解決手段】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と、下記一般式（１）で表される有機カチオン性色素化合物の有機硼素化合物アニオン塩とを少なくとも含有し、有機カチオン性色素化合物がテトラメチン化合物の少なくとも１種である光重合性組成物である。有機カチオン性色素化合物は、下記一般式（２）で表されるテトラメチン化合物である態様が好ましい。


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【課題】 アルカリ水溶液可溶性高分子化合物の画像形成性の低さを改善し、且つ、現像液の濃度に対する感度の安定性、即ち現像ラチチュードの良好なダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）以下の官能基（ａ−１）フェノール性水酸基、（ａ−２）スルホンアミド基、（ａ−３）活性イミド基のすくなくとも１種を分子内に有するアルカリ水可溶性高分子化合物の１種以上と、（Ｂ）該アルカリ水可溶性高分子化合物のＩ／Ｏ値をＸとしたとき、下記式（１）の関係を満たすＩ／Ｏ値（Ｙ）を有し、該高分子化合物と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物と、（Ｃ）光を吸収して発熱する化合物とを含有し、且つ、熱分解温度が１５０℃以下の化合物を含有しない。ここで、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分に換えて、双方の特性を有するシアニン染料の如き一つの化合物を含有していてもよい。
【数１】
０．０５≦｜Ｘ−Ｙ｜≦０．５ 式（１） （もっと読む）

【課題】 製造が容易で、粘度安定性に優れ、良好な像形成が可能なポジ型感光性樹脂組成物を用いて、下層配線層の段差をほぼ完全に平坦化でき、配線の信頼性の高い多層配線構造を有する基板の製造法及び層間絶縁膜において下層配線層の段差がほぼ完全に平坦にされ、配線の信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】 パターンの形成された配線層を有する基板上に、（ａ）有機溶媒可溶性ポリイミドと塩基性化合物とにより形成される錯体、（ｂ）光酸発生剤及び（ｃ）溶媒を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を用いて層間絶縁膜を形成し、その上に上層配線層を形成する工程を含むことを特徴とする多層配線構造を有する基板の製造法並びに（ａ）有機溶媒可溶性ポリイミドと塩基性化合物とにより形成される錯体、（ｂ）光酸発生剤及び（ｃ）溶媒を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成された層間絶縁膜を有してなる半導体装置。 （もっと読む）