【課題】 エッジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを、混色なく、作業性良く形成できる感光性エレメント並びに蛍光体パターンの製造法を提供する。
【解決手段】 支持体フィルム上に、（Ａ）感光性の熱可塑性樹脂層を有し、その上に（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメント並びに（Ｉ）前記感光性エレメントを、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する工程、（II）活性光線を像的に照射する工程、（III）現像により不要部を除去する工程、（IV）焼成により不要分を除去する工程の各工程を含む蛍光体パターンの製造法。 （もっと読む）

【課題】高精度、高密度の加工が必要な半導体素子製造用の露光装置において、第２波長帯光（画像検出光）として波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの光を用いることが可能な従来より高精度な画像検出が可能な露光装置用物品を得る。
【解決手段】基材上に、２位の水素原子が炭素原子で置換された２Ｈ−クロメン誘導体を含有する感光層を有する露光装置用物品を用いることにより高精度、高密度の加工が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成し、安価で、環境に安全な反射防止膜材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基盤上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜において、水に可溶なフッ素系樹脂を主成分とすることを特徴とする反射防止膜材料。 （もっと読む）

【目的】 微細で寸法精度及び合わせ精度が高く簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成し得、安価で環境に安全な反射防止膜材料を得る。
【構成】 基盤上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤で除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜において、下記一般式（１）で示される水に可溶なフッ素系樹脂とフッ素含有有機酸のアミン塩とを主成分とする反射防止膜材料。




モノマーユニットの組成比はおよそｋ：ｍ：ｎ＝４：３：３である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少量の化学作用放射線で多くの酸を増殖させて、感光速度を著しく向上した光重合性組成物及びそれの重合方法を提供する。
【解決手段】カチオン付加重合可能な化合物と、化学作用放射線によりカチオン重合を活性化させるブレンステッド酸若しくはルイス酸を発生するカチオン重合用光開始剤および発生した酸により新たに酸を発生する物質を組み合わせることにより、感光速度が著しく向上した光重合性組成物であり、またラジカル重合を組み合わせたハイブリッドな光重合性組成物にすることでより感光速度の向上を可能とする。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、遠紫外光、ＫｒＦエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、これ等光源による露光や電子線、Ｘ線照射に対して高い感度を有し、耐熱性及び基板との密着性が極めて優れ、又、化学増幅作用が十分行なわれ、パターン寸法が経時変化せず、良好なパターン形状が得られる重合体を使用したポジ型のフォトレジスト材料を提供する事を目的とする。
【構成】 フェノール性水酸基を有する樹脂にイソプロペニルアルキルエーテル、2-アルコキシ−1-ブテン、イソプロペニルトリメチルシリルエーテル又はイソプロペニルベンジルエーテルを反応させて得たアルカリ難溶性樹脂と露光によりカルボン酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤を含んで成る事を特徴とするフォトレジスト材料。 （もっと読む）

【構成】 （ａ）少なくとも２個の架橋形成性官能基をもつトリアジン化合物、（ｂ）高吸光性物質、及び場合により（ｃ）アルカリ不溶性アクリル系樹脂を含有して成るリソグラフィー用下地材、並びに、基板上に、この下地材から成る層及びレジスト層を順次設けた多層レジスト材料である。好適には、（ａ）成分はヒドロキシル基及び／又はアルコキシル基をもつトリアジン化合物、特にメチロール基及び／又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン又はグアナミン、（ｂ）成分はベンゾフェノン系、ジフェニルスルホン系、ジフェニルスルホキシド系のもの、（ｃ）成分はグリシジル基をもつアクリル系樹脂である。
【効果】 基板からの反射光を十分に抑制でき、インターミキシング層の発生がなく、ノッチングが起らず、マスクパターンに対する寸法精度に優れるとともに、断面が矩形で高解像度及び高アスペクト比のレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。
【構成】 樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が樹脂中の少なくとも一部のヒドロキシル基の水素原子が次式（１）−ＣＯＣＯＯＲ¹または（２）−Ｃ（Ｒ²）（Ｒ³）ＣＯＣＯＯＲ¹（式（１）および（２）中、共通してＲ¹は炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基、１−アルコキシアルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可２−プロペニル基、置換可シクロアルケニル基、置換可シクロアルカジエニル基、置換可ビニル基、トリアルコキシメチル基であり、Ｒ²およびＲ³は同一または互いに異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、シアノ基である。）で表される少なくともひとつの基によって置換されているフェノール系樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【目的】 従来の放射線感受性組成物を更に改良し、特にスペクトルの紫外領域の感受性を高めた、平板印刷版に使用する放射線感受性組成物を提供する。
【構成】 紫外線および赤外線の両方に感受性を有し、ポジ型もしくはネガ型のいずれにも機能することができる平板印刷版を調製するのに適した（１）レゾール樹脂、（２）ノボラック樹脂、（３）ハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、および（４）赤外線吸収剤を含んでなる放射線感受性組成物。 （もっと読む）