【目的】 本発明はフェノール単位と環式アルコール単位とのポリマー結合剤を有する放射線感光性組成物を提供する。
【構成】 ポリマーのフェノール単位及び／又は環式アルコール単位の少なくとも一部は酸レイビル基に結合している。結合剤を酸レイビル基に並程度に置換するだけで、露光領域と非露光領域との間に高い溶解度の差が得られる。 （もっと読む）

【目的】耐黄変性に優れたフェノール系現像剤を提供することを目的とする。
【構成】画像を１種類以上の無色発色性材料と化学現像剤との反応により着色生成物の形態で被画像体の表面に選択的に形成する方法において、該現像剤がアルキル置換サリチル酸、アルキル置換フェノール、アルデヒドおよび金属源を反応させることにより得られるものである。
【効果】耐黄変性に優れた現像剤が得られる。 （もっと読む）

【構成】
【化１】


（式中Ｒは互いに独立したＣ₄〜Ｃ₁₂の直鎖または分枝鎖のアルキル基を表し、ａ、ｂおよびｃの夫々は０〜２の整数であるがａ＋ｂ＋ｃの値は１以上であるものとする）で示されるピラゾリン化合物からなる光線遮蔽剤に関する。
【効果】 感光性樹脂、感光性樹脂下地材、積層基板基材に使用するための特定波長域として３００ｎｍ〜４５０ｎｍの近紫外から可視短波長域に高い吸収能を有する。 （もっと読む）

【目的】微細なパターニングにとって障害となる光の多重干渉を著しく低減し、製造の歩留まりの向上、および、より微細なパターンの形成に有効な方法を提供する。
【構成】フォトリソグラフィによってパターンを形成するにあたり、フォトレジスト表面に反射防止膜を形成して露光を行う方法であり、反射防止膜材料として非晶質含フッ素重合体を採用する。 （もっと読む）

【構成】基板と感放射線性レジストとの間に、共役系重合体を主成分とする薄膜が介在することを特徴とする二層構造感放射線性レジストおよびその製造方法。
【効果】本発明によると、放射線の基板反射に起因して、感放射線性レジストの膜の厚み変動により、所望のレジストパターンから形状が変移することを抑止することができ、高い製造歩留まりを与えると共に、製造プロセスでのプロセス条件の許容幅を拡大することができる。 （もっと読む）

【構成】下記式（１）で表されるヒドロキシメチル化合物を下記式（２）を構成単位に含むポリマ−と縮合させることにより得られる縮合樹脂及びこれを含有する感放射線性樹脂組成物。
【化１】


（式（１）中Ｒ₁ は炭素数１から４のアルキル基を、又式（２）中Ｒ₂ は水素又はメチル基をそれぞれ示す）
【効果】本発明の縮合樹脂及びこれを含有する感放射線性樹脂組成物は、遠紫外部に高透過率を有し、遠紫外線リソグラフィを利用する半導体集積回路の製造に極めて有用である。 （もっと読む）