【構成】 iso-プロペニルオキシカルボニル基と、該iso-プロペニルオキシカルボニル基と反応しうる官能基とを有する化合物と、光照射または電離放射線照射により酸を発生する化合物とからなるパターン形成材料を被処理基板上に塗布した後に乾燥し、次いで、iso-プロペニルオキシカルボニル基と、該iso-プロペニルオキシカルボニル基と反応しうる官能基とが反応しうる温度に加熱して架橋型レジスト膜を作り、該レジスト膜に光または電離放射線をパターン状に照射した後に、アルカリ性水溶液で現像することを特徴としている。
【効果】 本発明によれば、高コントラスト・高感度でポジ型レジストを形成することが可能になる。 （もっと読む）

【目的】１０〜２０μｍ以上の膜厚の絶縁・保護膜の形成が可能で、現象溶解性、解像度が優れ、信頼性の高い配線構造体及びその製造方法を提供する。
【構成】感光基を有するポリマ、増感剤、増感助剤とから成る感光性耐熱重合体組成物に対し、一般式（２）、（３）、（４）、（５）、（６）で表わされるアルカリ性化合物の水溶液によって現像する。（２）Ｒ⁵Ｒ⁶Ｒ⁷Ｒ⁸ＮＯＨ，（３）Ｒ⁹Ｒ¹⁰ＮＲ¹¹ＯＨ，（４）Ｒ¹²Ｒ¹³Ｒ¹⁵Ｎ，（５）Ｍ¹ＯＨ，（６）Ｍ¹Ｍ²ＣＯ₃（但し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁵は水素、アルキル基、フェニル基、ベンジル基、から選択された基、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は水素、アルキル基、フェニル基、ベンジル基、−Ｒ¹¹ＯＨから選択された基、Ｒ¹¹は２価の有機基、Ｍ¹はアルカリ金属、ＮＨ₄、Ｍ²はアルカリ金属、ＮＨ₄または水素である） （もっと読む）

【構成】 水溶性膜形成成分とフッ素系界面活性剤とを含有して成るレジスト用塗布液、及び該塗布液から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料。
【効果】 リソグラフィー技術における干渉作用が低減されるため、結果としてパターン寸法精度の優れたレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【構成】 水溶性膜形成成分とプロトン発生物質とを含有して成る化学増幅型レジスト用塗布液組成物である。
【効果】 リソグラフィー処理における干渉を防止するとともに、プロトンを補給する効果を有し、断面形状に優れたパターンを与えることができる。 （もっと読む）

【目的】 感光性を有する樹脂成分がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。
【構成】 特定構造を有するポリイミド前駆体からなる樹脂成分に、特定の構造を有し、活性光線の照射によって塩基性を呈する４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン類を含有させることによって、活性光線の照射によって耐熱性の良好なネガ型のパターンとなるフォトレジスト組成物を得ることができる。また、現像速度を速めるために特定の溶解促進剤を併存させることもできる。 （もっと読む）

【目的】 優れた感光性を有する化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【構成】 式（Ｉ）


〔Ｒ¹ 、Ｒ² ；置換もしくは非置換のアミノフェニル、９−ジュロリジル、Ｙ＝ＣＨ−（Ｙ；置換もしくは非置換の含窒素複素環基）または

（Ｚ¹ 、Ｚ² ；置換もしくは非置換のフェニル）〕で表わされるスクアリリウム化合物と光酸発生剤とバインダーとを含有する化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【目的】 フォトリソグラフィー時のパターン形成に利用した場合、基盤からのハレーション光を抑制して微細パターンを正確に再現し得、しかも現像後にスカムの発生がない新規なフォトレジスト組成物を得る。
【構成】 下記一般式（１）で示されるニトロン化合物を吸光材として配合する。
【化１】


（但し、式中Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³は互いに同一又は異種のアルキル基、アリール基又は水素原子、Ｒ⁴乃至Ｒ⁸は互いに同一又は異種のアルキル基、水素原子又はカルボキシ基であるが、Ｒ⁴乃至Ｒ⁸の少なくとも１つはカルボキシ基である。ＸはＲ⁹Ｏ−で表わされるアルコキシ基、Ｒ¹⁰Ｒ¹¹Ｎ−で表わされるジアルキルアミノ基又は水素原子であり、Ｒ⁹はアルキル基、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は互いに同一又は異種のアルキル基である。ｎは０，１又は２の値を有する。） （もっと読む）

【目的】 高い効率を有し、その近紫外部および可視光領域における光感度が改良されている、光重合性混合物およびそれを用いた記録材料の提供
【構成】 基本的な成分として、下記のものからなる光重合性混合物、ならびにそれを用いた記録材料。
ａ）重合体状バインダー、ｂ）少なくともひとつの重合性基を有するフリーラジカル重合性化合物、ならびに、光開始剤としてｃ）光還元性色素、ｄ）放射線分解性トリハロメチル化合物、および、ｅ）メタロセン化合物ここで、不揮発性成分の重量を基準にして、バインダー（ａ）は 5〜25％、重合性化合物（ｂ）は60〜90％、光開始剤（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）は合計量が3〜20％である。 （もっと読む）

【目的】 解像度及び耐熱性等の諸性能に優れたポジ型レジスト組成物、並びに工程管理等の容易なカラーフィルターの製造方法を提供する。
【構成】 酸により硬化しうる樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、光酸発生剤、染料及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成物、並びに該ポジ型レジスト組成物を基体上に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像・除去してポジ型着色画像を形成させ、次いで、未露光部である上記着色画像を全面露光して硬化させることからなるカラーフィルターの製造方法。 （もっと読む）

【構成】 下記の化合物（ｉ）、（ii）及び（iii)を含有する光重合性組成物。
（ｉ）付加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物、（ii）２５０〜１０００nmの間の放射線を吸収することができ、かつ２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンを分光増感する増感用化合物、及び（iii)２−アリール−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン。
【効果】 紫外光から可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する。 （もっと読む）