エッチング液の管理方法、及びガラス基板再生装置
【課題】カラーフィルタ又はダミー基板の再生にて、ダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごし、透明導電膜の除去不良を発生させないエッチング液の管理方法、ガラス基板再生装置。
【解決手段】カラーフィルタ又はダミー基板の透明導電膜３の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは更新するエッチング液の管理方法。上記管理方法に基づいたエッチング液の管理機構１０を具備するガラス基板再生装置。
【解決手段】カラーフィルタ又はダミー基板の透明導電膜３の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは更新するエッチング液の管理方法。上記管理方法に基づいたエッチング液の管理機構１０を具備するガラス基板再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタをガラス基板として再生する際のエッチング液の管理方法に関するものであり、特に、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍のダミー基板を投入しても、透明導電膜の除去不良を発生させないエッチング液の管理方法、及びガラス基板再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）、着色画素（２）、及び透明導電膜（３）が順次に形成されたものである。
【０００４】
液晶表示装置に用いられる上記カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）を形成し、次に、ブラックマトリックス（１）が形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターン（開口部）に位置合わせして着色画素（２）を形成し、更に透明導電膜（３）を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
ブラックマトリックス（１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、着色画素の大きさを均一なものとしている。また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（１）の形成は、例えば、ガラス基板（４）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、現像によって不要な部分のレジストを除去し、残存したレジストにてブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（２）は、例えば、赤色、緑色、青色の色再現フィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（４）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
また、透明導電膜（３）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
実際の製造においては、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）、着色画素（２）、透明導電膜（３）を形成する各工程では、樹脂の残渣、パーティクルなどの異物（異物付着）や、ピンホール、パターン欠けなどの欠陥が発生することがある。
この欠陥が、品質基準に達しないカラーフィルタは不良品扱いとなるが、ガラス基板自体
に傷などの不良がないものは、このカラーフィルタをガラス基板として再生し、再利用されてきた。
【０００８】
透明導電膜（３）の材料としては、ＩＴＯが広く用いられている。ＩＴＯ膜を溶解除去し、カラーフィルタをガラス基板として再生する際の処理液としては、例えば、塩酸と硝酸の混合液、塩化第二鉄と塩酸の混合液、希塩酸などの酸液（以降、エッチング液と称す）が挙げられる。このエッチング液を使用した酸処理、すなわち、酸化還元反応によってＩＴＯ膜を除去している。
【０００９】
一般に、エッチング液は酸処理により次第に疲労するので、適切な時点でエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新を行うことにしている。上記不良品扱いとなったカラーフィルタのＩＴＯ膜の膜厚は、通常は１４０ｎｍ程度のものであるので、例えば、酸処理に投入した不良品扱いのカラーフィルタの数量を算出しておくことによって、略適切な時点でのエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新が行われている。
【００１０】
一方、ＩＴＯ膜を成膜するスパッタ装置は、例えば、メンテナンスなどのために一時製造を停止した後、連続的な製造を再開する前には条件設定用のガラス基板を用い、成膜条件を確認する。
この条件設定用のガラス基板はダミー基板と称されている。このダミー基板は製品（良品）扱いにはされず、同じ目的で複数回用いられた後に不良品扱いとなる。この不良品扱いとなったダミー基板は、、ガラス基板自体に傷などの不良がないものは、このダミー基板をガラス基板として再生し、再利用されてきた。
【００１１】
さて、上記不良品扱いとなったカラーフィルタに酸処理を施す酸処理装置に、この不良品扱いとなったダミー基板を投入して酸処理を施すと、ダミー基板のＩＴＯ膜の膜厚は、通常の膜厚の数倍〜数十倍の膜厚となっているので、エッチング液へのＩＴＯの溶解量はカラーフィルタ上のＩＴＯ膜の際の溶解量よりも多いものとなる。
従って、ダミー基板への酸処理を行うことにより、例えば、酸処理へ投入した枚数は少ないにもかかわらず、エッチング液の疲労が早く進行した状態になる。
【００１２】
このため、エッチング液の酸処理能力は不足気味となり、ＩＴＯ残り、白濁などの品質不良（ＩＴＯ膜の除去不良）を発生させる可能性がある。
なお、ダミー基板のＩＴＯ膜の膜厚は、カラーフィルタにおける通常の膜厚（１４０ｎｍ程度）の整数倍といった、一律の膜厚ではなく、数倍〜数十倍といった幅のある範囲の膜厚となっているため、酸処理により次第に疲労するエッチング液に、適切な時点でエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新を行うことは困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−２７９９１５号公報
【特許文献２】特開２００５−１８９６７９号公報
【特許文献３】特開２００２−１７９４３８号公報
【特許文献４】特願２００８−１７６６５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、不良品扱いとなったカラーフィルタ又はダミー基板に、エッチング液による酸処理を施し、ガラス基板として再生する際に、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないエッチング液の管理方法を提供することを課題とするものである。
また、上記エッチング液の管理方法に基づいた管理機構を設けたガラス基板再生装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１６】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１７】
また、本発明は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１８】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１９】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際に、酸処理の前処理装置及び後処理装置を停止させることを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００２０】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備することを特徴とするガラス基板再生装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング
液を更新するので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないエッチング液の管理方法となる。
【００２２】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新するので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）はより的確に発生させないエッチング液の管理方法となる。
【００２３】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備するガラス基板再生装置であるので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないガラス基板再生装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】液晶表示装置用カラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図３】本発明によるガラス基板再生装置の一例における構成の概略を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図３は、本発明によるガラス基板再生装置の一例における構成の概略を示す説明図である。図３に示すように、ガラス基板再生装置は、酸処理装置（５０）、酸処理の前処理装置（１００）、後処理装置（２００）、エッチング液の給排系（７０）、エッチング液の管理機構（１０）で構成されている。
【００２６】
前処理装置（１００）は、酸処理の前処理である水洗処理１、アルカリ処理１、水洗処理２を各々行う、水洗処理装置１（３０−１）、アルカリ処理装置１（４０−１）、水洗処理装置２（３０−２）、及び基板受入れ装置（２０）で構成されている。
また、酸処理装置（５０）は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の、ＩＴＯ膜などの透明導電膜を酸処理により除去する酸処理装置であり、エッチング液としては、例えば、表１に示す組成のエッチング液が用いられる。
【表１】
【００２７】
後処理装置（２００）は、酸処理の後処理である水洗処理３、水洗処理４、アルカリ処理２、水洗処理５、乾燥処理を各々行う、水洗処理装置３（３０−３）、水洗処理装置４（３０−４）、アルカリ処理装置２（４０−２）、水洗処理装置５（３０−５）、及び乾
燥処理装置（６０）で構成されている。
エッチング液の管理機構（１０）は、透明導電膜であるＩＴＯ膜の膜厚を測定するための接触式表面形状測定装置（図示せず）、測定した各膜厚の累計膜厚を算出し、予め設定された累計膜厚（１）などと対比した判定をするための累計算出／判定計（図示せず）などで構成されている。
【００２８】
接触式表面形状測定装置は、カラーフィルタ上のＩＴＯ膜、又はダミー基板上のＩＴＯ膜面を接触式の針にて走査し、ガラス基板とＩＴＯ膜面との段差によりＩＴＯ膜の膜厚を測定する。この際の針圧は３ｍｇ程度、走査速度は５０μｍ／ｓｅｃ程度のものである。
【００２９】
累計算出／判定計は、接触式表面形状測定装置により連続して測定した各膜厚、すなわち、酸処理に連続して投入されるカラーフィルタ上又はダミー基板上のＩＴＯ膜の膜厚を積算して累計膜厚を算出する。また、この算出した累計膜厚を、エッチング液の補充などの基準となる予め設定された累計膜厚（１）などと対比し、算出した累計膜厚が累計膜厚（１）などに達した時点を判定し、伝達路（８０）を経て酸処理装置（５０）及び給排系（７０）へのエッチング液の補充などを指示する。
【００３０】
エッチング液の給排系（７０）は、フィルタ（７１）、ポンプ（７２）、中継タンク（７３）、電磁弁（７４）、流量計（７５）、一次側供給路（７６）、廃液／廃水路（７８）で構成されている。
エッチング液の給排系（７０）は、エッチング液の補充、或いは更新を行う際には、エッチング液の貯蔵槽（７７）から供給されるエッチング液を一次側供給路（７６）を経て中継タンク（７３）に一時貯留し、ポンプ（７２）にてフィルタ（７１）を介して酸処理装置（５０）の槽へ送液する。
【００３１】
また、疲労したエッチング液を酸処理装置（５０）の槽から排出する際は、中継タンクに備えたバルブを作動させて中継タンク（７３）、廃液／廃水路（７８）を経て廃液処理装置（７９）へと送液する。
【００３２】
カラーフィルタ又はダミー基板に形成された透明導電膜（ＩＴＯ膜）を酸処理により除去してガラス基板を再生する際には、枚葉のカラーフィルタ又はダミー基板を、図３に示す前処理装置（１００）に連続して投入し、前処理装置（１００）における前処理を施した後に、酸処理装置（５０）にて酸処理を施して透明導電膜（ＩＴＯ膜）を溶解除去し、次に、後処理装置（２００）にて後処理施し、再生されたガラス基板を連続して得る。
【００３３】
本発明においては、前処理装置（１００）への投入に先立ち、連続して投入するカラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜（ＩＴＯ膜）の各膜厚を連続して測定する。 この連続して測定する各膜厚の累計膜厚を算出しておき、この算出している累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液の給排系（７０）の中継タンク（７３）からエッチング液を酸処理装置（５０）の槽へ送液して補充する。
【００３４】
この累計膜厚（１）は、事前に、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を補充するのに適切な時点と定めた累計膜厚である。
【００３５】
また、本発明においては、上記連続して測定する各膜厚の累計膜厚を算出しておき、この算出している累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液の更新を行う。エッチング液の更新は、先ず、酸処理装置（５０）の槽中のエッチング液を給排系（７０）の廃液／廃水路（７８）を経て廃液処理装置（７９）へと排出する。次に、給排系（７０）の中継タンク（７３）からエッチング液を酸処理装置（５０）の槽
へ送液して更新する。
【００３６】
この累計膜厚（２）は、事前に、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を更新するのに適切な時点と定めた累計膜厚である。
【００３７】
具体的には、同一サイズのガラス基板上に、透明導電膜としてのＩＴＯ膜を通常の膜厚である１４０ｎｍ±１５ｎｍ成膜したものを再生用ガラス基板として用い、また、酸処理に用いるエッチング液としては、前記表１に示す組成のものを用い、酸処理装置では、０．１５ＭＰａの吐出圧でエッチング液を噴射させて、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを得た。このデータを基にエッチング液を更新するのに好適な累計膜厚（累計膜厚（２））は、概ね、１５０×１０3 ｎｍであることを、一例として見出している。
【００３８】
また、同様に、エッチング液を補充するのに好適な累計膜厚（累計膜厚（１））は、概ね、どの程度であるか、具体的に見出すことによって対応することができる。
【００３９】
従って、本発明によるエッチング液の管理方法によれば、透明導電膜（ＩＴＯ膜）の膜厚が、通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合でも、エッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごすことはなくなる。
これにより、カラーフィルタ又はダミー基板に、エッチング液による酸処理を施し、ガラス基板として再生する際に、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることは回避されるものとなる。
【００４０】
また、一般に、例えば、前記塩酸と硝酸の混合液、塩化第二鉄と塩酸の混合液、希塩酸などの酸液を使用した酸処理では、エッチング液の疲労に伴いエッチングに要する所要時間は次第に長くなる。
酸処理において、時間当たりの処理能力（枚数）を低下させず、処理能力を維持した処理をするために、すなわち、疲労に伴い、設定された１枚当たりの所要時間（エッチング時間）を超過させずにエッチング処理を行うために、例えば、初期の建浴時から末期の更新時に至る間、エッチング液の液温を段階的に上昇させる手法を採用することがある。
【００４１】
本発明においては、上記エッチング液の液温を段階的に上昇させる際に、ある疲労に対応した、膜厚の累計膜厚（累計膜厚（ｉ））を、予め設定しておき、この累計膜厚（ｉ）を用いて液温を段階的に上昇させる手法を採用することができる。
【００４２】
具体的には、表２に例示するように、酸処理の初期は累計膜厚（ｉ）が３０×１０3 ｎｍ以下、中期は累計膜厚（ｉ）が３０×１０3 ｎｍ〜６０×１０3 ｎｍ間、末期は累計膜厚（ｉ）が６０×１０3 ｎｍ以上とし、液温を段階的に上昇させる累計膜厚（ｉ）を３０×１０3 ｎｍとする。
【表２】
【００４３】
表２に示すように、酸処理の初期は液温５５℃にて処理を施し、中期は液温６０℃にて処理を施し、末期は液温６５℃にて処理を施す。この間、いずれの処理にても処理時間は１８０ｓｅｃである。
つまり、設定された１枚当たりの所要時間（初期のエッチング時間）である１８０ｓｅｃを超過させずに、疲労しつつあるエッチング液をより的確に使い切ることが可能となる。
【００４４】
すなわち、本発明においては、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を更新するのに適切な時点となる前記累計膜厚
（２）を、事前に設定する際に、上記液温を段階的に上昇させる累計膜厚（ｉ）の手法を用いた際の、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を基にして、更新の適切な時点となる累計膜厚（２’）を設定してもよい。
【００４５】
また、本発明によるガラス基板再生装置は、エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際には、前処理装置（１００）、及び後処理装置（２００）を自動で停止させる機構を備えていることが好ましい。
【００４６】
また、請求項２に係わるエッチング液の管理方法は、膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の膜厚・面積を算出し、該算出した膜厚・面積を積算した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴としている。
これにより、酸処理へ投入されるカラーフィルタ、又はダミー基板のサイズが複数種であっても、エッチング液を補充する適切な時点はより的確なものとなる。
【００４７】
なお、この際には、ガラス基板再生装置のエッチング液の管理機構（１０）には、接触式表面形状測定装置、累計算出／判定計に加え、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を自動測定する面積計を備えることが必要になる。
【００４８】
また、請求項４に係わるエッチング液の管理方法は、膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の膜厚・面積を算出し、該算出した膜厚・面積を積算した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴としている。
これにより、酸処理へ投入されるカラーフィルタ、又はダミー基板のサイズが複数種であっても、エッチング液を更新する適切な時点はより的確なものとなる。
【００４９】
なお、この際には、ガラス基板再生装置のエッチング液の管理機構（１０）には、接触式表面形状測定装置、累計算出／判定計に加え、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を自動測定する面積計を備えることが必要になる。
【符号の説明】
【００５０】
１・・・ブラックマトリックス
２・・・着色画素
３・・・透明導電膜
４・・・ガラス基板
１０・・・エッチング液の管理機構
２０・・・基板受入れ装置
３０−１〜３０−５・・・水洗処理装置１〜水洗処理装置５
４０−１〜４０−２・・・アルカリ処理装置１〜水洗処理装置２
５０・・・酸処理装置
６０・・・燥処理装置
７０・・・エッチング液の給排系
７１・・・フィルタ
７２・・・ポンプ
７３・・・中継タンク
７４・・・電磁弁
７５・・・流量計
７６・・・一次側供給路
７８・・・廃液／廃水路
８０・・・伝達路
１００・・・前処理装置
２００・・・後処理装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタをガラス基板として再生する際のエッチング液の管理方法に関するものであり、特に、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍のダミー基板を投入しても、透明導電膜の除去不良を発生させないエッチング液の管理方法、及びガラス基板再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）、着色画素（２）、及び透明導電膜（３）が順次に形成されたものである。
【０００４】
液晶表示装置に用いられる上記カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）を形成し、次に、ブラックマトリックス（１）が形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターン（開口部）に位置合わせして着色画素（２）を形成し、更に透明導電膜（３）を形成するといった方法が広く用いられている。
【０００５】
ブラックマトリックス（１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、着色画素の大きさを均一なものとしている。また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（１）の形成は、例えば、ガラス基板（４）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、現像によって不要な部分のレジストを除去し、残存したレジストにてブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（２）は、例えば、赤色、緑色、青色の色再現フィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（４）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
また、透明導電膜（３）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
実際の製造においては、ガラス基板（４）上にブラックマトリックス（１）、着色画素（２）、透明導電膜（３）を形成する各工程では、樹脂の残渣、パーティクルなどの異物（異物付着）や、ピンホール、パターン欠けなどの欠陥が発生することがある。
この欠陥が、品質基準に達しないカラーフィルタは不良品扱いとなるが、ガラス基板自体
に傷などの不良がないものは、このカラーフィルタをガラス基板として再生し、再利用されてきた。
【０００８】
透明導電膜（３）の材料としては、ＩＴＯが広く用いられている。ＩＴＯ膜を溶解除去し、カラーフィルタをガラス基板として再生する際の処理液としては、例えば、塩酸と硝酸の混合液、塩化第二鉄と塩酸の混合液、希塩酸などの酸液（以降、エッチング液と称す）が挙げられる。このエッチング液を使用した酸処理、すなわち、酸化還元反応によってＩＴＯ膜を除去している。
【０００９】
一般に、エッチング液は酸処理により次第に疲労するので、適切な時点でエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新を行うことにしている。上記不良品扱いとなったカラーフィルタのＩＴＯ膜の膜厚は、通常は１４０ｎｍ程度のものであるので、例えば、酸処理に投入した不良品扱いのカラーフィルタの数量を算出しておくことによって、略適切な時点でのエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新が行われている。
【００１０】
一方、ＩＴＯ膜を成膜するスパッタ装置は、例えば、メンテナンスなどのために一時製造を停止した後、連続的な製造を再開する前には条件設定用のガラス基板を用い、成膜条件を確認する。
この条件設定用のガラス基板はダミー基板と称されている。このダミー基板は製品（良品）扱いにはされず、同じ目的で複数回用いられた後に不良品扱いとなる。この不良品扱いとなったダミー基板は、、ガラス基板自体に傷などの不良がないものは、このダミー基板をガラス基板として再生し、再利用されてきた。
【００１１】
さて、上記不良品扱いとなったカラーフィルタに酸処理を施す酸処理装置に、この不良品扱いとなったダミー基板を投入して酸処理を施すと、ダミー基板のＩＴＯ膜の膜厚は、通常の膜厚の数倍〜数十倍の膜厚となっているので、エッチング液へのＩＴＯの溶解量はカラーフィルタ上のＩＴＯ膜の際の溶解量よりも多いものとなる。
従って、ダミー基板への酸処理を行うことにより、例えば、酸処理へ投入した枚数は少ないにもかかわらず、エッチング液の疲労が早く進行した状態になる。
【００１２】
このため、エッチング液の酸処理能力は不足気味となり、ＩＴＯ残り、白濁などの品質不良（ＩＴＯ膜の除去不良）を発生させる可能性がある。
なお、ダミー基板のＩＴＯ膜の膜厚は、カラーフィルタにおける通常の膜厚（１４０ｎｍ程度）の整数倍といった、一律の膜厚ではなく、数倍〜数十倍といった幅のある範囲の膜厚となっているため、酸処理により次第に疲労するエッチング液に、適切な時点でエッチング液の補充、或いはエッチング液の更新を行うことは困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−２７９９１５号公報
【特許文献２】特開２００５−１８９６７９号公報
【特許文献３】特開２００２−１７９４３８号公報
【特許文献４】特願２００８−１７６６５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、不良品扱いとなったカラーフィルタ又はダミー基板に、エッチング液による酸処理を施し、ガラス基板として再生する際に、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないエッチング液の管理方法を提供することを課題とするものである。
また、上記エッチング液の管理方法に基づいた管理機構を設けたガラス基板再生装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１６】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１７】
また、本発明は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１８】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００１９】
また、本発明は、上記発明によるエッチング液の管理方法において、前記エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際に、酸処理の前処理装置及び後処理装置を停止させることを特徴とするエッチング液の管理方法である。
【００２０】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備することを特徴とするガラス基板再生装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング
液を更新するので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないエッチング液の管理方法となる。
【００２２】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充、或いは、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新するので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）はより的確に発生させないエッチング液の管理方法となる。
【００２３】
また、本発明は、カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備するガラス基板再生装置であるので、その透明導電膜の膜厚が通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の疲労が早く進行してエッチング液の補充、或いは更新の適切な時点を見過ごし、その結果、酸処理能力が不足気味となり、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることのないガラス基板再生装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】液晶表示装置用カラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図３】本発明によるガラス基板再生装置の一例における構成の概略を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図３は、本発明によるガラス基板再生装置の一例における構成の概略を示す説明図である。図３に示すように、ガラス基板再生装置は、酸処理装置（５０）、酸処理の前処理装置（１００）、後処理装置（２００）、エッチング液の給排系（７０）、エッチング液の管理機構（１０）で構成されている。
【００２６】
前処理装置（１００）は、酸処理の前処理である水洗処理１、アルカリ処理１、水洗処理２を各々行う、水洗処理装置１（３０−１）、アルカリ処理装置１（４０−１）、水洗処理装置２（３０−２）、及び基板受入れ装置（２０）で構成されている。
また、酸処理装置（５０）は、カラーフィルタ上又はダミー基板上の、ＩＴＯ膜などの透明導電膜を酸処理により除去する酸処理装置であり、エッチング液としては、例えば、表１に示す組成のエッチング液が用いられる。
【表１】
【００２７】
後処理装置（２００）は、酸処理の後処理である水洗処理３、水洗処理４、アルカリ処理２、水洗処理５、乾燥処理を各々行う、水洗処理装置３（３０−３）、水洗処理装置４（３０−４）、アルカリ処理装置２（４０−２）、水洗処理装置５（３０−５）、及び乾
燥処理装置（６０）で構成されている。
エッチング液の管理機構（１０）は、透明導電膜であるＩＴＯ膜の膜厚を測定するための接触式表面形状測定装置（図示せず）、測定した各膜厚の累計膜厚を算出し、予め設定された累計膜厚（１）などと対比した判定をするための累計算出／判定計（図示せず）などで構成されている。
【００２８】
接触式表面形状測定装置は、カラーフィルタ上のＩＴＯ膜、又はダミー基板上のＩＴＯ膜面を接触式の針にて走査し、ガラス基板とＩＴＯ膜面との段差によりＩＴＯ膜の膜厚を測定する。この際の針圧は３ｍｇ程度、走査速度は５０μｍ／ｓｅｃ程度のものである。
【００２９】
累計算出／判定計は、接触式表面形状測定装置により連続して測定した各膜厚、すなわち、酸処理に連続して投入されるカラーフィルタ上又はダミー基板上のＩＴＯ膜の膜厚を積算して累計膜厚を算出する。また、この算出した累計膜厚を、エッチング液の補充などの基準となる予め設定された累計膜厚（１）などと対比し、算出した累計膜厚が累計膜厚（１）などに達した時点を判定し、伝達路（８０）を経て酸処理装置（５０）及び給排系（７０）へのエッチング液の補充などを指示する。
【００３０】
エッチング液の給排系（７０）は、フィルタ（７１）、ポンプ（７２）、中継タンク（７３）、電磁弁（７４）、流量計（７５）、一次側供給路（７６）、廃液／廃水路（７８）で構成されている。
エッチング液の給排系（７０）は、エッチング液の補充、或いは更新を行う際には、エッチング液の貯蔵槽（７７）から供給されるエッチング液を一次側供給路（７６）を経て中継タンク（７３）に一時貯留し、ポンプ（７２）にてフィルタ（７１）を介して酸処理装置（５０）の槽へ送液する。
【００３１】
また、疲労したエッチング液を酸処理装置（５０）の槽から排出する際は、中継タンクに備えたバルブを作動させて中継タンク（７３）、廃液／廃水路（７８）を経て廃液処理装置（７９）へと送液する。
【００３２】
カラーフィルタ又はダミー基板に形成された透明導電膜（ＩＴＯ膜）を酸処理により除去してガラス基板を再生する際には、枚葉のカラーフィルタ又はダミー基板を、図３に示す前処理装置（１００）に連続して投入し、前処理装置（１００）における前処理を施した後に、酸処理装置（５０）にて酸処理を施して透明導電膜（ＩＴＯ膜）を溶解除去し、次に、後処理装置（２００）にて後処理施し、再生されたガラス基板を連続して得る。
【００３３】
本発明においては、前処理装置（１００）への投入に先立ち、連続して投入するカラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜（ＩＴＯ膜）の各膜厚を連続して測定する。 この連続して測定する各膜厚の累計膜厚を算出しておき、この算出している累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液の給排系（７０）の中継タンク（７３）からエッチング液を酸処理装置（５０）の槽へ送液して補充する。
【００３４】
この累計膜厚（１）は、事前に、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を補充するのに適切な時点と定めた累計膜厚である。
【００３５】
また、本発明においては、上記連続して測定する各膜厚の累計膜厚を算出しておき、この算出している累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液の更新を行う。エッチング液の更新は、先ず、酸処理装置（５０）の槽中のエッチング液を給排系（７０）の廃液／廃水路（７８）を経て廃液処理装置（７９）へと排出する。次に、給排系（７０）の中継タンク（７３）からエッチング液を酸処理装置（５０）の槽
へ送液して更新する。
【００３６】
この累計膜厚（２）は、事前に、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を更新するのに適切な時点と定めた累計膜厚である。
【００３７】
具体的には、同一サイズのガラス基板上に、透明導電膜としてのＩＴＯ膜を通常の膜厚である１４０ｎｍ±１５ｎｍ成膜したものを再生用ガラス基板として用い、また、酸処理に用いるエッチング液としては、前記表１に示す組成のものを用い、酸処理装置では、０．１５ＭＰａの吐出圧でエッチング液を噴射させて、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを得た。このデータを基にエッチング液を更新するのに好適な累計膜厚（累計膜厚（２））は、概ね、１５０×１０3 ｎｍであることを、一例として見出している。
【００３８】
また、同様に、エッチング液を補充するのに好適な累計膜厚（累計膜厚（１））は、概ね、どの程度であるか、具体的に見出すことによって対応することができる。
【００３９】
従って、本発明によるエッチング液の管理方法によれば、透明導電膜（ＩＴＯ膜）の膜厚が、通常の数倍〜数十倍の範囲であるダミー基板を酸処理に投入した場合でも、エッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごすことはなくなる。
これにより、カラーフィルタ又はダミー基板に、エッチング液による酸処理を施し、ガラス基板として再生する際に、透明導電膜残り、白濁などの品質不良（透明導電膜の除去不良）を発生させることは回避されるものとなる。
【００４０】
また、一般に、例えば、前記塩酸と硝酸の混合液、塩化第二鉄と塩酸の混合液、希塩酸などの酸液を使用した酸処理では、エッチング液の疲労に伴いエッチングに要する所要時間は次第に長くなる。
酸処理において、時間当たりの処理能力（枚数）を低下させず、処理能力を維持した処理をするために、すなわち、疲労に伴い、設定された１枚当たりの所要時間（エッチング時間）を超過させずにエッチング処理を行うために、例えば、初期の建浴時から末期の更新時に至る間、エッチング液の液温を段階的に上昇させる手法を採用することがある。
【００４１】
本発明においては、上記エッチング液の液温を段階的に上昇させる際に、ある疲労に対応した、膜厚の累計膜厚（累計膜厚（ｉ））を、予め設定しておき、この累計膜厚（ｉ）を用いて液温を段階的に上昇させる手法を採用することができる。
【００４２】
具体的には、表２に例示するように、酸処理の初期は累計膜厚（ｉ）が３０×１０3 ｎｍ以下、中期は累計膜厚（ｉ）が３０×１０3 ｎｍ〜６０×１０3 ｎｍ間、末期は累計膜厚（ｉ）が６０×１０3 ｎｍ以上とし、液温を段階的に上昇させる累計膜厚（ｉ）を３０×１０3 ｎｍとする。
【表２】
【００４３】
表２に示すように、酸処理の初期は液温５５℃にて処理を施し、中期は液温６０℃にて処理を施し、末期は液温６５℃にて処理を施す。この間、いずれの処理にても処理時間は１８０ｓｅｃである。
つまり、設定された１枚当たりの所要時間（初期のエッチング時間）である１８０ｓｅｃを超過させずに、疲労しつつあるエッチング液をより的確に使い切ることが可能となる。
【００４４】
すなわち、本発明においては、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を精査したデータを基に、エッチング液を更新するのに適切な時点となる前記累計膜厚
（２）を、事前に設定する際に、上記液温を段階的に上昇させる累計膜厚（ｉ）の手法を用いた際の、エッチング液の疲労と、酸処理を行った累計膜厚との関係を基にして、更新の適切な時点となる累計膜厚（２’）を設定してもよい。
【００４５】
また、本発明によるガラス基板再生装置は、エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際には、前処理装置（１００）、及び後処理装置（２００）を自動で停止させる機構を備えていることが好ましい。
【００４６】
また、請求項２に係わるエッチング液の管理方法は、膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の膜厚・面積を算出し、該算出した膜厚・面積を積算した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴としている。
これにより、酸処理へ投入されるカラーフィルタ、又はダミー基板のサイズが複数種であっても、エッチング液を補充する適切な時点はより的確なものとなる。
【００４７】
なお、この際には、ガラス基板再生装置のエッチング液の管理機構（１０）には、接触式表面形状測定装置、累計算出／判定計に加え、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を自動測定する面積計を備えることが必要になる。
【００４８】
また、請求項４に係わるエッチング液の管理方法は、膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の膜厚・面積を算出し、該算出した膜厚・面積を積算した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴としている。
これにより、酸処理へ投入されるカラーフィルタ、又はダミー基板のサイズが複数種であっても、エッチング液を更新する適切な時点はより的確なものとなる。
【００４９】
なお、この際には、ガラス基板再生装置のエッチング液の管理機構（１０）には、接触式表面形状測定装置、累計算出／判定計に加え、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を自動測定する面積計を備えることが必要になる。
【符号の説明】
【００５０】
１・・・ブラックマトリックス
２・・・着色画素
３・・・透明導電膜
４・・・ガラス基板
１０・・・エッチング液の管理機構
２０・・・基板受入れ装置
３０−１〜３０−５・・・水洗処理装置１〜水洗処理装置５
４０−１〜４０−２・・・アルカリ処理装置１〜水洗処理装置２
５０・・・酸処理装置
６０・・・燥処理装置
７０・・・エッチング液の給排系
７１・・・フィルタ
７２・・・ポンプ
７３・・・中継タンク
７４・・・電磁弁
７５・・・流量計
７６・・・一次側供給路
７８・・・廃液／廃水路
８０・・・伝達路
１００・・・前処理装置
２００・・・後処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法。
【請求項２】
前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とする請求項１記載のエッチング液の管理方法。
【請求項３】
カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法。
【請求項４】
前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とする請求項３記載のエッチング液の管理方法。
【請求項５】
前記エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際に、酸処理の前処理装置及び後処理装置を停止させることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法。
【請求項６】
カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備することを特徴とするガラス基板再生装置。
【請求項１】
カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とするエッチング液の管理方法。
【請求項２】
前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（１）に達した時点で、エッチング液を補充することを特徴とする請求項１記載のエッチング液の管理方法。
【請求項３】
カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜を酸処理により除去してガラス基板を再生するエッチング液の管理方法において、前記カラーフィルタ又はダミー基板を酸処理へ連続投入する際に、カラーフィルタ上又はダミー基板上の透明導電膜の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、該算出した累計膜厚が、予め設定された累計膜厚（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とするエッチング液の管理方法。
【請求項４】
前記膜厚を連続測定する際に、カラーフィルタ又はダミー基板の面積を連続測定し、各膜厚と各面積の積の累計膜厚・面積を算出し、該算出した累計膜厚・面積が、予め設定された累計膜厚・面積（２）に達した時点で、エッチング液を更新することを特徴とする請求項３記載のエッチング液の管理方法。
【請求項５】
前記エッチング液を補充、又はエッチング液を更新する際に、酸処理の前処理装置及び後処理装置を停止させることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法。
【請求項６】
カラーフィルタ又はダミー基板のガラス基板再生装置において、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載するエッチング液の管理方法に基づいたエッチング液の管理機構を具備することを特徴とするガラス基板再生装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１１−１３５２９（Ｐ２０１１−１３５２９Ａ）
【公開日】平成２３年１月２０日（２０１１．１．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１５８５７２（Ｐ２００９−１５８５７２）
【出願日】平成２１年７月３日（２００９．７．３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１月２０日（２０１１．１．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月３日（２００９．７．３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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