【課題】本発明の目的は、高温高湿下といった湿熱処理後の耐薬品と密着性、及び耐擦傷性に優れる反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。
【解決手段】フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層、更にハードコート層上に低屈折率層を積層する反射防止フィルムの製造方法において、該ハードコート層がフッ素−シロキサングラフトポリマーを少なくとも１種含有し、更にハードコート層面に表面処理を行った後、外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を少なくとも１種含有する低屈折率層を積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層、更にハードコート層上に低屈折率層を積層する反射防止フィルムの製造方法において、該ハードコート層がフッ素−シロキサングラフトポリマーを少なくとも１種含有し、更にハードコート層面に表面処理を行った後、外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を少なくとも１種含有する低屈折率層を積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記表面処理が、アルカリ鹸化処理またはプラズマ処理であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記フィルム基材上とハードコート層の間に導電層を設けることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記フィルム基材が、セルロースエステル樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、アクリル樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、アクリル樹脂及びアクリル粒子を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項７に記載の反射防止フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項７に記載の反射防止フィルム、または請求項８に記載の偏光板を用いることを特徴とする画像表示装置。

【図１】

【図２】

【図３】

【公開番号】特開２００９−１８６６５１（Ｐ２００９−１８６６５１Ａ）
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２４９７８（Ｐ２００８−２４９７８）
【出願日】平成２０年２月５日（２００８．２．５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】