基板および基板の製造方法、電気光学装置および電気光学装置の製造方法、電子機器
【課題】 断面形状がほぼ一定した複数の色要素を有する基板およびこの基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置およびその製造方法、電気光学装置を搭載した電子機器を提供すること。
【解決手段】 基板１は、素子基板２の複数の色要素領域Ａを区画すると共に、壁面に段差を有する二層バンク１３と、複数の色要素領域Ａに電極１２と正孔注入輸送層１６とを備えている。また複数の色要素領域Ａに発光層形成材料を含む３種の機能液４０，４１，４２を付与して形成された３種の発光素子部１７を備えている。二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。また下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液４０，４１，４２に応じて異なっている。
【解決手段】 基板１は、素子基板２の複数の色要素領域Ａを区画すると共に、壁面に段差を有する二層バンク１３と、複数の色要素領域Ａに電極１２と正孔注入輸送層１６とを備えている。また複数の色要素領域Ａに発光層形成材料を含む３種の機能液４０，４１，４２を付与して形成された３種の発光素子部１７を備えている。二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。また下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液４０，４１，４２に応じて異なっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色要素を有する基板および基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置および電気光学装置の製造方法、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の１つとして、有機ＥＬ素子を有する基板を用いた自発光型の有機ＥＬ表示装置がある。また、基板上の電極（陽極）を有する複数の色要素領域に、正孔注入層と発光層とを形成する材料を含むインク組成物（機能液）を塗布して有機ＥＬ素子を製造する方法が知られている（特許文献１）。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子の製造方法では、複数の色要素領域は、隔壁部（バンク）によって区画されており、前記インク組成物を塗布した際に、隣接する色要素領域に流出しないように、バンクの表面は、撥インク処理（撥液処理）が施されている。また、バンクによって区画された色要素領域は、インク組成物がよく濡れ拡がるように、親インク処理（親液処理）が施されている。
【０００４】
また、このようなバンクとして、より具体的には、無機材料からなる下層バンクと、有機材料からなる上層バンクとによる二層バンク構造とすることが知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３０５０７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のようなバンクを有する基板において、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して色要素を形成しようとする場合、バンクで区画された色要素領域に対する各機能液の濡れ性は、必ずしも一定ではない。例えば、発光層形成材料を含む複数種の機能液を複数の色要素領域に付与して複数種の発光層を形成しようとする場合、親液処理された色要素領域に正孔注入層が先に形成されているため、付与される機能液の濡れ性が正孔注入層に対して機能液ごとに異なると、乾燥後の発光層の表面に起伏が生じ、断面形状が色要素領域ごとに異なるという課題がある。また、このような課題を改善するために、機能液ごとに乾燥条件を変える方法や正孔注入層の表面を改質する方法が考えられるが、発光層の形成工程が煩雑になってしまう。
【０００７】
また、上記従来の方法で形成された有機ＥＬ素子を有する基板を用いて、有機ＥＬ表示装置を製造すれば、各色要素領域において発光層の断面形状が異なることによる輝度ムラ、色ムラ等が発生する惧れがある。
【０００８】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、断面形状がほぼ一定した複数の色要素を有する基板およびこの基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置およびその製造方法、電気光学装置を搭載した電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に形成された色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異なることを特徴とする。
【００１０】
色要素の電気光学的な特性は、形成された色要素の断面形状によって左右され、断面形状がほぼ一定、好ましくはより平坦な色要素の形状が求められる。この構成によれば、複数の色要素領域を区画するバンクの壁面に段差を有している。したがって、例えば、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する場合、複数の色要素領域に付与された各機能液の一部は、段差の表面に濡れ拡がり、他の機能液は段差で区画された領域に濡れ拡がる。その後、濡れ拡がった機能液を乾燥させて形成された色要素の断面形状は、段差の表面と段差で区画された領域とでは、それぞれに濡れ拡がった機能液の状態によって異なる。よって、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を、複数の色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異ならせることにより、形成後の色要素の断面形状を調整することができる。そして、上記張り出し量を適宜設定することにより、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
【００１１】
また本発明の他の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なることを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なっている。したがって、色要素領域に対して各機能液の濡れ性が異なっていても、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えることにより、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を複数の色要素領域ごとに調整することができる。例えば、機能液に対して高い撥液性を示すバンクで区画された色要素領域に機能液を付与すれば、付与された機能液は、バンクにより弾かれる。弾かれた機能液は、色要素領域の中央側に寄ってゆくため、乾燥後の色要素の断面形状は、中央側の膜厚が厚い状態になり易い。この場合、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を少なくしてやれば、バンクの段差で弾かれて色要素領域の中央側に寄る機能液の量が減少する。よって、乾燥後の色要素の断面形状をより平坦な状態にすることができる。すなわち、各機能液ごとのバンクや色要素領域に対する濡れ性を考慮して、バンクの段差が色要素領域の内側に張り出す量を各機能液ごとに設定すれば、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を調整することができ、複数の色要素領域において乾燥後の断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
【００１３】
これらの本発明の基板において、バンクは、積層構造を有し、色要素領域を区画する上層バンクと、色要素領域の内側に張り出して上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、下層バンクは、上層バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように設けられて段差を形成している。したがって、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせることにより、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを配置することができる。また、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを設けることもできる。尚、下層バンクと上層バンクは、それ自体が一層からなるものでもよいし、複層からなるものでもよい。例えば、３層積層構造である場合、下二層を下層バンクとし上一層を上層バンクとしたり、その反対に、下一層を下層バンクとし上二層を上層バンクとすることができる。
【００１５】
また、これらの本発明の基板において、上層バンクの表面は、機能液に対して撥液性を有し、下層バンクの少なくとも段差を形成している部分は、上層バンクよりも表面が親液性であることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、複数の色要素領域に付与される各機能液は、撥液性を有する上層バンクの表面によって弾かれ、親液性を有する下層バンクの段差の部分で、よく濡れ拡がる。したがって、色要素領域内に隈なく各機能液を行き渡らせることができる。
【００１７】
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に対応して基板上に設けられた電極と、電極の上に張り出したバンクの段差で区画された領域に配置された正孔注入輸送層と、色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成されると共に、正孔注入輸送層の上に積層される複数種の発光層を備え、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、段差で区画された正孔注入輸送層上において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる発光層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の発光層を有する基板を提供することができる。
【００１９】
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色層を備え、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、色要素領域において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる色層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の色層を有する基板を提供することができる。
【００２１】
本発明の電気光学装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を用いているため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を提供することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を用いているため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置としての液晶表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を用いているため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を提供することができる。
【００２４】
本発明の電子機器は、上記発明の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。この構成によれば、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置、または各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、あるいは各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置が搭載されている。したがって、表示ムラの少ない高い表示品質を有する電気光学装置で情報を確認することができる電子機器を提供することができる。
【００２５】
本発明の基板の製造方法は、基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する色要素形成工程とを備え、バンク形成工程では、バンクの段差を、色要素領域の内側に張り出すように形成し、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを形成することを特徴とする。
【００２６】
この方法によれば、バンク形成工程では、バンクの段差は、バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように形成され、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが形成される。したがって、色要素形成工程で、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成すれば、付与された各機能液は、バンクの段差の張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状を張り出し量によって調整された色要素を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を製造することができる。
【００２７】
また、上記バンク形成工程は、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、上層バンク形成工程では、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクを形成することを特徴とする。
【００２８】
この方法によれば、下層バンク形成工程では、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクが形成され、上層バンク形成工程では、下層バンクの上に、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクが形成される。したがって、バンク形成工程において、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせるように下層バンクと上層バンクとを形成すれば、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが配置された基板を製造することができる。さらに、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを形成することもできる。
【００２９】
また本発明の基板の製造方法は、基板上の複数の色要素領域にそれぞれ電極を形成する電極形成工程と、電極に積層するように正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とをさらに備え、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して、複数種の発光層を形成することを特徴とする。
【００３０】
この方法によれば、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の発光層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の発光層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を製造することができる。
【００３１】
また、上記色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層を形成することを特徴とする。
【００３２】
この方法によれば、色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の色層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を製造することができる。
【００３３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の色要素を有する基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素が形成されるため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を製造することができる。
【００３４】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、複数の発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層が形成されるため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【００３５】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層が形成されるため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
（第１の実施形態）
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に有機ＥＬ発光材料により形成された発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を例に説明する。
【００３７】
図１は、有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図１に示すように、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置２０は、発光素子部１７を有する基板１と、基板１と空間２１を隔てて封着された封止基板１９とを備えている。また基板１は、素子基板２上に回路素子部３を備えており、発光素子部１７は、回路素子部３上に重畳して形成され、回路素子部３により駆動されるものである。発光素子部１７には、３色の発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂがそれぞれの色要素領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。基板１は、３色の発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応する３つの色要素領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板２の回路素子部３上にマトリクス状に配置されたものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置２０は、発光素子部１７からの発光が素子基板２側に出射するものである。
【００３８】
封止基板１９は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して基板１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤１９ａが貼り付けられている。ゲッター剤１９ａは、基板１と封止基板１９との間の空間２１に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部１７が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤１９ａは省略しても良い。
【００３９】
本実施形態の基板１は、素子基板２の回路素子部３上に複数の色要素領域Ａを有するものであって、複数の色要素領域Ａを区画すると共に、壁面に段差を有するバンクとしての二層バンク１３と、複数の色要素領域Ａに形成された電極１２と、電極１２に積層された正孔注入輸送層１６とを備えている。また複数の色要素領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の機能液を付与して形成された発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する色要素としての発光素子部１７を備えている。二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを実質的に区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。また下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液に応じて異なっている。
【００４０】
なぜならば、発光層形成材料を含む３種（３色）の機能液をそれぞれ色要素領域Ａに付与した後に、一括乾燥させて各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを形成する場合、色要素領域Ａに対する各機能液の濡れ性が異なるために、乾燥後の断面形状が不均一となることを改善するものである。下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量を機能液に応じて変えることにより、色要素領域Ａに付与された各機能液のレベリング状態は、ほぼ一定となる。ゆえに乾燥後の各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状をほぼ一定とすることが可能となる。本実施形態では、下層バンク１４の張り出し量は、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応して、発光層１７Ｂが形成された色要素領域においてもっとも長く張り出し、次に発光層１７Ｇ、発光層１７Ｒの順となるように設定されている。
【００４１】
素子基板２は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ａが形成され、この下地保護膜２ａ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜４が形成されている。尚、半導体膜４には、ソース領域４ａ及びドレイン領域４ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域４ｃとなっている。さらに下地保護膜２ａ及び半導体膜４を覆う透明なゲート絶縁膜５が形成され、ゲート絶縁膜５上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６が形成され、ゲート電極６及びゲート絶縁膜５上には透明な第１層間絶縁膜７と第２層間絶縁膜８が形成されている。ゲート電極６は半導体膜４のチャネル領域４ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜７および第２層間絶縁膜８を貫通して、半導体膜４のソース領域４ａ、ドレイン領域４ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール９，１０が形成されている。そして、第２層間絶縁膜８上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明な電極１２が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール９がこの電極１２に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール１０が電源線１１に接続されている。このようにして、回路素子部３には、各電極１２に接続された駆動用の薄膜トランジスタ３ａが形成されている。尚、回路素子部３には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１ではこれらの図示を省略している。
【００４２】
発光素子部１７は、陽極としての電極１２と、電極１２上に順次積層された正孔注入輸送層１６、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと、上層バンク１５と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂとを覆うように積層された陰極１８とを備えている。尚、陰極１８と封止基板１９およびゲッター剤１９ａを透明な材料で構成すれば、封止基板１９側から発光する光を出射させることができる。
【００４３】
有機ＥＬ表示装置２０は、ゲート電極６に接続された走査線（図示省略）とソース領域４ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ３ａのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ３ａのチャネル領域４ｃを介して、電源線１１から電極１２に電流が流れ、更に正孔注入輸送層１６と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂとを介して陰極１８に電流が流れる。各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置２０は、このような発光素子部１７の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状がほぼ一定な基板１を備えているため、断面形状が不均一による発光ムラ、輝度ムラ等の表示不具合の少ない高い表示品質を有している。
【００４４】
次に本実施形態の基板の製造方法について図２〜図５に基づいて説明する。図２は、基板の製造方法を示すフローチャート、図３（ａ）〜（ｄ）および図４（ｅ）〜（ｇ）は、基板の製造方法を示す概略断面図、図５は、液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図である。尚、図３（ａ）〜（ｄ）および図４（ｅ）〜（ｇ）においては、素子基板２上に形成された回路素子部３は、図示を省略している。
【００４５】
図２に示すように、基板１の製造方法は、回路素子部３と電極１２とが形成された素子基板２の複数の色要素領域Ａの内側に張り出すように、下層バンク１４を形成する下層バンク形成工程と、下層バンク１４の上に形成され、複数の色要素領域Ａを実質的に区画するように、上層バンク１５を形成する上層バンク形成工程とを備えている。また上層バンク１５で区画された色要素領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された色要素領域Ａに正孔注入輸送層１６を形成する工程と、正孔注入輸送層１６が形成された色要素領域Ａに、色要素形成材料としての発光層形成材料を含む３種の機能液を付与して、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを形成する色要素形成工程としての発光層形成工程とを備えている。さらに、上層バンク１５と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを覆うように陰極１８を形成する工程を備えている。
【００４６】
図２のステップＳ１は、下層バンク形成工程である。ステップＳ１では、図３（ａ）に示すように素子基板２の複数の電極１２の一部を覆うように下層バンク１４を形成する。下層バンク１４の材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク１４の形成方法としては、例えば、後に形成される各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応して、各電極１２の表面領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃをそれぞれレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板２を真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク１４を形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。表面領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃの大きさは、１２ａ＞１２ｂ＞１２ｃとなっているので、電極１２上に乗り上げた下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃの大きさは、１４ａ＜１４ｂ＜１４ｃとなっている。尚、下層バンク１４は、ＳｉＯ2により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有していおり、後に正孔注入輸送層および発光層が積層されても発光を阻害することはない。そしてステップＳ２へ進む。
【００４７】
図２のステップＳ２は、上層バンク形成工程である。ステップＳ２では、図３（ｂ）に示すように、各色要素領域Ａを区画すると共に、下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液に応じて異なるように、下層バンク１４の上に上層バンク１５を形成する。上層バンク１５の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。上層バンク１５の形成方法としては、例えば、下層バンク１４が形成された素子基板２の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板２と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク１５を形成する方法が挙げられる。これにより上層バンク１５の形成領域の幅を一定とすれば、下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃに対応して、Ｌ１＜Ｌ２＜Ｌ３となった二層バンク１３が形成される。そして、ステップＳ３へ進む。
【００４８】
図２のステップＳ３は、色要素領域Ａを表面処理する工程である。ステップＳ３では、二層バンク１３が形成された素子基板２の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極１２の表面、下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃおよび上層バンク１５の表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。つぎにＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク１５の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、ステップＳ４へ進む。
【００４９】
図２のステップＳ４は、正孔注入輸送層形成工程である。ステップＳ４では、図３（ｃ）に示すように、正孔注入輸送層形成材料を含む機能液３０を色要素領域Ａに付与する。機能液３０を付与する方法としては、機能液３０を液滴として吐出可能な液滴吐出ヘッド５０と、この液滴吐出ヘッド５０を素子基板２に対向させて、液滴吐出ヘッド５０と素子基板２とを相対移動可能な走査機構を備えた液滴吐出装置（図示省略）を用いる。
【００５０】
ここで液滴吐出ヘッド５０について説明しておく。図５に示すように液滴吐出ヘッド５０は、液滴が吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、複数のキャビティ５５に対応する振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。
【００５１】
キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有すると共に、このキャビティ５５に機能液３０を充填するための流路５６，５７を有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、機能液３０が貯留されるリザーバの役目を果たす。
【００５２】
機能液３０は、図示しない供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。
【００５３】
振動子５９は例えば圧電素子（ピエゾ素子）であり、外部から駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加してキャビティ５５に機能液３０をリザーバから吸引し、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板５８は基に戻り充填された機能液３０を加圧する。これにより、ノズル５２から機能液３０を液滴として吐出できる構造となっている。
【００５４】
図３（ｃ）に示すように液滴吐出ヘッド５０から吐出された機能液３０は、液滴として素子基板２の電極１２に着弾して濡れ拡がる。機能液３０は色要素領域Ａの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面張力で盛り上がった状態となる。そして図３（ｄ）に示すように、素子基板２を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液３０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極１２の二層バンク１３の段差により区画された領域に正孔注入輸送層１６が形成される。本実施形態では、正孔注入輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene Dioxy Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。尚、この場合、各色要素領域Ａに同一材料からなる正孔注入輸送層１６を形成したが、後の発光層の形成材料に対応して正孔注入輸送層の材料を色要素領域Ａごとに変えてもよい。そしてステップＳ５へ進む。
【００５５】
図２のステップＳ５は、発光層形成工程である。ステップＳ５では、図４（ｅ）に示すように、複数の色要素領域Ａに発光層形成材料を含む３種の機能液４０，４１，４２を付与する。機能液４０，４１，４２を付与する方法としては、先のステップＳ４と同様にして、液滴吐出ヘッド５０に各機能液４０，４１，４２を充填して、それぞれ液滴として対応する色要素領域Ａに着弾させる。機能液４０は発光層１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、機能液４１は発光層１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、機能液４２は発光層１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各機能液４０，４１，４２は、色要素領域Ａに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。
【００５６】
この場合、正孔注入輸送層１６に対する各機能液４０，４１，４２の濡れ性を比較すると、機能液４０＞機能液４１＞機能液４２の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち各機能液４０，４１，４２ごとに濡れ性が異なる。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の発光層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップＳ３で表面処理された下層バンク１４の各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃは、正孔注入輸送層１６の表面よりも各機能液４０，４１，４２に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、下層バンク１４の各張り出し量Ｌ１〜Ｌ３を、各機能液４０，４１，４２が付与される色要素領域Ａに対応して変えている。この場合、正孔注入輸送層１６に対する濡れ性が低い機能液ほど張り出し量が長くなるようにしている。これにより、図４（ｆ）に示すように、付与された各機能液４０，４１，４２を一括乾燥すると、各機能液４０，４１，４２は、より濡れ性がよい張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥され、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが形成される。
【００５７】
また、ステップＳ４において、機能液３０を色要素領域Ａに付与して正孔注入輸送層１６を形成する際に、下層バンク１４の各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃにも正孔注入輸送層１６の一部が残留する場合もある。このような場合でも、各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃの張り出し量Ｌ１〜Ｌ３に応じて、各機能液４０，４１，４２が段差となった各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ上にそれぞれ乗り上がり、必要以上に色要素領域Ａの中央部に寄らないので、一括乾燥後に中央部の膜厚が周縁部に比べて厚くなることを防ぐことができる。これらのメカニズムにより、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状は、各色要素領域Ａ内でほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定となる。そしてステップＳ６へ進む。尚、付与された各機能液４０，４１，４２の乾燥方法は、各機能液４０，４１，４２をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液４０，４１，４２ごとに、乾燥を施してもよい。乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。
【００５８】
図２のステップＳ６は、陰極形成工程である。ステップＳ６では、図４（ｇ）に示すように、素子基板２の各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと上層バンク１５の表面とを覆うように陰極１８を形成する。陰極１８の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層に近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極１８の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極１８の酸化を防止することができる。陰極１８の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【００５９】
このようにして出来上がった基板１は、断面形状がほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する。またこの基板１を用いて有機ＥＬ表示装置を製造すれば、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状がほぼ平坦で膜厚もほぼ一定であるため、各発光層ごとの抵抗がほぼ一定となる。すなわち回路素子部３により発光素子部１７に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層ごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
【００６０】
上記第１の実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）本実施形態の基板１およびその製造方法において、各色要素領域Ａに形成された正孔注入輸送層１６に対する濡れ性が機能液ごとに異なるので、３種の機能液４０，４１，４２に応じて、張り出し量が、Ｌ１＜Ｌ２＜Ｌ３の順に長くなるように設定されている。したがって、各色要素領域Ａに付与された各機能液４０，４１，４２は、下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥されるため、一括乾燥しても各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する発光素子部１７を備えた基板１を提供すること、あるいは製造することができる。
【００６１】
（２）本実施形態の基板１およびその製造方法において、色要素領域Ａを区画するバンクは、下層バンク１４と下層バンク１４の上に形成された上層バンク１５となからなる二層バンク１３である。下層バンク１４は、無機材料のＳｉＯ2であり、上層バンク１５は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、下層バンク１４の表面を親液性とし、上層バンク１５の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を色要素領域Ａの周縁部に行き渡らせることができる。
【００６２】
（３）電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置２０およびその製造方法は、基板１を用いているため、断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する発光素子部１７を備え、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する発光素子部１７の発光ムラや輝度ムラの少ない、高い表示品質を有する有機ＥＬ表示装置２０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００６３】
（第２の実施形態）
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に色層形成材料により形成された色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を例に説明する。
【００６４】
図６は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図６に示すように、液晶表示装置８０は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の色層６４を有する基板としてのカラーフィルタ基板６０と、複数の電極６８を有するガラス基板６７と、カラーフィルタ基板６０とガラス基板６７とに間に狭持された液晶７０とを備えている。このような液晶表示装置８０は、受光型の表示装置であるため、例えばガラス基板６７の背面側に照明装置等を備えて用いられる。尚、本実施形態の液晶表示装置８０は、これに限定されず、例えばガラス基板６７にＴＦＴ（Thin Film Transister）やＴＦＤ（Thin Film Diode）などの半導体素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
【００６５】
ガラス基板６７は、例えばソーダガラス、低アルカリガラスを用いており、その液晶７０側の表面にＩＴＯからなる複数の電極６８を有している。電極６８は、対向するカラーフィルタ基板６０に設けられた電極６６と直交してＹ方向に延在している。すなわち、液晶表示装置８０は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極６６と電極６８とを有している。そして電極６６と電極６８とが直交して重なった部分が表示用の色要素領域となっている。
【００６６】
本実施形態の基板としてのカラーフィルタ基板６０は、透明なガラス基板６１の表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜６２と、遮光膜６２の上に設けられた上層バンク６３とを備えている。また上層バンク６３によって区画された色要素領域にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）に対応する色層６４と、色層６４と上層バンク６３とを覆う平坦化層としてのＯＣ（オーバーコート）層６５とを備えている。電極６６はＩＴＯからなりＯＣ層６５上に形成されている。
【００６７】
色層６４は、上層バンク６３によって実質的に区画された色要素領域に色層形成材料を含む３種（３色）の機能液を付与して形成され、ストライプ状に配置されている。
【００６８】
下層バンクとしての遮光膜６２は、上層バンク６３によって区画された色要素領域の内側に張り出すように設けられ、その張り出し量は、色層６４を形成するための機能液に応じて異なっている。これにより、色層形成材料を含む３種の機能液は、遮光膜６２の張り出し部を含む色要素領域内に濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状に起伏が生じにくい。よって、断面形状がほぼ平坦（一定）で、膜厚もほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂが形成されている。尚、遮光膜６２の開口部６２ａは、各色要素領域ごとにほぼ同一寸法となるように形成されている。したがって、カラーフィルタ基板６０の各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂごとの開口率はほぼ同一である。
【００６９】
液晶表示装置８０は、このようなカラーフィルタ基板６０とガラス基板６７とをギャップ材６９を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。またシール材により液晶７０を２つの基板６０，６７の間に封止したものである。尚、２つの基板６０，６７の液晶７０に面する側には、液晶７０を所定の方向に配向させる配向膜が設けられているが、図６では省略している。また、液晶表示装置８０の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらも省略している。
【００７０】
このような液晶表示装置８０は、断面形状がほぼ平坦（一定）で、膜厚もほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを有する基板としてのカラーフィルタ基板６０を備えているので、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状が不均一なことに起因する色ムラ等が少ない、高い表示品質を有する。
【００７１】
次に本実施形態のカラーフィルタ基板６０の製造方法について図７、図８に基づいて説明する。図７は、カラーフィルタ基板に製造方法を示すフローチャートである。図８（ａ）〜（ｅ）は、カラーフィルタ基板に製造方法を示す概略断面図である。
【００７２】
図７に示すように、本実施形態のカラーフィルタ基板６０の製造方法は、ガラス基板６１の表面に下層バンクとしての遮光膜６２を形成する工程と、遮光膜６２の上に上層バンク６３を形成する工程と、上層バンク６３によって区画された色要素領域を表面処理する工程とを備えている。また表面処理された色要素領域に色要素形成材料としての色層形成材料を含む３種（３色）の機能液を付与して、色層６４を形成する色要素形成工程としての色層形成工程と、上層バンク６３と色層６４とを覆うようにＯＣ層６５を形成する工程とを備えている。
【００７３】
図７のステップＳ１１は、下層バンク形成工程である。ステップＳ１１では、図８（ａ）に示すように、下層バンクとしての遮光膜６２をガラス基板６１上に形成する。遮光膜６２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。遮光膜６２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜をガラス基板６１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部６２ａに対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部６２ａを有する遮光膜６２が形成される。この場合、遮光部分のピッチをＰ１とし、開口部６２ａの幅をＰ２として、いずれも一定の値としておく。そしてステップＳ１２へ進む。
【００７４】
図７のステップＳ１２は、上層バンク形成工程である。ステップＳ１２では、図８（ｂ）に示すように、上層バンク６３を遮光膜６２の上に形成する。上層バンク６３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク６３の形成方法としては、例えば、遮光膜６２が形成されたガラス基板６１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対応した大きさで開口部が設けられたマスクをガラス基板６１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６３を形成する方法が挙げられる。これにより遮光膜６２の幅を一定としたときには、上層バンク６３によって区画される色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の幅を変えることによって、遮光膜６２の色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の内側への張り出し量Ｃ１〜Ｃ３が、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３ごとに異なる二層バンク構造が形成される。この場合、張り出し量の大きさは、Ｃ１＜Ｃ２＜Ｃ３とした。すなわち、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の幅は、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３の順に広くなっている。そしてステップＳ１３へ進む。
【００７５】
図７のステップＳ１３は、表面処理工程である。ステップＳ１３では、第１の実施形態の基板の製造方法におけるステップＳ３と同様にして、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３が親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク６３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そしてステップＳ１４へ進む。
【００７６】
図７のステップＳ１４は、色層形成工程である。ステップＳ１４では、図８（ｃ）に示すように、表面処理された各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３のそれぞれに、対応する機能液７１，７２，７３を付与して色層６４を形成する。機能液７１はＲ（赤色）の色層形成材料を含むものであり、機能液７２はＧ（緑色）の色層形成材料を含むものであり、機能液７３はＢ（青色）の色層形成材料を含むものである。各機能液７１，７２，７３を付与する方法は、第１の実施形態の基板の製造方法におけるステップＳ４と同様にして、液滴吐出ヘッド５０に各機能液７１，７２，７３を充填し、液滴として色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に着弾させる。各機能液７１，７２，７３は、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の面積に応じて必要量が付与され、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３内に濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。
【００７７】
この場合、表面処理された色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する各機能液７１，７２，７３の濡れ性を比較すると、機能液７１＞機能液７２＞機能液７３の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち、各機能液７１，７２，７３ごとに濡れ性が異なっている。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の色層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップＳ１３で表面処理された遮光膜６２の各張り出し部は、ガラス基板６１の表面よりも各機能液７１，７２，７３に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、遮光膜６２の各張り出し量Ｃ１〜Ｃ３を、各機能液７１，７２，７３が付与される色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対応して変えている。すなわち、各機能液７１，７２，７３の色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する濡れ性が低いほど張り出し量を長くしている。これにより、図８（ｄ）に示すように、付与された各機能液７１，７２，７３を一括乾燥させて各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを形成しても、各機能液７１，７２，７３は、より濡れ性がよい張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥される。よって、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状は、ほぼ平坦（一定）となり、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３内でほぼ同一の膜厚を有することとなる。そしてステップＳ１５へ進む。尚、付与された各機能液７１，７２，７３の乾燥方法は、各機能液７１，７２，７３をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液７１，７２，７３ごとに、乾燥を施してもよい。
【００７８】
図７のステップＳ１５は、ＯＣ層形成工程である。ステップＳ１５では、図８（ｅ）に示すように、色層６４と上層バンク６３とを覆うようにＯＣ層６５を形成する。ＯＣ層６５の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層６５は、色層６４が形成されたガラス基板６１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる電極６６を平担化するために設けられている。また、電極６６との密着性を確保するために、ＯＣ層６５の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成してもよい。
【００７９】
このようにして出来上がったカラーフィルタ基板６０は、断面形状と膜厚がほぼ一定な色層６４を有する。またこのカラーフィルタ基板６０を用いて液晶表示装置８０を製造すれば、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状と膜厚がほぼ一定であるため、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂごとの膜厚ムラによる色ムラが少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
【００８０】
第２の実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）本実施形態のカラーフィルタ基板６０およびその製造方法において、遮光膜６２の張り出し量Ｃ１〜Ｃ３は、各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する各機能液７１，７２，７３の濡れ性に応じて異なっている。すなわち濡れ性が低いほどＣ１＜Ｃ２＜Ｃ３となるように設定されている。したがって、各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に付与された各機能液７１，７２，７３は、遮光膜６２の張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、一括乾燥しても各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを有するカラーフィルタ基板６０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００８１】
（２）本実施形態のカラーフィルタ基板６０およびその製造方法において、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３を区画するバンクは、下層バンクとしての遮光膜６２と遮光膜６２の上に形成された上層バンク６３となからなる二層バンクである。遮光膜６２は、無機材料の例えばＣｒであり、上層バンク６３は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、遮光膜６２の表面を親液性とし、上層バンク６３の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の周縁部に行き渡らせることができる。
【００８２】
（３）電気光学装置としての液晶表示装置８０およびその製造方法は、カラーフィルタ基板６０を用いているため、断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な色層６４を備え、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する色ムラの少ない、高い表示品質を有する液晶表示装置８０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００８３】
（第３の実施形態）
次に第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置あるいは第２の実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図９（ａ）は電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図、図９（ｂ）は電子機器としての携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
【００８４】
図９（ａ）に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯電話機１００は、表示部１０１に有機ＥＬ表示装置２０あるいは液晶表示装置８０が搭載されている。
【００８５】
図９（ｂ）に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型情報処理装置２００は、入力用のキーボード２０１を有する情報処理装置本体２０３と、表示部２０２とを備えている。表示部２０２には、有機ＥＬ表示装置２０あるいは液晶表示装置８０が搭載されている。
【００８６】
第３の実施形態の効果は、以下の通りである。
【００８７】
（１）本実施形態の電子機器としての携帯電話機１００および携帯型情報処理装置２００は、第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０あるいは第２の実施形態の液晶表示装置８０を搭載しているため、色ムラ等の表示不具合の少ない、高い表示品質で文字や画像等の情報を確認することが可能な電子機器を提供することができる。
【００８８】
上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
【００８９】
（変形例１）第１の実施形態および第２の実施形態において、色要素領域を区画するバンクは、下層バンクと上層バンクとからなる二層バンクに限定されない。例えば、基板上の複数の色要素領域を覆うように必要な厚みで樹脂層を形成する。その後、色要素領域に対応した位置で所定の開口を有するようにマスギングして、ドライエッチング法で不要部分を除去してバンクを形成する。さらに開口を広げてマスキングして、所定の厚みの樹脂層が残るようにドライエッチングすれば、樹脂層の壁面に段差を有するバンクを形成することができる。このようなバンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えれば、上記第１および第２の実施形態と同様な効果を奏する。
【００９０】
（変形例２）第１の実施形態の基板１および第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０において、色要素の配列は、ストライプ状に限定されない。図１０は、色要素の配列を示す概略図である。上記実施形態のおける色要素の配列は、図１０（ａ）に示すようなストライプ状であるが、図１０（ｂ）に示すモザイク状あるいは、図１０（ｃ）に示すデルタ状であっても、上記実施形態と同様な二層バンク構造が可能であり、その効果を奏する。
【００９１】
（変形例３）第１の実施形態の基板１、第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０およびこれらの製造方法において、下層バンク１４の張り出し量Ｌ１〜Ｌ３および遮光膜６２の張り出し量Ｃ１〜Ｃ３は、色要素領域に付与される機能液ごとに異なることに限定されない。例えば、３種類のうち１種の機能液についてのみ他と異なる設定としてもよい。
【００９２】
（変形例４）色要素を形成するための機能液のすべての種類に対して、バンクの段差あるいは下層バンクの張り出し部が形成されている必要はない。例えば、付与される色要素領域に対して濡れ性が一番よい機能液に対しては、張り出し量を「０」としてもよい。
【００９３】
（変形例５）第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０およびこれらの製造方法において、下層バンクとしての遮光膜６２および上層バンク６３の形成状態は、これに限定されない。例えば、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３を一定の寸法として、遮光膜６２の開口部６２ａの寸法を変えれば、色要素としての色層６４を形成する各機能液７１，７２，７３に対応して張り出し量が異なる二層バンクが形成された基板としてのカラーフィルタ基板６０を提供することができる。すなわち、色層６４ごとに開口率が異なるカラーフィルタ基板６０を提供することができる。
【００９４】
（変形例６）段差は、バンクの壁面に複数存在してもよい。この場合、複数の段差により階段状に張り出した部分によって張り出し量は規定されることになる。例えば第２の実施形態において、開口部６２ａの寸法を一定にすると共に、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の寸法も一定とする場合は、遮光膜６２上に張り出すようにもう一層の下層バンクを設け、該下層バンクの色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の内側への張り出し量を各機能液７１，７２，７３に応じて設定すればよい。
【００９５】
（変形例７）第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０は、素子基板２に発光素子部１７を駆動するための薄膜トランジスタ３ａを有する回路素子部３を設けたが、これに限定されない。例えば、電極１２と陰極１８とが互いに直交するように格子状に配置して単純マトリクス駆動とすることも可能である。あるいは、封止基板１９の替わりに第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０を配置して、発光素子部１７を単一の白色発光とすれば、色ムラの少ないカラー表示が可能である。
【００９６】
（変形例８）第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０あるいは第２の実施形態の液晶表示装置８０を搭載した電子機器としては、第３の実施形態である携帯電話機１００、携帯型情報処理装置２００に限定されない。例えば、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯端末機器、携帯型パーソナルコンピュータ、ワープロ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を用いる機器が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図２】基板の製造方法を示すフローチャート。
【図３】（ａ）〜（ｄ）基板の製造方法を示す概略断面図。
【図４】（ｅ）〜（ｇ）基板の製造方法を示す概略断面図。
【図５】液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図。
【図６】液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図７】カラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。
【図８】（ａ）〜（ｅ）カラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図。
【図９】（ａ）携帯電話機を示す概略斜視図、（ｂ）携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。
【図１０】色要素の配列を示す概略図。
【符号の説明】
【００９８】
１…基板、２…基板としての素子基板、１２…電極、１３…バンクとしての二層バンク、１４…下層バンク、１５…上層バンク、１６…正孔注入輸送層、１７…発光素子としての発光素子部、２０…電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、４０，４１，４２…発光層形成材料を含む機能液、６０…基板としてのカラーフィルタ基板、６１，６７…基板としてのガラス基板、６２…下層バンクとしての遮光膜、６４…色層、７１，７２，７３…色層形成材料を含む機能液、８０…液晶表示装置、１００…電子機器としての携帯電話機、２００…電子機器としての携帯型情報処理装置、Ａ…色要素領域、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…色要素領域、Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３…下層バンクとしての遮光膜の張り出し量、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…下層バンクの張り出し量。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色要素を有する基板および基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置および電気光学装置の製造方法、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の１つとして、有機ＥＬ素子を有する基板を用いた自発光型の有機ＥＬ表示装置がある。また、基板上の電極（陽極）を有する複数の色要素領域に、正孔注入層と発光層とを形成する材料を含むインク組成物（機能液）を塗布して有機ＥＬ素子を製造する方法が知られている（特許文献１）。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子の製造方法では、複数の色要素領域は、隔壁部（バンク）によって区画されており、前記インク組成物を塗布した際に、隣接する色要素領域に流出しないように、バンクの表面は、撥インク処理（撥液処理）が施されている。また、バンクによって区画された色要素領域は、インク組成物がよく濡れ拡がるように、親インク処理（親液処理）が施されている。
【０００４】
また、このようなバンクとして、より具体的には、無機材料からなる下層バンクと、有機材料からなる上層バンクとによる二層バンク構造とすることが知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３０５０７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のようなバンクを有する基板において、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して色要素を形成しようとする場合、バンクで区画された色要素領域に対する各機能液の濡れ性は、必ずしも一定ではない。例えば、発光層形成材料を含む複数種の機能液を複数の色要素領域に付与して複数種の発光層を形成しようとする場合、親液処理された色要素領域に正孔注入層が先に形成されているため、付与される機能液の濡れ性が正孔注入層に対して機能液ごとに異なると、乾燥後の発光層の表面に起伏が生じ、断面形状が色要素領域ごとに異なるという課題がある。また、このような課題を改善するために、機能液ごとに乾燥条件を変える方法や正孔注入層の表面を改質する方法が考えられるが、発光層の形成工程が煩雑になってしまう。
【０００７】
また、上記従来の方法で形成された有機ＥＬ素子を有する基板を用いて、有機ＥＬ表示装置を製造すれば、各色要素領域において発光層の断面形状が異なることによる輝度ムラ、色ムラ等が発生する惧れがある。
【０００８】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、断面形状がほぼ一定した複数の色要素を有する基板およびこの基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置およびその製造方法、電気光学装置を搭載した電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に形成された色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異なることを特徴とする。
【００１０】
色要素の電気光学的な特性は、形成された色要素の断面形状によって左右され、断面形状がほぼ一定、好ましくはより平坦な色要素の形状が求められる。この構成によれば、複数の色要素領域を区画するバンクの壁面に段差を有している。したがって、例えば、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する場合、複数の色要素領域に付与された各機能液の一部は、段差の表面に濡れ拡がり、他の機能液は段差で区画された領域に濡れ拡がる。その後、濡れ拡がった機能液を乾燥させて形成された色要素の断面形状は、段差の表面と段差で区画された領域とでは、それぞれに濡れ拡がった機能液の状態によって異なる。よって、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を、複数の色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異ならせることにより、形成後の色要素の断面形状を調整することができる。そして、上記張り出し量を適宜設定することにより、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
【００１１】
また本発明の他の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なることを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なっている。したがって、色要素領域に対して各機能液の濡れ性が異なっていても、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えることにより、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を複数の色要素領域ごとに調整することができる。例えば、機能液に対して高い撥液性を示すバンクで区画された色要素領域に機能液を付与すれば、付与された機能液は、バンクにより弾かれる。弾かれた機能液は、色要素領域の中央側に寄ってゆくため、乾燥後の色要素の断面形状は、中央側の膜厚が厚い状態になり易い。この場合、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を少なくしてやれば、バンクの段差で弾かれて色要素領域の中央側に寄る機能液の量が減少する。よって、乾燥後の色要素の断面形状をより平坦な状態にすることができる。すなわち、各機能液ごとのバンクや色要素領域に対する濡れ性を考慮して、バンクの段差が色要素領域の内側に張り出す量を各機能液ごとに設定すれば、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を調整することができ、複数の色要素領域において乾燥後の断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
【００１３】
これらの本発明の基板において、バンクは、積層構造を有し、色要素領域を区画する上層バンクと、色要素領域の内側に張り出して上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、下層バンクは、上層バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように設けられて段差を形成している。したがって、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせることにより、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを配置することができる。また、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを設けることもできる。尚、下層バンクと上層バンクは、それ自体が一層からなるものでもよいし、複層からなるものでもよい。例えば、３層積層構造である場合、下二層を下層バンクとし上一層を上層バンクとしたり、その反対に、下一層を下層バンクとし上二層を上層バンクとすることができる。
【００１５】
また、これらの本発明の基板において、上層バンクの表面は、機能液に対して撥液性を有し、下層バンクの少なくとも段差を形成している部分は、上層バンクよりも表面が親液性であることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、複数の色要素領域に付与される各機能液は、撥液性を有する上層バンクの表面によって弾かれ、親液性を有する下層バンクの段差の部分で、よく濡れ拡がる。したがって、色要素領域内に隈なく各機能液を行き渡らせることができる。
【００１７】
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に対応して基板上に設けられた電極と、電極の上に張り出したバンクの段差で区画された領域に配置された正孔注入輸送層と、色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成されると共に、正孔注入輸送層の上に積層される複数種の発光層を備え、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、段差で区画された正孔注入輸送層上において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる発光層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の発光層を有する基板を提供することができる。
【００１９】
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色層を備え、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、色要素領域において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる色層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の色層を有する基板を提供することができる。
【００２１】
本発明の電気光学装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を用いているため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を提供することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を用いているため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置としての液晶表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を用いているため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を提供することができる。
【００２４】
本発明の電子機器は、上記発明の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。この構成によれば、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置、または各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、あるいは各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置が搭載されている。したがって、表示ムラの少ない高い表示品質を有する電気光学装置で情報を確認することができる電子機器を提供することができる。
【００２５】
本発明の基板の製造方法は、基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する色要素形成工程とを備え、バンク形成工程では、バンクの段差を、色要素領域の内側に張り出すように形成し、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを形成することを特徴とする。
【００２６】
この方法によれば、バンク形成工程では、バンクの段差は、バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように形成され、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが形成される。したがって、色要素形成工程で、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成すれば、付与された各機能液は、バンクの段差の張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状を張り出し量によって調整された色要素を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を製造することができる。
【００２７】
また、上記バンク形成工程は、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、上層バンク形成工程では、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクを形成することを特徴とする。
【００２８】
この方法によれば、下層バンク形成工程では、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクが形成され、上層バンク形成工程では、下層バンクの上に、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクが形成される。したがって、バンク形成工程において、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせるように下層バンクと上層バンクとを形成すれば、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが配置された基板を製造することができる。さらに、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを形成することもできる。
【００２９】
また本発明の基板の製造方法は、基板上の複数の色要素領域にそれぞれ電極を形成する電極形成工程と、電極に積層するように正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とをさらに備え、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して、複数種の発光層を形成することを特徴とする。
【００３０】
この方法によれば、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の発光層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の発光層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を製造することができる。
【００３１】
また、上記色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層を形成することを特徴とする。
【００３２】
この方法によれば、色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の色層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を製造することができる。
【００３３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の色要素を有する基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素が形成されるため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を製造することができる。
【００３４】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、複数の発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層が形成されるため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【００３５】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層が形成されるため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
（第１の実施形態）
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に有機ＥＬ発光材料により形成された発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を例に説明する。
【００３７】
図１は、有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図１に示すように、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置２０は、発光素子部１７を有する基板１と、基板１と空間２１を隔てて封着された封止基板１９とを備えている。また基板１は、素子基板２上に回路素子部３を備えており、発光素子部１７は、回路素子部３上に重畳して形成され、回路素子部３により駆動されるものである。発光素子部１７には、３色の発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂがそれぞれの色要素領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。基板１は、３色の発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応する３つの色要素領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板２の回路素子部３上にマトリクス状に配置されたものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置２０は、発光素子部１７からの発光が素子基板２側に出射するものである。
【００３８】
封止基板１９は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して基板１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤１９ａが貼り付けられている。ゲッター剤１９ａは、基板１と封止基板１９との間の空間２１に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部１７が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤１９ａは省略しても良い。
【００３９】
本実施形態の基板１は、素子基板２の回路素子部３上に複数の色要素領域Ａを有するものであって、複数の色要素領域Ａを区画すると共に、壁面に段差を有するバンクとしての二層バンク１３と、複数の色要素領域Ａに形成された電極１２と、電極１２に積層された正孔注入輸送層１６とを備えている。また複数の色要素領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の機能液を付与して形成された発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する色要素としての発光素子部１７を備えている。二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを実質的に区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。また下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液に応じて異なっている。
【００４０】
なぜならば、発光層形成材料を含む３種（３色）の機能液をそれぞれ色要素領域Ａに付与した後に、一括乾燥させて各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを形成する場合、色要素領域Ａに対する各機能液の濡れ性が異なるために、乾燥後の断面形状が不均一となることを改善するものである。下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量を機能液に応じて変えることにより、色要素領域Ａに付与された各機能液のレベリング状態は、ほぼ一定となる。ゆえに乾燥後の各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状をほぼ一定とすることが可能となる。本実施形態では、下層バンク１４の張り出し量は、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応して、発光層１７Ｂが形成された色要素領域においてもっとも長く張り出し、次に発光層１７Ｇ、発光層１７Ｒの順となるように設定されている。
【００４１】
素子基板２は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ａが形成され、この下地保護膜２ａ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜４が形成されている。尚、半導体膜４には、ソース領域４ａ及びドレイン領域４ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域４ｃとなっている。さらに下地保護膜２ａ及び半導体膜４を覆う透明なゲート絶縁膜５が形成され、ゲート絶縁膜５上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６が形成され、ゲート電極６及びゲート絶縁膜５上には透明な第１層間絶縁膜７と第２層間絶縁膜８が形成されている。ゲート電極６は半導体膜４のチャネル領域４ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜７および第２層間絶縁膜８を貫通して、半導体膜４のソース領域４ａ、ドレイン領域４ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール９，１０が形成されている。そして、第２層間絶縁膜８上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明な電極１２が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール９がこの電極１２に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール１０が電源線１１に接続されている。このようにして、回路素子部３には、各電極１２に接続された駆動用の薄膜トランジスタ３ａが形成されている。尚、回路素子部３には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１ではこれらの図示を省略している。
【００４２】
発光素子部１７は、陽極としての電極１２と、電極１２上に順次積層された正孔注入輸送層１６、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと、上層バンク１５と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂとを覆うように積層された陰極１８とを備えている。尚、陰極１８と封止基板１９およびゲッター剤１９ａを透明な材料で構成すれば、封止基板１９側から発光する光を出射させることができる。
【００４３】
有機ＥＬ表示装置２０は、ゲート電極６に接続された走査線（図示省略）とソース領域４ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ３ａのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ３ａのチャネル領域４ｃを介して、電源線１１から電極１２に電流が流れ、更に正孔注入輸送層１６と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂとを介して陰極１８に電流が流れる。各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置２０は、このような発光素子部１７の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状がほぼ一定な基板１を備えているため、断面形状が不均一による発光ムラ、輝度ムラ等の表示不具合の少ない高い表示品質を有している。
【００４４】
次に本実施形態の基板の製造方法について図２〜図５に基づいて説明する。図２は、基板の製造方法を示すフローチャート、図３（ａ）〜（ｄ）および図４（ｅ）〜（ｇ）は、基板の製造方法を示す概略断面図、図５は、液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図である。尚、図３（ａ）〜（ｄ）および図４（ｅ）〜（ｇ）においては、素子基板２上に形成された回路素子部３は、図示を省略している。
【００４５】
図２に示すように、基板１の製造方法は、回路素子部３と電極１２とが形成された素子基板２の複数の色要素領域Ａの内側に張り出すように、下層バンク１４を形成する下層バンク形成工程と、下層バンク１４の上に形成され、複数の色要素領域Ａを実質的に区画するように、上層バンク１５を形成する上層バンク形成工程とを備えている。また上層バンク１５で区画された色要素領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された色要素領域Ａに正孔注入輸送層１６を形成する工程と、正孔注入輸送層１６が形成された色要素領域Ａに、色要素形成材料としての発光層形成材料を含む３種の機能液を付与して、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを形成する色要素形成工程としての発光層形成工程とを備えている。さらに、上層バンク１５と各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを覆うように陰極１８を形成する工程を備えている。
【００４６】
図２のステップＳ１は、下層バンク形成工程である。ステップＳ１では、図３（ａ）に示すように素子基板２の複数の電極１２の一部を覆うように下層バンク１４を形成する。下層バンク１４の材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク１４の形成方法としては、例えば、後に形成される各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂに対応して、各電極１２の表面領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃをそれぞれレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板２を真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク１４を形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。表面領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃの大きさは、１２ａ＞１２ｂ＞１２ｃとなっているので、電極１２上に乗り上げた下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃの大きさは、１４ａ＜１４ｂ＜１４ｃとなっている。尚、下層バンク１４は、ＳｉＯ2により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有していおり、後に正孔注入輸送層および発光層が積層されても発光を阻害することはない。そしてステップＳ２へ進む。
【００４７】
図２のステップＳ２は、上層バンク形成工程である。ステップＳ２では、図３（ｂ）に示すように、各色要素領域Ａを区画すると共に、下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、色要素領域Ａに付与される機能液に応じて異なるように、下層バンク１４の上に上層バンク１５を形成する。上層バンク１５の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。上層バンク１５の形成方法としては、例えば、下層バンク１４が形成された素子基板２の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板２と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク１５を形成する方法が挙げられる。これにより上層バンク１５の形成領域の幅を一定とすれば、下層バンク１４の色要素領域Ａの内側への張り出し量が、各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃに対応して、Ｌ１＜Ｌ２＜Ｌ３となった二層バンク１３が形成される。そして、ステップＳ３へ進む。
【００４８】
図２のステップＳ３は、色要素領域Ａを表面処理する工程である。ステップＳ３では、二層バンク１３が形成された素子基板２の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極１２の表面、下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃおよび上層バンク１５の表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。つぎにＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク１５の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、ステップＳ４へ進む。
【００４９】
図２のステップＳ４は、正孔注入輸送層形成工程である。ステップＳ４では、図３（ｃ）に示すように、正孔注入輸送層形成材料を含む機能液３０を色要素領域Ａに付与する。機能液３０を付与する方法としては、機能液３０を液滴として吐出可能な液滴吐出ヘッド５０と、この液滴吐出ヘッド５０を素子基板２に対向させて、液滴吐出ヘッド５０と素子基板２とを相対移動可能な走査機構を備えた液滴吐出装置（図示省略）を用いる。
【００５０】
ここで液滴吐出ヘッド５０について説明しておく。図５に示すように液滴吐出ヘッド５０は、液滴が吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、複数のキャビティ５５に対応する振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。
【００５１】
キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有すると共に、このキャビティ５５に機能液３０を充填するための流路５６，５７を有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、機能液３０が貯留されるリザーバの役目を果たす。
【００５２】
機能液３０は、図示しない供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。
【００５３】
振動子５９は例えば圧電素子（ピエゾ素子）であり、外部から駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加してキャビティ５５に機能液３０をリザーバから吸引し、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板５８は基に戻り充填された機能液３０を加圧する。これにより、ノズル５２から機能液３０を液滴として吐出できる構造となっている。
【００５４】
図３（ｃ）に示すように液滴吐出ヘッド５０から吐出された機能液３０は、液滴として素子基板２の電極１２に着弾して濡れ拡がる。機能液３０は色要素領域Ａの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面張力で盛り上がった状態となる。そして図３（ｄ）に示すように、素子基板２を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液３０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極１２の二層バンク１３の段差により区画された領域に正孔注入輸送層１６が形成される。本実施形態では、正孔注入輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene Dioxy Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。尚、この場合、各色要素領域Ａに同一材料からなる正孔注入輸送層１６を形成したが、後の発光層の形成材料に対応して正孔注入輸送層の材料を色要素領域Ａごとに変えてもよい。そしてステップＳ５へ進む。
【００５５】
図２のステップＳ５は、発光層形成工程である。ステップＳ５では、図４（ｅ）に示すように、複数の色要素領域Ａに発光層形成材料を含む３種の機能液４０，４１，４２を付与する。機能液４０，４１，４２を付与する方法としては、先のステップＳ４と同様にして、液滴吐出ヘッド５０に各機能液４０，４１，４２を充填して、それぞれ液滴として対応する色要素領域Ａに着弾させる。機能液４０は発光層１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、機能液４１は発光層１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、機能液４２は発光層１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各機能液４０，４１，４２は、色要素領域Ａに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。
【００５６】
この場合、正孔注入輸送層１６に対する各機能液４０，４１，４２の濡れ性を比較すると、機能液４０＞機能液４１＞機能液４２の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち各機能液４０，４１，４２ごとに濡れ性が異なる。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の発光層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップＳ３で表面処理された下層バンク１４の各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃは、正孔注入輸送層１６の表面よりも各機能液４０，４１，４２に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、下層バンク１４の各張り出し量Ｌ１〜Ｌ３を、各機能液４０，４１，４２が付与される色要素領域Ａに対応して変えている。この場合、正孔注入輸送層１６に対する濡れ性が低い機能液ほど張り出し量が長くなるようにしている。これにより、図４（ｆ）に示すように、付与された各機能液４０，４１，４２を一括乾燥すると、各機能液４０，４１，４２は、より濡れ性がよい張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥され、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが形成される。
【００５７】
また、ステップＳ４において、機能液３０を色要素領域Ａに付与して正孔注入輸送層１６を形成する際に、下層バンク１４の各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃにも正孔注入輸送層１６の一部が残留する場合もある。このような場合でも、各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃの張り出し量Ｌ１〜Ｌ３に応じて、各機能液４０，４１，４２が段差となった各張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ上にそれぞれ乗り上がり、必要以上に色要素領域Ａの中央部に寄らないので、一括乾燥後に中央部の膜厚が周縁部に比べて厚くなることを防ぐことができる。これらのメカニズムにより、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状は、各色要素領域Ａ内でほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定となる。そしてステップＳ６へ進む。尚、付与された各機能液４０，４１，４２の乾燥方法は、各機能液４０，４１，４２をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液４０，４１，４２ごとに、乾燥を施してもよい。乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。
【００５８】
図２のステップＳ６は、陰極形成工程である。ステップＳ６では、図４（ｇ）に示すように、素子基板２の各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと上層バンク１５の表面とを覆うように陰極１８を形成する。陰極１８の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層に近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極１８の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極１８の酸化を防止することができる。陰極１８の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【００５９】
このようにして出来上がった基板１は、断面形状がほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する。またこの基板１を用いて有機ＥＬ表示装置を製造すれば、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状がほぼ平坦で膜厚もほぼ一定であるため、各発光層ごとの抵抗がほぼ一定となる。すなわち回路素子部３により発光素子部１７に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層ごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
【００６０】
上記第１の実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）本実施形態の基板１およびその製造方法において、各色要素領域Ａに形成された正孔注入輸送層１６に対する濡れ性が機能液ごとに異なるので、３種の機能液４０，４１，４２に応じて、張り出し量が、Ｌ１＜Ｌ２＜Ｌ３の順に長くなるように設定されている。したがって、各色要素領域Ａに付与された各機能液４０，４１，４２は、下層バンク１４の張り出し部１４ａ，１４ｂ，１４ｃまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥されるため、一括乾燥しても各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する発光素子部１７を備えた基板１を提供すること、あるいは製造することができる。
【００６１】
（２）本実施形態の基板１およびその製造方法において、色要素領域Ａを区画するバンクは、下層バンク１４と下層バンク１４の上に形成された上層バンク１５となからなる二層バンク１３である。下層バンク１４は、無機材料のＳｉＯ2であり、上層バンク１５は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、下層バンク１４の表面を親液性とし、上層バンク１５の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を色要素領域Ａの周縁部に行き渡らせることができる。
【００６２】
（３）電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置２０およびその製造方法は、基板１を用いているため、断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを有する発光素子部１７を備え、各発光層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する発光素子部１７の発光ムラや輝度ムラの少ない、高い表示品質を有する有機ＥＬ表示装置２０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００６３】
（第２の実施形態）
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に色層形成材料により形成された色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を例に説明する。
【００６４】
図６は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図６に示すように、液晶表示装置８０は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の色層６４を有する基板としてのカラーフィルタ基板６０と、複数の電極６８を有するガラス基板６７と、カラーフィルタ基板６０とガラス基板６７とに間に狭持された液晶７０とを備えている。このような液晶表示装置８０は、受光型の表示装置であるため、例えばガラス基板６７の背面側に照明装置等を備えて用いられる。尚、本実施形態の液晶表示装置８０は、これに限定されず、例えばガラス基板６７にＴＦＴ（Thin Film Transister）やＴＦＤ（Thin Film Diode）などの半導体素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
【００６５】
ガラス基板６７は、例えばソーダガラス、低アルカリガラスを用いており、その液晶７０側の表面にＩＴＯからなる複数の電極６８を有している。電極６８は、対向するカラーフィルタ基板６０に設けられた電極６６と直交してＹ方向に延在している。すなわち、液晶表示装置８０は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極６６と電極６８とを有している。そして電極６６と電極６８とが直交して重なった部分が表示用の色要素領域となっている。
【００６６】
本実施形態の基板としてのカラーフィルタ基板６０は、透明なガラス基板６１の表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜６２と、遮光膜６２の上に設けられた上層バンク６３とを備えている。また上層バンク６３によって区画された色要素領域にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）に対応する色層６４と、色層６４と上層バンク６３とを覆う平坦化層としてのＯＣ（オーバーコート）層６５とを備えている。電極６６はＩＴＯからなりＯＣ層６５上に形成されている。
【００６７】
色層６４は、上層バンク６３によって実質的に区画された色要素領域に色層形成材料を含む３種（３色）の機能液を付与して形成され、ストライプ状に配置されている。
【００６８】
下層バンクとしての遮光膜６２は、上層バンク６３によって区画された色要素領域の内側に張り出すように設けられ、その張り出し量は、色層６４を形成するための機能液に応じて異なっている。これにより、色層形成材料を含む３種の機能液は、遮光膜６２の張り出し部を含む色要素領域内に濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状に起伏が生じにくい。よって、断面形状がほぼ平坦（一定）で、膜厚もほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂが形成されている。尚、遮光膜６２の開口部６２ａは、各色要素領域ごとにほぼ同一寸法となるように形成されている。したがって、カラーフィルタ基板６０の各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂごとの開口率はほぼ同一である。
【００６９】
液晶表示装置８０は、このようなカラーフィルタ基板６０とガラス基板６７とをギャップ材６９を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。またシール材により液晶７０を２つの基板６０，６７の間に封止したものである。尚、２つの基板６０，６７の液晶７０に面する側には、液晶７０を所定の方向に配向させる配向膜が設けられているが、図６では省略している。また、液晶表示装置８０の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらも省略している。
【００７０】
このような液晶表示装置８０は、断面形状がほぼ平坦（一定）で、膜厚もほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを有する基板としてのカラーフィルタ基板６０を備えているので、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状が不均一なことに起因する色ムラ等が少ない、高い表示品質を有する。
【００７１】
次に本実施形態のカラーフィルタ基板６０の製造方法について図７、図８に基づいて説明する。図７は、カラーフィルタ基板に製造方法を示すフローチャートである。図８（ａ）〜（ｅ）は、カラーフィルタ基板に製造方法を示す概略断面図である。
【００７２】
図７に示すように、本実施形態のカラーフィルタ基板６０の製造方法は、ガラス基板６１の表面に下層バンクとしての遮光膜６２を形成する工程と、遮光膜６２の上に上層バンク６３を形成する工程と、上層バンク６３によって区画された色要素領域を表面処理する工程とを備えている。また表面処理された色要素領域に色要素形成材料としての色層形成材料を含む３種（３色）の機能液を付与して、色層６４を形成する色要素形成工程としての色層形成工程と、上層バンク６３と色層６４とを覆うようにＯＣ層６５を形成する工程とを備えている。
【００７３】
図７のステップＳ１１は、下層バンク形成工程である。ステップＳ１１では、図８（ａ）に示すように、下層バンクとしての遮光膜６２をガラス基板６１上に形成する。遮光膜６２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。遮光膜６２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜をガラス基板６１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部６２ａに対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部６２ａを有する遮光膜６２が形成される。この場合、遮光部分のピッチをＰ１とし、開口部６２ａの幅をＰ２として、いずれも一定の値としておく。そしてステップＳ１２へ進む。
【００７４】
図７のステップＳ１２は、上層バンク形成工程である。ステップＳ１２では、図８（ｂ）に示すように、上層バンク６３を遮光膜６２の上に形成する。上層バンク６３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク６３の形成方法としては、例えば、遮光膜６２が形成されたガラス基板６１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対応した大きさで開口部が設けられたマスクをガラス基板６１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６３を形成する方法が挙げられる。これにより遮光膜６２の幅を一定としたときには、上層バンク６３によって区画される色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の幅を変えることによって、遮光膜６２の色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の内側への張り出し量Ｃ１〜Ｃ３が、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３ごとに異なる二層バンク構造が形成される。この場合、張り出し量の大きさは、Ｃ１＜Ｃ２＜Ｃ３とした。すなわち、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の幅は、Ｄ１＜Ｄ２＜Ｄ３の順に広くなっている。そしてステップＳ１３へ進む。
【００７５】
図７のステップＳ１３は、表面処理工程である。ステップＳ１３では、第１の実施形態の基板の製造方法におけるステップＳ３と同様にして、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３が親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク６３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そしてステップＳ１４へ進む。
【００７６】
図７のステップＳ１４は、色層形成工程である。ステップＳ１４では、図８（ｃ）に示すように、表面処理された各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３のそれぞれに、対応する機能液７１，７２，７３を付与して色層６４を形成する。機能液７１はＲ（赤色）の色層形成材料を含むものであり、機能液７２はＧ（緑色）の色層形成材料を含むものであり、機能液７３はＢ（青色）の色層形成材料を含むものである。各機能液７１，７２，７３を付与する方法は、第１の実施形態の基板の製造方法におけるステップＳ４と同様にして、液滴吐出ヘッド５０に各機能液７１，７２，７３を充填し、液滴として色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に着弾させる。各機能液７１，７２，７３は、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の面積に応じて必要量が付与され、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３内に濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。
【００７７】
この場合、表面処理された色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する各機能液７１，７２，７３の濡れ性を比較すると、機能液７１＞機能液７２＞機能液７３の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち、各機能液７１，７２，７３ごとに濡れ性が異なっている。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の色層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップＳ１３で表面処理された遮光膜６２の各張り出し部は、ガラス基板６１の表面よりも各機能液７１，７２，７３に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、遮光膜６２の各張り出し量Ｃ１〜Ｃ３を、各機能液７１，７２，７３が付与される色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対応して変えている。すなわち、各機能液７１，７２，７３の色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する濡れ性が低いほど張り出し量を長くしている。これにより、図８（ｄ）に示すように、付与された各機能液７１，７２，７３を一括乾燥させて各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを形成しても、各機能液７１，７２，７３は、より濡れ性がよい張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥される。よって、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状は、ほぼ平坦（一定）となり、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３内でほぼ同一の膜厚を有することとなる。そしてステップＳ１５へ進む。尚、付与された各機能液７１，７２，７３の乾燥方法は、各機能液７１，７２，７３をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液７１，７２，７３ごとに、乾燥を施してもよい。
【００７８】
図７のステップＳ１５は、ＯＣ層形成工程である。ステップＳ１５では、図８（ｅ）に示すように、色層６４と上層バンク６３とを覆うようにＯＣ層６５を形成する。ＯＣ層６５の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層６５は、色層６４が形成されたガラス基板６１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる電極６６を平担化するために設けられている。また、電極６６との密着性を確保するために、ＯＣ層６５の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成してもよい。
【００７９】
このようにして出来上がったカラーフィルタ基板６０は、断面形状と膜厚がほぼ一定な色層６４を有する。またこのカラーフィルタ基板６０を用いて液晶表示装置８０を製造すれば、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状と膜厚がほぼ一定であるため、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂごとの膜厚ムラによる色ムラが少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
【００８０】
第２の実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）本実施形態のカラーフィルタ基板６０およびその製造方法において、遮光膜６２の張り出し量Ｃ１〜Ｃ３は、各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に対する各機能液７１，７２，７３の濡れ性に応じて異なっている。すなわち濡れ性が低いほどＣ１＜Ｃ２＜Ｃ３となるように設定されている。したがって、各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３に付与された各機能液７１，７２，７３は、遮光膜６２の張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、一括乾燥しても各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂを有するカラーフィルタ基板６０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００８１】
（２）本実施形態のカラーフィルタ基板６０およびその製造方法において、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３を区画するバンクは、下層バンクとしての遮光膜６２と遮光膜６２の上に形成された上層バンク６３となからなる二層バンクである。遮光膜６２は、無機材料の例えばＣｒであり、上層バンク６３は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、遮光膜６２の表面を親液性とし、上層バンク６３の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を各色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の周縁部に行き渡らせることができる。
【００８２】
（３）電気光学装置としての液晶表示装置８０およびその製造方法は、カラーフィルタ基板６０を用いているため、断面形状がほぼ平坦（一定）で、且つ膜厚がほぼ同一な色層６４を備え、各色層６４Ｒ，６４Ｇ，６４Ｂの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する色ムラの少ない、高い表示品質を有する液晶表示装置８０を提供すること、あるいは製造することができる。
【００８３】
（第３の実施形態）
次に第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置あるいは第２の実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図９（ａ）は電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図、図９（ｂ）は電子機器としての携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
【００８４】
図９（ａ）に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯電話機１００は、表示部１０１に有機ＥＬ表示装置２０あるいは液晶表示装置８０が搭載されている。
【００８５】
図９（ｂ）に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型情報処理装置２００は、入力用のキーボード２０１を有する情報処理装置本体２０３と、表示部２０２とを備えている。表示部２０２には、有機ＥＬ表示装置２０あるいは液晶表示装置８０が搭載されている。
【００８６】
第３の実施形態の効果は、以下の通りである。
【００８７】
（１）本実施形態の電子機器としての携帯電話機１００および携帯型情報処理装置２００は、第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０あるいは第２の実施形態の液晶表示装置８０を搭載しているため、色ムラ等の表示不具合の少ない、高い表示品質で文字や画像等の情報を確認することが可能な電子機器を提供することができる。
【００８８】
上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
【００８９】
（変形例１）第１の実施形態および第２の実施形態において、色要素領域を区画するバンクは、下層バンクと上層バンクとからなる二層バンクに限定されない。例えば、基板上の複数の色要素領域を覆うように必要な厚みで樹脂層を形成する。その後、色要素領域に対応した位置で所定の開口を有するようにマスギングして、ドライエッチング法で不要部分を除去してバンクを形成する。さらに開口を広げてマスキングして、所定の厚みの樹脂層が残るようにドライエッチングすれば、樹脂層の壁面に段差を有するバンクを形成することができる。このようなバンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えれば、上記第１および第２の実施形態と同様な効果を奏する。
【００９０】
（変形例２）第１の実施形態の基板１および第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０において、色要素の配列は、ストライプ状に限定されない。図１０は、色要素の配列を示す概略図である。上記実施形態のおける色要素の配列は、図１０（ａ）に示すようなストライプ状であるが、図１０（ｂ）に示すモザイク状あるいは、図１０（ｃ）に示すデルタ状であっても、上記実施形態と同様な二層バンク構造が可能であり、その効果を奏する。
【００９１】
（変形例３）第１の実施形態の基板１、第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０およびこれらの製造方法において、下層バンク１４の張り出し量Ｌ１〜Ｌ３および遮光膜６２の張り出し量Ｃ１〜Ｃ３は、色要素領域に付与される機能液ごとに異なることに限定されない。例えば、３種類のうち１種の機能液についてのみ他と異なる設定としてもよい。
【００９２】
（変形例４）色要素を形成するための機能液のすべての種類に対して、バンクの段差あるいは下層バンクの張り出し部が形成されている必要はない。例えば、付与される色要素領域に対して濡れ性が一番よい機能液に対しては、張り出し量を「０」としてもよい。
【００９３】
（変形例５）第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０およびこれらの製造方法において、下層バンクとしての遮光膜６２および上層バンク６３の形成状態は、これに限定されない。例えば、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３を一定の寸法として、遮光膜６２の開口部６２ａの寸法を変えれば、色要素としての色層６４を形成する各機能液７１，７２，７３に対応して張り出し量が異なる二層バンクが形成された基板としてのカラーフィルタ基板６０を提供することができる。すなわち、色層６４ごとに開口率が異なるカラーフィルタ基板６０を提供することができる。
【００９４】
（変形例６）段差は、バンクの壁面に複数存在してもよい。この場合、複数の段差により階段状に張り出した部分によって張り出し量は規定されることになる。例えば第２の実施形態において、開口部６２ａの寸法を一定にすると共に、色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の寸法も一定とする場合は、遮光膜６２上に張り出すようにもう一層の下層バンクを設け、該下層バンクの色要素領域Ｄ１〜Ｄ３の内側への張り出し量を各機能液７１，７２，７３に応じて設定すればよい。
【００９５】
（変形例７）第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０は、素子基板２に発光素子部１７を駆動するための薄膜トランジスタ３ａを有する回路素子部３を設けたが、これに限定されない。例えば、電極１２と陰極１８とが互いに直交するように格子状に配置して単純マトリクス駆動とすることも可能である。あるいは、封止基板１９の替わりに第２の実施形態のカラーフィルタ基板６０を配置して、発光素子部１７を単一の白色発光とすれば、色ムラの少ないカラー表示が可能である。
【００９６】
（変形例８）第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置２０あるいは第２の実施形態の液晶表示装置８０を搭載した電子機器としては、第３の実施形態である携帯電話機１００、携帯型情報処理装置２００に限定されない。例えば、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯端末機器、携帯型パーソナルコンピュータ、ワープロ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を用いる機器が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図２】基板の製造方法を示すフローチャート。
【図３】（ａ）〜（ｄ）基板の製造方法を示す概略断面図。
【図４】（ｅ）〜（ｇ）基板の製造方法を示す概略断面図。
【図５】液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図。
【図６】液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図７】カラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。
【図８】（ａ）〜（ｅ）カラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図。
【図９】（ａ）携帯電話機を示す概略斜視図、（ｂ）携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。
【図１０】色要素の配列を示す概略図。
【符号の説明】
【００９８】
１…基板、２…基板としての素子基板、１２…電極、１３…バンクとしての二層バンク、１４…下層バンク、１５…上層バンク、１６…正孔注入輸送層、１７…発光素子としての発光素子部、２０…電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、４０，４１，４２…発光層形成材料を含む機能液、６０…基板としてのカラーフィルタ基板、６１，６７…基板としてのガラス基板、６２…下層バンクとしての遮光膜、６４…色層、７１，７２，７３…色層形成材料を含む機能液、８０…液晶表示装置、１００…電子機器としての携帯電話機、２００…電子機器としての携帯型情報処理装置、Ａ…色要素領域、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…色要素領域、Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３…下層バンクとしての遮光膜の張り出し量、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…下層バンクの張り出し量。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の色要素領域を有する基板であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、
前記複数の色要素領域内に形成された色要素とを有し、
前記バンクの段差は、前記色要素領域の内側に張り出すように設けられ、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異なることを特徴とする基板。
【請求項２】
複数の色要素領域を有する基板であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、
前記複数の色要素域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、
前記バンクの段差は、前記色要素領域の内側に張り出すように設けられ、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記各機能液に応じて異なることを特徴とする基板。
【請求項３】
前記バンクは、積層構造を有し、前記色要素領域を区画する上層バンクと、前記色要素領域の内側に張り出して前記上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることを特徴とする請求項１または２に記載の基板。
【請求項４】
前記上層バンクの表面は、前記機能液に対して撥液性を有し、
前記下層バンクの少なくとも前記段差を形成している部分は、前記上層バンクよりも表面が親液性であることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項５】
前記色要素は、
前記複数の色要素領域に対応して前記基板上に設けられた電極と、
前記電極の上に張り出した前記バンクの段差で区画された領域に配置された正孔注入輸送層と、
前記色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成されると共に、前記正孔注入輸送層の上に積層される複数種の発光層を備え、
前記バンクの段差の張り出し量は、前記発光層の種類に応じた前記機能液の前記正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の基板。
【請求項６】
前記色要素は、
前記複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色層を備え、
前記バンクの段差の張り出し量は、前記色層の種類に応じた前記機能液の前記色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の基板。
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項５に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項６に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置としての液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれか一項に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、
前記複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する色要素形成工程とを備え、
前記バンク形成工程では、前記バンクの段差を、前記色要素領域の内側に張り出すように形成し、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記機能液に応じて異なるように前記バンクを形成することを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１２】
前記バンク形成工程は、前記色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、前記下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、前記上層バンク形成工程では、前記下層バンクの前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記機能液に応じて異なるように前記上層バンクを形成することを特徴とする請求項１１に記載の基板の製造方法。
【請求項１３】
前記基板上の前記複数の色要素領域にそれぞれ電極を形成する電極形成工程と、
前記電極に積層するように正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とをさらに備え、
前記色要素形成工程では、前記電極と前記正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の発光層を形成することを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板の製造方法。
【請求項１４】
前記色要素形成工程では、前記複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層を形成することを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板の製造方法。
【請求項１５】
複数の色要素を有する基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１１または１２に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
複数の発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１３に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１７】
複数の色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１４に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１】
複数の色要素領域を有する基板であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、
前記複数の色要素領域内に形成された色要素とを有し、
前記バンクの段差は、前記色要素領域の内側に張り出すように設けられ、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異なることを特徴とする基板。
【請求項２】
複数の色要素領域を有する基板であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、
前記複数の色要素域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、
前記バンクの段差は、前記色要素領域の内側に張り出すように設けられ、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記各機能液に応じて異なることを特徴とする基板。
【請求項３】
前記バンクは、積層構造を有し、前記色要素領域を区画する上層バンクと、前記色要素領域の内側に張り出して前記上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることを特徴とする請求項１または２に記載の基板。
【請求項４】
前記上層バンクの表面は、前記機能液に対して撥液性を有し、
前記下層バンクの少なくとも前記段差を形成している部分は、前記上層バンクよりも表面が親液性であることを特徴とする請求項３に記載の基板。
【請求項５】
前記色要素は、
前記複数の色要素領域に対応して前記基板上に設けられた電極と、
前記電極の上に張り出した前記バンクの段差で区画された領域に配置された正孔注入輸送層と、
前記色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成されると共に、前記正孔注入輸送層の上に積層される複数種の発光層を備え、
前記バンクの段差の張り出し量は、前記発光層の種類に応じた前記機能液の前記正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の基板。
【請求項６】
前記色要素は、
前記複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色層を備え、
前記バンクの段差の張り出し量は、前記色層の種類に応じた前記機能液の前記色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の基板。
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項５に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項６に記載の基板を用いていることを特徴とする電気光学装置としての液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれか一項に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、
前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、
前記複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する色要素形成工程とを備え、
前記バンク形成工程では、前記バンクの段差を、前記色要素領域の内側に張り出すように形成し、前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記機能液に応じて異なるように前記バンクを形成することを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１２】
前記バンク形成工程は、前記色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、前記下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、前記上層バンク形成工程では、前記下層バンクの前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記機能液に応じて異なるように前記上層バンクを形成することを特徴とする請求項１１に記載の基板の製造方法。
【請求項１３】
前記基板上の前記複数の色要素領域にそれぞれ電極を形成する電極形成工程と、
前記電極に積層するように正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とをさらに備え、
前記色要素形成工程では、前記電極と前記正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の発光層を形成することを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板の製造方法。
【請求項１４】
前記色要素形成工程では、前記複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層を形成することを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板の製造方法。
【請求項１５】
複数の色要素を有する基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１１または１２に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
複数の発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１３に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１７】
複数の色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法であって、
前記基板が、請求項１４に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００６−２５３０５４（Ｐ２００６−２５３０５４Ａ）
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−７０４９５（Ｐ２００５−７０４９５）
【出願日】平成１７年３月１４日（２００５．３．１４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月１４日（２００５．３．１４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]