基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置
【課題】異なる監視時間の時間帯を複数設定することにより、供給異常を適切に検知することができる。
【解決手段】ＳＰＭ処理液が生成されてから新たなＳＰＭ処理液を生成するまでの間を二つの時間帯（第１の時間帯ＴＺ１、第２の時間帯ＴＺ２）に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ第１の監視間隔ＴＩ１と第２の監視間隔ＴＩ２との個別に設定されている。したがって、ＳＰＭ処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【解決手段】ＳＰＭ処理液が生成されてから新たなＳＰＭ処理液を生成するまでの間を二つの時間帯（第１の時間帯ＴＺ１、第２の時間帯ＴＺ２）に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ第１の監視間隔ＴＩ１と第２の監視間隔ＴＩ２との個別に設定されている。したがって、ＳＰＭ処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）に対して、処理液によって処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の方法として、薬液を含む処理液の薬液濃度を測定しつつ、処理液を基板に対して供給し、基板に対する処理が正常に行われた場合における、ある一定の監視間隔内における薬液の供給量を積算して正常値として算出して予め記憶しておく。そして、監視間隔内における薬液の供給量を積算して実績値を算出し、正常値と実績値とを比較する。その結果、正常値に対して設定された上下限の範囲を実績値が超える場合には、濃度計を含む濃度制御系に何らかの異常が発生していると判断するものが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２３５８１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、例えば、硫酸と過酸化水素水を混合して生成される処理液（ＳＰＭ（Sulfuric acid/hydrogen Peroxide Mixture）とも呼ばれる）では、処理液を生成した後、硫酸の脱水作用により過酸化水素水の濃度が低下する。そのため、過酸化水素水の補充が頻繁に行われることになる。その後、過酸化水素水が分解され、処理液中における水分が増えるので、次第に硫酸の濃度が低下し、逆に硫酸の補充が頻繁に行われることになる。
【０００５】
このように、硫酸と過酸化水素水の混合溶液を処理液とした場合では、それぞれに補充頻度が高い時間帯と、補充頻度が低い時間帯とが存在し、かつ、それぞれの時間帯が異なる。したがって、供給量を積算する監視間隔が全液交換するまでの間で一定であると、適切に供給異常を検知することができないという問題がある。
【０００６】
なお、上記の例では、二薬液を含む処理液で説明したが、一薬液を含む処理液であっても処理液生成後と、生成後からの経過時間に応じて薬液の補充頻度が変化する場合があり、やはり上記と同様の問題が生じ得る。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、異なる監視時間の時間帯を複数設定することにより、供給頻度が変わる場合であっても供給異常を適切に検知することができる基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法において、薬液供給手段により薬液が供給される供給配管を流れる処理液中の薬液濃度を濃度測定手段により測定しつつ処理液を供給する過程と、前記処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、第１の時間帯において、第１の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出する過程と、薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液の供給量を前記第１の監視間隔で積算して予め得られている第１の正常値と、前記第１の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、前記第２の時間帯において、第２の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出する過程と、薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液の供給量を前記第２の監視間隔で積算して予め得られている第２の正常値と、前記第２の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、薬液供給手段から薬液が供給される供給配管の薬液濃度を濃度測定手段で測定しつつ処理液を供給する。処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、少なくとも第１の時間帯と第２の時間帯とに区分けしておき、第１の時間帯においては、第１の監視間隔で薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出し、第１の正常値と比較する。第１の正常値は、薬液の供給が正常に行われた際の第１の時間帯において、薬液の供給量を第１の監視間隔で積算して予め得られている値であるので、薬液の濃度測定系に異常があれば、第１の実績値と第１の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第１の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。
【００１０】
また、第２の時間帯においては、第２の監視間隔で薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出し、第２の正常値と比較する。第２の正常値は、薬液の供給が正常に行われた際の第２の時間帯において、薬液の供給量を第２の監視間隔で積算して予め得られている値であるので、薬液の濃度測定系に異常があれば、第２の実績値と第２の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第２の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。
【００１１】
このように、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【００１２】
なお、「処理液の生成から」とは、液交換後の処理液生成後からであり、ここで処理液生成とは液交換後の処理液が処理に使用可能な状態となった時点である。また、「新たな処理液を生成するまで」とは、処理液が時間的な交換時期に達した時点である。
【００１３】
また、本発明において、前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第１の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第２の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値であることが好ましい（請求項２）。薬液の供給量に代えて、第１の監視間隔内における供給回数を第１の実績値及び第１の正常値とし、第２の監視間隔内における供給回数を第２の実績値及び第２の正常値とすることで、測定を比較的容易に行うことができる。
【００１４】
また、本発明において、前記第１の時間帯は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から設定されていることが好ましい（請求項３）。処理液生成後の一定時間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間では供給異常の判断から除外することで、供給異常の判断の精度を向上させることができる。
【００１５】
また、本発明において、前記異常の有無を判断する過程は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定されていることが好ましい（請求項４）。薬液の濃度が高い場合には基板に対してダメージが大きく、再処理が不可能となる場合があるので、上限値に関しては早く異常検知ができる方が好ましいからである。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、薬液を含む処理液を前記処理槽に供給する供給配管と、前記供給配管に薬液を供給する薬液供給手段と、処理液中の薬液濃度を測定する濃度測定手段と、前記濃度測定手段の測定結果に応じて前記薬液供給手段を操作して、薬液の濃度を制御する濃度制御手段と、処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、薬液の供給が正常な状態における第１の時間帯において、第１の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の正常値を予め求めておき、薬液の供給が正常な状態における第２の時間帯において、第２の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の正常値を予め求めておき、少なくとも前記第１の時間帯と前記第２の時間帯と、前記第１の監視間隔と前記第２の監視間隔と、前記第１の正常値と前記第２の正常値とを予め記憶する記憶手段と、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第１の時間間隔で積算して第１の実績値として算出し、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第２の時間間隔で積算して第２の実績値として算出する実績値算出手段と、前記第１の正常値と前記第１の実績値、及び前記第２の正常値と前記第２の実績値とに基づいて供給異常の有無を判断する判断手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１７】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、供給配管に薬液供給手段から薬液を供給し、薬液濃度を濃度測定手段が測定し、その結果に応じて濃度制御手段が薬液供給手段を操作して、濃度を制御し、処理液が生成されて処理槽に供給される。薬液の濃度測定系に異常があるか否かは、記憶手段に予め記憶されている第１の時間帯と第２の時間帯と、第１の監視間隔と第２の監視間隔と、第１の正常値と第２の正常値とに基づき判断手段が判断を行う。つまり、判断手段は、第１の時間帯における第１の監視間隔で実績値算出手段により算出された第１の実績値と、第２の時間帯における第２の監視間隔で実績値算出手段により算出された第２の実績値とを、記憶手段に予め記憶されている第１の時間帯における第１の正常値と、第２の時間帯における第２の正常値とそれぞれ比較する。薬液の濃度測定系に異常があれば、第１の実績値と第１の正常値と、第２の実績値と第２の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第１の時間帯及び第２の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。このように、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【００１８】
なお、「処理液の生成から」とは、液交換後の処理液生成後からであり、ここで処理液生成とは液交換後の処理液が処理に使用可能な状態となった時点である。また、「新たな処理液を生成するまで」とは、処理液が時間的な交換時期に達した時点である。
【００１９】
また、本発明において、前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第１の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第２の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値であることが好ましい（請求項６）。薬液の供給量に代えて、第１の監視間隔内における供給回数を第１の実績値及び第１の正常値とし、第２の監視間隔内における供給回数を第２の実績値及び第２の正常値とすることで、測定を比較的容易に行うことができる。
【００２０】
また、本発明において、前記判断手段は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から前記第１の時間帯までは異常の判断を行わないことが好ましい（請求項７）。処理液生成後の一定時間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間では判断手段が供給異常の判断を行わないことで、供給異常の判断の精度を向上させることができる。
【００２１】
また、本発明において、前記記憶手段は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値とを予め記憶し、前記第１の正常値の上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値の上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定され、前記判断手段は、前記第１の正常値の上限値と下限値から前記第１の実績値が外れた場合に供給異常と判断し、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲から前記第２の実績値が外れた場合に供給異常と判断することが好ましい（請求項８）。薬液の濃度が高い上限値に関して早く異常検知することにより、基板へのダメージが大きく基板の再処理が不可能となるような不都合を回避することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る基板処理装置の供給異常検知方法によれば、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】動作説明に供するタイムチャートである。
【図３】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図４】動作説明に供するタイムチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置について説明するが、基板処理装置を主に説明し、その制御において供給異常検知方法について説明する。
【実施例１】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００２６】
この基板処理装置は、処理槽１、内槽３と、外槽５とを備えている。処理槽１は、処理液を貯留し、内槽３が基板Ｗを収容する。外槽５は、内槽３から溢れた処理液を回収する。図示省略しているが、内槽３の内部にあたる処理位置と、内槽３の上方にあたる待機位置とにわたって昇降可能な昇降アームが備えられ、例えば、昇降アームは複数枚の基板Ｗ（１ロット分）を起立姿勢で保持する。そして、待機位置から処理位置に昇降アームが下降すると、複数枚の基板Ｗが内槽３の処理液中に浸漬される。
【００２７】
内槽３は、底部の両側に一対の噴出管１３を備えている。外槽５は、回収した処理液を排出するための排出口１５を底部に備えている。噴出管１３と排出口１５とは、供給配管１７で連通接続されている。供給配管１７には、排出口１５側から順に、ポンプ１９と、インラインヒータ２１と、フィルタ２３と、濃度検出部２５とが取り付けられている。インラインヒータ２１は、流通する処理液を加熱する機能を備えている。フィルタ２３は、処理液中のパーティクル等を除去する機能を有する。濃度検出部２５は、例えば、供給配管１７の一部に設けられており、例えば、処理液の透過光強度を検出する。
【００２８】
なお、濃度検出部２５が本発明における「濃度測定手段」に相当する。
【００２９】
供給配管１７は、ポンプ１９の下流側に分岐配管２７が連通接続されている。この分岐配管２７には、開閉弁２９が取り付けられている。この開閉弁２９は、処理時には閉止されており、処理槽１及び供給配管１７内に貯留している処理液を排出する際には開放される。
【００３０】
内槽３には、第１供給管３１と、第２供給管３３と、第３供給管３５の先端部が配置されている。第１供給管３１は、その基端部が例えば純水供給源に連通接続され、流量を調整する制御弁３７と、流量計３９とが上流側から順に取り付けられている。また、第２供給管は、基端部が例えば過酸化水素水供給源に連通接続され、制御弁４１と流量計４３とが取り付けられている。第３供給管３５は、基端部が例えば硫酸供給源に連通接続され、制御弁４５と流量計４７とが取り付けられている。
【００３１】
また、外槽５には、第１補充管５１と第２補充管５３の先端部が配置されている。第１補充管５１は、基端部が過酸化水素水供給源に連通接続され、制御弁５５と流量計５７とが設けられている。第２補充管５３は、基端部が硫酸供給源に連通接続され、制御弁５９と流量計６１とが取り付けられている。
【００３２】
なお、第１補充管５１と第２補充管５３とが本発明における「薬液供給手段」に相当する。
【００３３】
制御部６３は、上述したポンプ１９の駆動、インラインヒータ２１の温度制御、開閉弁２９の開閉、制御弁３７，４１，４５，５５，５９などを制御するとともに、後述するような供給異常を検知する機能を備えている。制御部６３は、供給異常を検知した場合には、異常発生信号を出力端子６４ａに出力したりする。出力端子６４ａには、アラーム６４ｂが接続されている。アラーム６４ｂは、例えば、装置のオペレータに対して異常が発生したことを報知するものであり、例えば、ブザーやランプなどが挙げられる。また、制御部６３は、供給異常を検知した場合に本装置による処理を停止させる等の制御も行う。
【００３４】
また、制御部６３は、濃度制御系にあたる濃度測定部６５と、濃度制御部６７とを備えている。濃度測定部６５は、濃度検出部２５からの信号に基づいて、処理液中の薬液濃度を算出し、濃度値として濃度制御部６７に出力する。濃度制御部６７は、算出された濃度値と、目標値との差分に応じて制御弁５５，５９の開度を調整し、薬液を補充する。また、例えば、硫酸と過酸化水素水を含むＳＰＭ処理液を生成する際には、濃度制御部６７が流量計４３，４７を監視しつつ第２供給管３３の制御弁４１と第３供給管の制御弁４５とを操作し、所定重量比の硫酸と過酸化水素水を内槽３に供給する。その後、上述したようにして薬液を適宜に補充する。
【００３５】
なお、濃度測定部６５が本発明における「濃度測定手段」に相当し、濃度制御部６７が本発明における「濃度制御手段」に相当する。
【００３６】
制御部６３は、メモリ６９と、判断部７１と、カウンタ・タイマ７３と、供給量積算部７５とを備えている。
【００３７】
メモリ６９は、次のパラメータや判断値を予め記憶している。パラメータは、無視時間、第１の時間帯、第２の時間帯、第１の監視間隔、第２の監視間隔である。また、判断値は、第１の正常値と、第２の正常値と、第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、第２の正常値を基準とした上限値と下限値である。
【００３８】
これらの詳細は後述するが、概要は次の通りである。無視時間は、液交換後の処理液生成後（処理液が処理に使用可能な状態となった時点）から、第１の時間帯までの時間であり、供給異常の判断を行わない時間である。第１の時間帯及び第２の時間帯は、液交換の処理液生成後の無視時間経過後から次の液交換が必要となった時点（処理液の時間的な交換時期に達した時点）までの間を時間的に区分けし、第１の時間帯は、液交換の処理液生成後の時点から無視時間を経過した時点から始まる。第１の監視間隔は、第１の時間帯における供給量の積算値を求める間隔であり、第２の監視間隔は、第２の時間帯における供給量の積算値を求める間隔である。第１の正常値は、第１の時間帯において、処理液による処理が正常に行われた際の第１の監視間隔における薬液の供給量の積算値である。第２の正常値は、第２の時間帯において、処理液による処理が正常に行われた際の第２の監視間隔における薬液の供給量の積算値である。第１の正常値と第２の正常値の上限値及び下限値は、各々の正常値を基準とした範囲を示す上下限である。但し、第１の正常値の上限値及び下限値と第２の正常値の上限値と下限値とがあれば、第１の正常値と第２の正常値については省略が可能である。
【００３９】
なお、本実施例では、処理液が二薬液を含むので、上記のパラメータや、判断値がそれぞれの薬液分だけ存在することになる。また、上記のパラメータや判断値は、実際に処理液による処理を行い、プロセス的に正常に処理が完了した際の薬液の補充量のデータを収集しておき、そのデータに基づいて予め決定してある。
【００４０】
判断部７１は、カウンタ・タイマ７３による無視時間の経過後、第１の時間帯及び第２の時間帯においてそれぞれの監視時間ごとに、供給量積算部７５から出力される実績値と、時間帯ごとの正常値の上下限値とを比較し、供給異常の有無を判断する。カウンタ・タイマ７３は、処理槽１で新たな処理液が生成されてから自動的に計時を開始し、処理液の時間的な交換時期に達すると計時を停止し、次に新たな処理液が生成されるとリセットされる。判断部７１は、薬液が複数種類ある場合には、それぞれの薬液について上記の判断を行う。また、カウンタ・タイマ７３も、薬液ごとに計時を行う。
【００４１】
供給量積算部７５は、処理槽１の処理液が交換され、所定の処理液が投入されてから、無視時間が経過した後、第１補充管５１及び第２補充管５３からの薬液の補充量を流量計５７及び流量計６１からの供給量を積算して算出し、第１の実績値及び第２の実績値として判断部７１に対して出力する。
【００４２】
なお、上記のメモリ６９が本発明における「記憶手段」に相当し、判断部７１が本発明における「判断手段」に相当し、供給量積算部７５が本発明における「実績値算出手段」に相当する。
【００４３】
次に、図２を参照し、上述した基板処理装置による供給異常検知の動作について説明する。図２は、動作説明に供するタイムチャートである。以下の説明においては、硫酸と過酸化水素水のうち、過酸化水素水を例にとって説明するが、硫酸についても同様の処理が並行して行われる。
【００４４】
図２中における各符号は、次のパラメータや判断値などを示す。
符号ＩＶ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の正常値であり、符号ＩＶ１−Ｈは上限値であり、符号ＩＶ１−Ｌは下限値である。符号ＩＶ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の正常値であり、符号ＩＶ２−Ｈは上限値であり、符号ＩＶ２−Ｌは下限値である。なお、上限値ＩＶ１−Ｈは、第１の正常値ＩＶ１を基準として、下限値ＩＶ１−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。ＩＶ２−Ｈは、第２の正常値ＩＶ２を基準として、下限値ＩＶ２−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。これは、薬液の濃度が高い上限値に関して早く供給異常を検知することにより、基板へのダメージが大きく基板の再処理が不可能となるような不都合を回避することができる。符号ＡＶ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の実績値であり、符号ＡＶ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の実績値である。
【００４５】
符号Ｔ１は、供給異常の判断を行わない無視時間である。符号ＴＩ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の監視間隔である。符号ＴＩ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の監視間隔である。第１の監視間隔ＴＩ１ごとに、過酸化水素水の供給量の積算値が供給量積算部７５で算出されて、第１の実績値ＡＶ１として判断部７１へ出力される。同様に、第２の監視間隔ＴＩ２ごとに、過酸化水素水の供給量の積算値が供給量積算部７５で算出されて、第２の実績値ＡＶ２として判断部７１へ出力される。なお、薬液が本実施例のように硫酸と過酸化水素水の混合液である場合には、初期の段階では過酸化水素水の補充が頻繁に行われるので、過酸化水素水に関しては第１の監視間隔ＴＩ１が第２の監視間隔ＴＩ２よりも短くなる。
【００４６】
また、このタイムチャートでは、ｔ２，ｔ７時点において、処理液の時間的な交換時期を示す「ライフタイム」や、処理液の使用回数的な交換時期を示す「ライフカウント」に達し、処理槽１内の処理液が全て排出され、硫酸と過酸化水素水が供給されて、ほぼ目標濃度値に調整された新たな処理液が生成されるものとする。生成された処理液は、ポンプ１９を駆動して、供給配管１７に流通され、処理槽１に処理液が供給される。なお、ｔ４時点からｔ６時点までの符号Ｌ１，Ｌ２，……，Ｌｎは、処理対象である基板Ｗのロットを示す。
【００４７】
制御部６３は、処理液の交換完了（処理液が処理に使用可能な状態となった時点）とともに、カウンタ・タイマ７３を始動して計時を開始させる。タイマ７３がｔ２時点からｔ３時点までの無視時間Ｔ１が経過するまでは、供給異常の判断は行わない。これは、処理液の交換後、一定時間の間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間における誤判断を防止するためである。この無視時間Ｔ１を設けているので、供給異常の判断精度を向上させることができる。無視時間Ｔ１は、処理液の容量や薬液濃度、循環流速などによって適切な時間が異なるが、例えば、１５分程度である。
【００４８】
判断部７１は、カウンタ・タイマ７３を監視し、無視時間Ｔ１が経過するｔ３時点からｔ４時点までの間である第１の時間帯ＴＺ１において供給異常の判断を行う。その判断は、メモリ６９に記憶されている第１の監視間隔ＴＩ１ごとに行われる。供給異常か否かの判断は、第１の時間帯ＴＺ１において、供給量積算部７５から出力される第１の実績値ＡＶ１が、メモリ６９に記憶されている第１の正常値ＩＶ１の上限値ＩＶ１−Ｈと下限値ＩＶ１−Ｌの範囲にあるか否かにより判断部７１が行う。
【００４９】
例えば、硫酸と過酸化水素水の混合液であるＳＰＭ処理液は、第１の時間帯ＴＺ１において、硫酸の脱水作用により過酸化水素水の濃度が低下するので、過酸化水素水の補充が頻繁に行われる。したがって、比較的短い第１の監視間隔ＴＩ１で過酸化水素水の供給異常の有無を判断することにより、好適に判断することができる。
【００５０】
次に、時間が経過して、ｔ４時点に達したとする。この場合、第２の時間帯ＴＺ２となるので、第１の時間帯ＴＺ１とは異なるパラメータ及び判断値を用いることになる。判断部７１は、メモリ６９に記憶されている第２の監視間隔ＴＩ２ごとに判断を行う。異常か否かの判断は、第２の時間帯ＴＺ２において、供給量積算部７５から出力される第２の実績値ＡＶ２が、メモリ６９に記憶されている第２の正常値ＩＶ２の上限値ＩＶ２−Ｈと下限値ＩＶ２−Ｌの範囲にあるか否かにより判断部７１が行う。
【００５１】
例えば、硫酸と過酸化水素水の混合液であるＳＰＭ処理液は、第１の時間帯ＴＺ１において、頻繁に補充された過酸化水素水の水分が増えるので、過酸化水素水の補充頻度が低下する一方、硫酸の補充が増える。したがって、比較的長い第２の監視間隔ＴＩ２で過酸化水素水の供給異常の有無を判断することでも好適に判断することができる。また、監視間隔を長くすることで、制御部６３の負荷を軽減できる。
【００５２】
判断部７１による比較の結果、第１の正常値ＩＶ１の上限値ＩＶ１−Ｈと下限値ＩＶ１−Ｌの範囲外や第２の正常値ＩＶ２の上限値ＩＶ２−Ｈと下限値ＩＶ２−Ｌの範囲外である場合には、出力端子６４ａに異常発生信号を出力するとともに、処理を停止させる動作を行わせる。なお、本タイムチャートでは、第２の時間帯ＴＺ２においてのみ、基板Ｗを処理するようになっている。その場合には、薬液の供給を停止するとともに、第１供給管３１から純水だけを供給して、基板Ｗを所定時間だけ純水にてリンスする。そして、基板Ｗを処理槽１から搬出して待避させることが好ましい。
【００５３】
このように、ＳＰＭ処理液が生成されてから新たなＳＰＭ処理液を生成するまでの間を二つの時間帯（第１の時間帯ＴＺ１、第２の時間帯ＴＺ２）に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ第１の監視間隔ＴＩ１と第２の監視間隔ＴＩ２との個別に設定されている。したがって、ＳＰＭ処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【実施例２】
【００５４】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図３は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上述した実施例１と共通する構成については同符号を付すことにより、詳細な説明については省略する。
【００５５】
この実施例２の基板処理装置は、流量の積算値を求める供給量積算部７５に代えて供給回数積算部８１を備えている。供給回数積算部８１は、濃度制御部６５が制御弁５５，５９を駆動した回数を計数し、各駆動時に回数を逐次加算して得られる積算値を判断部７１へ出力する。供給回数積算部７５Ａは、処理液の交換時点でその積算値がリセットされる。なお、制御弁５５，５９を一回駆動することで供給される薬液量は予め分かっているものとする。また、第１補充管５１と第２補充管５３は流量計５７，６１を備えていない。
【００５６】
メモリ６９Ａは、実施例１と同様のパラメータや判断値を予め記憶している。但し、判断値の第１の正常値と、第２の正常値と、第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、第２の正常値を基準とした上限値と下限値は、積算量ではなく積算回数となる。
【００５７】
判断部７１Ａは、カウンタ・タイマ７３による無視時間の経過後、第１の時間帯及び第２の時間帯においてそれぞれの監視時間ごとに、供給回数積算部７５Ａから出力される実績値と、時間帯ごとの正常値の上下限値とを比較し、供給異常の有無を判断する。
【００５８】
なお、上述したメモリ６９Ａが本発明における「記憶手段」に相当し、判断部７１Ａが「判断手段」に相当し、供給回数積算部７５Ａが「実績値算出手段」に相当する。
【００５９】
次に、図４を参照する。上述した基板処理装置による供給異常検知の動作について説明する。図４は、動作説明に供するタイムチャートである。
【００６０】
図４中における各符号は、次のパラメータや判断値などを示す。なお、実施例１の図２と同じ符号についての説明は省略する。
【００６１】
符号ＩＣ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の正常値（供給回数の積算値）であり、符号ＩＣ１−Ｈは上限値であり、符号ＩＣ１−Ｌは下限値である。符号ＩＣ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の正常値（供給回数の積算値）であり、符号ＩＣ２−Ｈは上限値であり、符号ＩＣ２−Ｌは下限値である。なお、上限値ＩＣ１−Ｈは、第１の正常値ＩＣ１を基準として、下限値ＩＣ１−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。ＩＣ２−Ｈは、第２の正常値ＩＣ２を基準として、下限値ＩＣ２−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。この理由は実施例１で述べたとおりである。符号ＡＣ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の実績値（供給回数の積算値）であり、符号ＡＣ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の実績値（供給回数の積算値）である。
【００６２】
このような構成の基板処理装置であっても、実施例１と同様の作用効果を奏することができる。また、薬液の供給量に代えて供給回数を監視するので、測定を比較的容易に行うことができる。
【００６３】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６４】
（１）上述した各実施例１，２では、処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを二つの時間帯に区分けしたが、三つ以上の時間帯に分けてもよい。また、二つの時間帯を規定するのに、時間帯を二つ設けることに代えて、二つの時間帯に区別する時間を一つ設けるようにしてもよい。
【００６５】
（２）上述した各実施例１，２の装置は、内槽３と外槽５とを供給配管１７で連通して処理液を循環させる方式であるが、外槽５から溢れた処理液を排出する非循環方式の装置であっても適用することができる。
【００６６】
（３）上述した各実施例１，２では、処理液として二種類の薬液からなるＳＰＭ処理液を例にとって説明したが、一種類の薬液と純水からなる処理液とした場合や、三種類以上の薬液からなるＳＰＭ処理液であってもよい。その場合には、補充する薬液の種類だけ上述したパラメータと判断値を用いるようにすればよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｗ … 基板
１ … 処理槽
３ … 内槽
５ … 外槽
５１ … 第１補充管
５３ … 第２補充管
５５，５９ … 制御弁
５７，６１ … 流量計
６３ … 制御部
６５ … 濃度測定部
６７ … 濃度制御部
６９ … メモリ
７１ … 判断部
７３ … カウンタ・タイマ
７５ … 供給量積算部
Ｔ１ … 無視時間
ＴＺ１ … 第１の時間帯
ＴＺ２ … 第２の時間帯
ＩＶ１ … 第１の正常値
ＩＶ１−Ｈ … 第１の正常値の上限値
ＩＶ１−Ｌ … 第１の正常値の下限値
ＩＶ２ … 第２の正常値
ＩＶ２−Ｈ … 第２の正常値の上限値
ＩＶ２−Ｌ … 第２の正常値の下限値
ＡＶ１ … 第１の実績値
ＡＶ２ … 第２の実績値
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）に対して、処理液によって処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の方法として、薬液を含む処理液の薬液濃度を測定しつつ、処理液を基板に対して供給し、基板に対する処理が正常に行われた場合における、ある一定の監視間隔内における薬液の供給量を積算して正常値として算出して予め記憶しておく。そして、監視間隔内における薬液の供給量を積算して実績値を算出し、正常値と実績値とを比較する。その結果、正常値に対して設定された上下限の範囲を実績値が超える場合には、濃度計を含む濃度制御系に何らかの異常が発生していると判断するものが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２３５８１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、例えば、硫酸と過酸化水素水を混合して生成される処理液（ＳＰＭ（Sulfuric acid/hydrogen Peroxide Mixture）とも呼ばれる）では、処理液を生成した後、硫酸の脱水作用により過酸化水素水の濃度が低下する。そのため、過酸化水素水の補充が頻繁に行われることになる。その後、過酸化水素水が分解され、処理液中における水分が増えるので、次第に硫酸の濃度が低下し、逆に硫酸の補充が頻繁に行われることになる。
【０００５】
このように、硫酸と過酸化水素水の混合溶液を処理液とした場合では、それぞれに補充頻度が高い時間帯と、補充頻度が低い時間帯とが存在し、かつ、それぞれの時間帯が異なる。したがって、供給量を積算する監視間隔が全液交換するまでの間で一定であると、適切に供給異常を検知することができないという問題がある。
【０００６】
なお、上記の例では、二薬液を含む処理液で説明したが、一薬液を含む処理液であっても処理液生成後と、生成後からの経過時間に応じて薬液の補充頻度が変化する場合があり、やはり上記と同様の問題が生じ得る。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、異なる監視時間の時間帯を複数設定することにより、供給頻度が変わる場合であっても供給異常を適切に検知することができる基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法において、薬液供給手段により薬液が供給される供給配管を流れる処理液中の薬液濃度を濃度測定手段により測定しつつ処理液を供給する過程と、前記処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、第１の時間帯において、第１の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出する過程と、薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液の供給量を前記第１の監視間隔で積算して予め得られている第１の正常値と、前記第１の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、前記第２の時間帯において、第２の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出する過程と、薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液の供給量を前記第２の監視間隔で積算して予め得られている第２の正常値と、前記第２の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、薬液供給手段から薬液が供給される供給配管の薬液濃度を濃度測定手段で測定しつつ処理液を供給する。処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、少なくとも第１の時間帯と第２の時間帯とに区分けしておき、第１の時間帯においては、第１の監視間隔で薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出し、第１の正常値と比較する。第１の正常値は、薬液の供給が正常に行われた際の第１の時間帯において、薬液の供給量を第１の監視間隔で積算して予め得られている値であるので、薬液の濃度測定系に異常があれば、第１の実績値と第１の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第１の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。
【００１０】
また、第２の時間帯においては、第２の監視間隔で薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出し、第２の正常値と比較する。第２の正常値は、薬液の供給が正常に行われた際の第２の時間帯において、薬液の供給量を第２の監視間隔で積算して予め得られている値であるので、薬液の濃度測定系に異常があれば、第２の実績値と第２の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第２の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。
【００１１】
このように、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【００１２】
なお、「処理液の生成から」とは、液交換後の処理液生成後からであり、ここで処理液生成とは液交換後の処理液が処理に使用可能な状態となった時点である。また、「新たな処理液を生成するまで」とは、処理液が時間的な交換時期に達した時点である。
【００１３】
また、本発明において、前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第１の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第２の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値であることが好ましい（請求項２）。薬液の供給量に代えて、第１の監視間隔内における供給回数を第１の実績値及び第１の正常値とし、第２の監視間隔内における供給回数を第２の実績値及び第２の正常値とすることで、測定を比較的容易に行うことができる。
【００１４】
また、本発明において、前記第１の時間帯は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から設定されていることが好ましい（請求項３）。処理液生成後の一定時間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間では供給異常の判断から除外することで、供給異常の判断の精度を向上させることができる。
【００１５】
また、本発明において、前記異常の有無を判断する過程は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定されていることが好ましい（請求項４）。薬液の濃度が高い場合には基板に対してダメージが大きく、再処理が不可能となる場合があるので、上限値に関しては早く異常検知ができる方が好ましいからである。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、薬液を含む処理液を前記処理槽に供給する供給配管と、前記供給配管に薬液を供給する薬液供給手段と、処理液中の薬液濃度を測定する濃度測定手段と、前記濃度測定手段の測定結果に応じて前記薬液供給手段を操作して、薬液の濃度を制御する濃度制御手段と、処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、薬液の供給が正常な状態における第１の時間帯において、第１の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の正常値を予め求めておき、薬液の供給が正常な状態における第２の時間帯において、第２の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の正常値を予め求めておき、少なくとも前記第１の時間帯と前記第２の時間帯と、前記第１の監視間隔と前記第２の監視間隔と、前記第１の正常値と前記第２の正常値とを予め記憶する記憶手段と、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第１の時間間隔で積算して第１の実績値として算出し、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第２の時間間隔で積算して第２の実績値として算出する実績値算出手段と、前記第１の正常値と前記第１の実績値、及び前記第２の正常値と前記第２の実績値とに基づいて供給異常の有無を判断する判断手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１７】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、供給配管に薬液供給手段から薬液を供給し、薬液濃度を濃度測定手段が測定し、その結果に応じて濃度制御手段が薬液供給手段を操作して、濃度を制御し、処理液が生成されて処理槽に供給される。薬液の濃度測定系に異常があるか否かは、記憶手段に予め記憶されている第１の時間帯と第２の時間帯と、第１の監視間隔と第２の監視間隔と、第１の正常値と第２の正常値とに基づき判断手段が判断を行う。つまり、判断手段は、第１の時間帯における第１の監視間隔で実績値算出手段により算出された第１の実績値と、第２の時間帯における第２の監視間隔で実績値算出手段により算出された第２の実績値とを、記憶手段に予め記憶されている第１の時間帯における第１の正常値と、第２の時間帯における第２の正常値とそれぞれ比較する。薬液の濃度測定系に異常があれば、第１の実績値と第１の正常値と、第２の実績値と第２の正常値との間に差異が生じる。したがって、これに基づき第１の時間帯及び第２の時間帯において供給異常の発生を判断することができる。このように、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【００１８】
なお、「処理液の生成から」とは、液交換後の処理液生成後からであり、ここで処理液生成とは液交換後の処理液が処理に使用可能な状態となった時点である。また、「新たな処理液を生成するまで」とは、処理液が時間的な交換時期に達した時点である。
【００１９】
また、本発明において、前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第１の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、前記第２の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値であることが好ましい（請求項６）。薬液の供給量に代えて、第１の監視間隔内における供給回数を第１の実績値及び第１の正常値とし、第２の監視間隔内における供給回数を第２の実績値及び第２の正常値とすることで、測定を比較的容易に行うことができる。
【００２０】
また、本発明において、前記判断手段は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から前記第１の時間帯までは異常の判断を行わないことが好ましい（請求項７）。処理液生成後の一定時間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間では判断手段が供給異常の判断を行わないことで、供給異常の判断の精度を向上させることができる。
【００２１】
また、本発明において、前記記憶手段は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値とを予め記憶し、前記第１の正常値の上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値の上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定され、前記判断手段は、前記第１の正常値の上限値と下限値から前記第１の実績値が外れた場合に供給異常と判断し、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲から前記第２の実績値が外れた場合に供給異常と判断することが好ましい（請求項８）。薬液の濃度が高い上限値に関して早く異常検知することにより、基板へのダメージが大きく基板の再処理が不可能となるような不都合を回避することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る基板処理装置の供給異常検知方法によれば、処理液が生成されてから新たな処理液を生成するまでの間を少なくとも二つの時間帯に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ個別に設定されているので、処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】動作説明に供するタイムチャートである。
【図３】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図４】動作説明に供するタイムチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置について説明するが、基板処理装置を主に説明し、その制御において供給異常検知方法について説明する。
【実施例１】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００２６】
この基板処理装置は、処理槽１、内槽３と、外槽５とを備えている。処理槽１は、処理液を貯留し、内槽３が基板Ｗを収容する。外槽５は、内槽３から溢れた処理液を回収する。図示省略しているが、内槽３の内部にあたる処理位置と、内槽３の上方にあたる待機位置とにわたって昇降可能な昇降アームが備えられ、例えば、昇降アームは複数枚の基板Ｗ（１ロット分）を起立姿勢で保持する。そして、待機位置から処理位置に昇降アームが下降すると、複数枚の基板Ｗが内槽３の処理液中に浸漬される。
【００２７】
内槽３は、底部の両側に一対の噴出管１３を備えている。外槽５は、回収した処理液を排出するための排出口１５を底部に備えている。噴出管１３と排出口１５とは、供給配管１７で連通接続されている。供給配管１７には、排出口１５側から順に、ポンプ１９と、インラインヒータ２１と、フィルタ２３と、濃度検出部２５とが取り付けられている。インラインヒータ２１は、流通する処理液を加熱する機能を備えている。フィルタ２３は、処理液中のパーティクル等を除去する機能を有する。濃度検出部２５は、例えば、供給配管１７の一部に設けられており、例えば、処理液の透過光強度を検出する。
【００２８】
なお、濃度検出部２５が本発明における「濃度測定手段」に相当する。
【００２９】
供給配管１７は、ポンプ１９の下流側に分岐配管２７が連通接続されている。この分岐配管２７には、開閉弁２９が取り付けられている。この開閉弁２９は、処理時には閉止されており、処理槽１及び供給配管１７内に貯留している処理液を排出する際には開放される。
【００３０】
内槽３には、第１供給管３１と、第２供給管３３と、第３供給管３５の先端部が配置されている。第１供給管３１は、その基端部が例えば純水供給源に連通接続され、流量を調整する制御弁３７と、流量計３９とが上流側から順に取り付けられている。また、第２供給管は、基端部が例えば過酸化水素水供給源に連通接続され、制御弁４１と流量計４３とが取り付けられている。第３供給管３５は、基端部が例えば硫酸供給源に連通接続され、制御弁４５と流量計４７とが取り付けられている。
【００３１】
また、外槽５には、第１補充管５１と第２補充管５３の先端部が配置されている。第１補充管５１は、基端部が過酸化水素水供給源に連通接続され、制御弁５５と流量計５７とが設けられている。第２補充管５３は、基端部が硫酸供給源に連通接続され、制御弁５９と流量計６１とが取り付けられている。
【００３２】
なお、第１補充管５１と第２補充管５３とが本発明における「薬液供給手段」に相当する。
【００３３】
制御部６３は、上述したポンプ１９の駆動、インラインヒータ２１の温度制御、開閉弁２９の開閉、制御弁３７，４１，４５，５５，５９などを制御するとともに、後述するような供給異常を検知する機能を備えている。制御部６３は、供給異常を検知した場合には、異常発生信号を出力端子６４ａに出力したりする。出力端子６４ａには、アラーム６４ｂが接続されている。アラーム６４ｂは、例えば、装置のオペレータに対して異常が発生したことを報知するものであり、例えば、ブザーやランプなどが挙げられる。また、制御部６３は、供給異常を検知した場合に本装置による処理を停止させる等の制御も行う。
【００３４】
また、制御部６３は、濃度制御系にあたる濃度測定部６５と、濃度制御部６７とを備えている。濃度測定部６５は、濃度検出部２５からの信号に基づいて、処理液中の薬液濃度を算出し、濃度値として濃度制御部６７に出力する。濃度制御部６７は、算出された濃度値と、目標値との差分に応じて制御弁５５，５９の開度を調整し、薬液を補充する。また、例えば、硫酸と過酸化水素水を含むＳＰＭ処理液を生成する際には、濃度制御部６７が流量計４３，４７を監視しつつ第２供給管３３の制御弁４１と第３供給管の制御弁４５とを操作し、所定重量比の硫酸と過酸化水素水を内槽３に供給する。その後、上述したようにして薬液を適宜に補充する。
【００３５】
なお、濃度測定部６５が本発明における「濃度測定手段」に相当し、濃度制御部６７が本発明における「濃度制御手段」に相当する。
【００３６】
制御部６３は、メモリ６９と、判断部７１と、カウンタ・タイマ７３と、供給量積算部７５とを備えている。
【００３７】
メモリ６９は、次のパラメータや判断値を予め記憶している。パラメータは、無視時間、第１の時間帯、第２の時間帯、第１の監視間隔、第２の監視間隔である。また、判断値は、第１の正常値と、第２の正常値と、第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、第２の正常値を基準とした上限値と下限値である。
【００３８】
これらの詳細は後述するが、概要は次の通りである。無視時間は、液交換後の処理液生成後（処理液が処理に使用可能な状態となった時点）から、第１の時間帯までの時間であり、供給異常の判断を行わない時間である。第１の時間帯及び第２の時間帯は、液交換の処理液生成後の無視時間経過後から次の液交換が必要となった時点（処理液の時間的な交換時期に達した時点）までの間を時間的に区分けし、第１の時間帯は、液交換の処理液生成後の時点から無視時間を経過した時点から始まる。第１の監視間隔は、第１の時間帯における供給量の積算値を求める間隔であり、第２の監視間隔は、第２の時間帯における供給量の積算値を求める間隔である。第１の正常値は、第１の時間帯において、処理液による処理が正常に行われた際の第１の監視間隔における薬液の供給量の積算値である。第２の正常値は、第２の時間帯において、処理液による処理が正常に行われた際の第２の監視間隔における薬液の供給量の積算値である。第１の正常値と第２の正常値の上限値及び下限値は、各々の正常値を基準とした範囲を示す上下限である。但し、第１の正常値の上限値及び下限値と第２の正常値の上限値と下限値とがあれば、第１の正常値と第２の正常値については省略が可能である。
【００３９】
なお、本実施例では、処理液が二薬液を含むので、上記のパラメータや、判断値がそれぞれの薬液分だけ存在することになる。また、上記のパラメータや判断値は、実際に処理液による処理を行い、プロセス的に正常に処理が完了した際の薬液の補充量のデータを収集しておき、そのデータに基づいて予め決定してある。
【００４０】
判断部７１は、カウンタ・タイマ７３による無視時間の経過後、第１の時間帯及び第２の時間帯においてそれぞれの監視時間ごとに、供給量積算部７５から出力される実績値と、時間帯ごとの正常値の上下限値とを比較し、供給異常の有無を判断する。カウンタ・タイマ７３は、処理槽１で新たな処理液が生成されてから自動的に計時を開始し、処理液の時間的な交換時期に達すると計時を停止し、次に新たな処理液が生成されるとリセットされる。判断部７１は、薬液が複数種類ある場合には、それぞれの薬液について上記の判断を行う。また、カウンタ・タイマ７３も、薬液ごとに計時を行う。
【００４１】
供給量積算部７５は、処理槽１の処理液が交換され、所定の処理液が投入されてから、無視時間が経過した後、第１補充管５１及び第２補充管５３からの薬液の補充量を流量計５７及び流量計６１からの供給量を積算して算出し、第１の実績値及び第２の実績値として判断部７１に対して出力する。
【００４２】
なお、上記のメモリ６９が本発明における「記憶手段」に相当し、判断部７１が本発明における「判断手段」に相当し、供給量積算部７５が本発明における「実績値算出手段」に相当する。
【００４３】
次に、図２を参照し、上述した基板処理装置による供給異常検知の動作について説明する。図２は、動作説明に供するタイムチャートである。以下の説明においては、硫酸と過酸化水素水のうち、過酸化水素水を例にとって説明するが、硫酸についても同様の処理が並行して行われる。
【００４４】
図２中における各符号は、次のパラメータや判断値などを示す。
符号ＩＶ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の正常値であり、符号ＩＶ１−Ｈは上限値であり、符号ＩＶ１−Ｌは下限値である。符号ＩＶ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の正常値であり、符号ＩＶ２−Ｈは上限値であり、符号ＩＶ２−Ｌは下限値である。なお、上限値ＩＶ１−Ｈは、第１の正常値ＩＶ１を基準として、下限値ＩＶ１−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。ＩＶ２−Ｈは、第２の正常値ＩＶ２を基準として、下限値ＩＶ２−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。これは、薬液の濃度が高い上限値に関して早く供給異常を検知することにより、基板へのダメージが大きく基板の再処理が不可能となるような不都合を回避することができる。符号ＡＶ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の実績値であり、符号ＡＶ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の実績値である。
【００４５】
符号Ｔ１は、供給異常の判断を行わない無視時間である。符号ＴＩ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の監視間隔である。符号ＴＩ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の監視間隔である。第１の監視間隔ＴＩ１ごとに、過酸化水素水の供給量の積算値が供給量積算部７５で算出されて、第１の実績値ＡＶ１として判断部７１へ出力される。同様に、第２の監視間隔ＴＩ２ごとに、過酸化水素水の供給量の積算値が供給量積算部７５で算出されて、第２の実績値ＡＶ２として判断部７１へ出力される。なお、薬液が本実施例のように硫酸と過酸化水素水の混合液である場合には、初期の段階では過酸化水素水の補充が頻繁に行われるので、過酸化水素水に関しては第１の監視間隔ＴＩ１が第２の監視間隔ＴＩ２よりも短くなる。
【００４６】
また、このタイムチャートでは、ｔ２，ｔ７時点において、処理液の時間的な交換時期を示す「ライフタイム」や、処理液の使用回数的な交換時期を示す「ライフカウント」に達し、処理槽１内の処理液が全て排出され、硫酸と過酸化水素水が供給されて、ほぼ目標濃度値に調整された新たな処理液が生成されるものとする。生成された処理液は、ポンプ１９を駆動して、供給配管１７に流通され、処理槽１に処理液が供給される。なお、ｔ４時点からｔ６時点までの符号Ｌ１，Ｌ２，……，Ｌｎは、処理対象である基板Ｗのロットを示す。
【００４７】
制御部６３は、処理液の交換完了（処理液が処理に使用可能な状態となった時点）とともに、カウンタ・タイマ７３を始動して計時を開始させる。タイマ７３がｔ２時点からｔ３時点までの無視時間Ｔ１が経過するまでは、供給異常の判断は行わない。これは、処理液の交換後、一定時間の間は、薬液濃度が安定しづらいので、その不安定期間における誤判断を防止するためである。この無視時間Ｔ１を設けているので、供給異常の判断精度を向上させることができる。無視時間Ｔ１は、処理液の容量や薬液濃度、循環流速などによって適切な時間が異なるが、例えば、１５分程度である。
【００４８】
判断部７１は、カウンタ・タイマ７３を監視し、無視時間Ｔ１が経過するｔ３時点からｔ４時点までの間である第１の時間帯ＴＺ１において供給異常の判断を行う。その判断は、メモリ６９に記憶されている第１の監視間隔ＴＩ１ごとに行われる。供給異常か否かの判断は、第１の時間帯ＴＺ１において、供給量積算部７５から出力される第１の実績値ＡＶ１が、メモリ６９に記憶されている第１の正常値ＩＶ１の上限値ＩＶ１−Ｈと下限値ＩＶ１−Ｌの範囲にあるか否かにより判断部７１が行う。
【００４９】
例えば、硫酸と過酸化水素水の混合液であるＳＰＭ処理液は、第１の時間帯ＴＺ１において、硫酸の脱水作用により過酸化水素水の濃度が低下するので、過酸化水素水の補充が頻繁に行われる。したがって、比較的短い第１の監視間隔ＴＩ１で過酸化水素水の供給異常の有無を判断することにより、好適に判断することができる。
【００５０】
次に、時間が経過して、ｔ４時点に達したとする。この場合、第２の時間帯ＴＺ２となるので、第１の時間帯ＴＺ１とは異なるパラメータ及び判断値を用いることになる。判断部７１は、メモリ６９に記憶されている第２の監視間隔ＴＩ２ごとに判断を行う。異常か否かの判断は、第２の時間帯ＴＺ２において、供給量積算部７５から出力される第２の実績値ＡＶ２が、メモリ６９に記憶されている第２の正常値ＩＶ２の上限値ＩＶ２−Ｈと下限値ＩＶ２−Ｌの範囲にあるか否かにより判断部７１が行う。
【００５１】
例えば、硫酸と過酸化水素水の混合液であるＳＰＭ処理液は、第１の時間帯ＴＺ１において、頻繁に補充された過酸化水素水の水分が増えるので、過酸化水素水の補充頻度が低下する一方、硫酸の補充が増える。したがって、比較的長い第２の監視間隔ＴＩ２で過酸化水素水の供給異常の有無を判断することでも好適に判断することができる。また、監視間隔を長くすることで、制御部６３の負荷を軽減できる。
【００５２】
判断部７１による比較の結果、第１の正常値ＩＶ１の上限値ＩＶ１−Ｈと下限値ＩＶ１−Ｌの範囲外や第２の正常値ＩＶ２の上限値ＩＶ２−Ｈと下限値ＩＶ２−Ｌの範囲外である場合には、出力端子６４ａに異常発生信号を出力するとともに、処理を停止させる動作を行わせる。なお、本タイムチャートでは、第２の時間帯ＴＺ２においてのみ、基板Ｗを処理するようになっている。その場合には、薬液の供給を停止するとともに、第１供給管３１から純水だけを供給して、基板Ｗを所定時間だけ純水にてリンスする。そして、基板Ｗを処理槽１から搬出して待避させることが好ましい。
【００５３】
このように、ＳＰＭ処理液が生成されてから新たなＳＰＭ処理液を生成するまでの間を二つの時間帯（第１の時間帯ＴＺ１、第２の時間帯ＴＺ２）に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ第１の監視間隔ＴＩ１と第２の監視間隔ＴＩ２との個別に設定されている。したがって、ＳＰＭ処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。
【実施例２】
【００５４】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図３は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上述した実施例１と共通する構成については同符号を付すことにより、詳細な説明については省略する。
【００５５】
この実施例２の基板処理装置は、流量の積算値を求める供給量積算部７５に代えて供給回数積算部８１を備えている。供給回数積算部８１は、濃度制御部６５が制御弁５５，５９を駆動した回数を計数し、各駆動時に回数を逐次加算して得られる積算値を判断部７１へ出力する。供給回数積算部７５Ａは、処理液の交換時点でその積算値がリセットされる。なお、制御弁５５，５９を一回駆動することで供給される薬液量は予め分かっているものとする。また、第１補充管５１と第２補充管５３は流量計５７，６１を備えていない。
【００５６】
メモリ６９Ａは、実施例１と同様のパラメータや判断値を予め記憶している。但し、判断値の第１の正常値と、第２の正常値と、第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、第２の正常値を基準とした上限値と下限値は、積算量ではなく積算回数となる。
【００５７】
判断部７１Ａは、カウンタ・タイマ７３による無視時間の経過後、第１の時間帯及び第２の時間帯においてそれぞれの監視時間ごとに、供給回数積算部７５Ａから出力される実績値と、時間帯ごとの正常値の上下限値とを比較し、供給異常の有無を判断する。
【００５８】
なお、上述したメモリ６９Ａが本発明における「記憶手段」に相当し、判断部７１Ａが「判断手段」に相当し、供給回数積算部７５Ａが「実績値算出手段」に相当する。
【００５９】
次に、図４を参照する。上述した基板処理装置による供給異常検知の動作について説明する。図４は、動作説明に供するタイムチャートである。
【００６０】
図４中における各符号は、次のパラメータや判断値などを示す。なお、実施例１の図２と同じ符号についての説明は省略する。
【００６１】
符号ＩＣ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の正常値（供給回数の積算値）であり、符号ＩＣ１−Ｈは上限値であり、符号ＩＣ１−Ｌは下限値である。符号ＩＣ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の正常値（供給回数の積算値）であり、符号ＩＣ２−Ｈは上限値であり、符号ＩＣ２−Ｌは下限値である。なお、上限値ＩＣ１−Ｈは、第１の正常値ＩＣ１を基準として、下限値ＩＣ１−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。ＩＣ２−Ｈは、第２の正常値ＩＣ２を基準として、下限値ＩＣ２−Ｌよりも偏差が小さく設定されている。この理由は実施例１で述べたとおりである。符号ＡＣ１は、第１の時間帯ＴＺ１における第１の実績値（供給回数の積算値）であり、符号ＡＣ２は、第２の時間帯ＴＺ２における第２の実績値（供給回数の積算値）である。
【００６２】
このような構成の基板処理装置であっても、実施例１と同様の作用効果を奏することができる。また、薬液の供給量に代えて供給回数を監視するので、測定を比較的容易に行うことができる。
【００６３】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６４】
（１）上述した各実施例１，２では、処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを二つの時間帯に区分けしたが、三つ以上の時間帯に分けてもよい。また、二つの時間帯を規定するのに、時間帯を二つ設けることに代えて、二つの時間帯に区別する時間を一つ設けるようにしてもよい。
【００６５】
（２）上述した各実施例１，２の装置は、内槽３と外槽５とを供給配管１７で連通して処理液を循環させる方式であるが、外槽５から溢れた処理液を排出する非循環方式の装置であっても適用することができる。
【００６６】
（３）上述した各実施例１，２では、処理液として二種類の薬液からなるＳＰＭ処理液を例にとって説明したが、一種類の薬液と純水からなる処理液とした場合や、三種類以上の薬液からなるＳＰＭ処理液であってもよい。その場合には、補充する薬液の種類だけ上述したパラメータと判断値を用いるようにすればよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｗ … 基板
１ … 処理槽
３ … 内槽
５ … 外槽
５１ … 第１補充管
５３ … 第２補充管
５５，５９ … 制御弁
５７，６１ … 流量計
６３ … 制御部
６５ … 濃度測定部
６７ … 濃度制御部
６９ … メモリ
７１ … 判断部
７３ … カウンタ・タイマ
７５ … 供給量積算部
Ｔ１ … 無視時間
ＴＺ１ … 第１の時間帯
ＴＺ２ … 第２の時間帯
ＩＶ１ … 第１の正常値
ＩＶ１−Ｈ … 第１の正常値の上限値
ＩＶ１−Ｌ … 第１の正常値の下限値
ＩＶ２ … 第２の正常値
ＩＶ２−Ｈ … 第２の正常値の上限値
ＩＶ２−Ｌ … 第２の正常値の下限値
ＡＶ１ … 第１の実績値
ＡＶ２ … 第２の実績値
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法において、
薬液供給手段により薬液が供給される供給配管を流れる処理液中の薬液濃度を濃度測定手段により測定しつつ処理液を供給する過程と、
前記処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、第１の時間帯において、第１の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出する過程と、
薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液の供給量を前記第１の監視間隔で積算して予め得られている第１の正常値と、前記第１の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、
前記第２の時間帯において、第２の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出する過程と、
薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液の供給量を前記第２の監視間隔で積算して予め得られている第２の正常値と、前記第２の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第１の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、
前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第２の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値である
ことを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記第１の時間帯は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から設定されていることを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記異常の有無を判断する過程は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定されている
ことを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項５】
処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
薬液を含む処理液を前記処理槽に供給する供給配管と、
前記供給配管に薬液を供給する薬液供給手段と、
処理液中の薬液濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段の測定結果に応じて前記薬液供給手段を操作して、薬液の濃度を制御する濃度制御手段と、
処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、薬液の供給が正常な状態における第１の時間帯において、第１の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の正常値を予め求めておき、薬液の供給が正常な状態における第２の時間帯において、第２の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の正常値を予め求めておき、少なくとも前記第１の時間帯と前記第２の時間帯と、前記第１の監視間隔と前記第２の監視間隔と、前記第１の正常値と前記第２の正常値とを予め記憶する記憶手段と、
前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第１の時間間隔で積算して第１の実績値として算出し、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第２の時間間隔で積算して第２の実績値として算出する実績値算出手段と、
前記第１の正常値と前記第１の実績値、及び前記第２の正常値と前記第２の実績値とに基づいて供給異常の有無を判断する判断手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第１の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、
前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第２の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値である
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の基板処理装置において、
前記判断手段は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から前記第１の時間帯までは異常の判断を行わない
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項５から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記記憶手段は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値とを予め記憶し、前記第１の正常値の上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値の上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定され、
前記判断手段は、前記第１の正常値の上限値と下限値から前記第１の実績値が外れた場合に供給異常と判断し、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲から前記第２の実績値が外れた場合に供給異常と判断する
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法において、
薬液供給手段により薬液が供給される供給配管を流れる処理液中の薬液濃度を濃度測定手段により測定しつつ処理液を供給する過程と、
前記処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、第１の時間帯において、第１の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の実績値として算出する過程と、
薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液の供給量を前記第１の監視間隔で積算して予め得られている第１の正常値と、前記第１の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、
前記第２の時間帯において、第２の監視間隔で薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の実績値として算出する過程と、
薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液の供給量を前記第２の監視間隔で積算して予め得られている第２の正常値と、前記第２の実績値とを比較することにより供給異常の有無を判断する過程と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第１の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、
前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第２の正常値は、薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値である
ことを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記第１の時間帯は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から設定されていることを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置の供給異常検知方法において、
前記異常の有無を判断する過程は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲が用いられるとともに、上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定されている
ことを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。
【請求項５】
処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、基板を収容する処理槽と、
薬液を含む処理液を前記処理槽に供給する供給配管と、
前記供給配管に薬液を供給する薬液供給手段と、
処理液中の薬液濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段の測定結果に応じて前記薬液供給手段を操作して、薬液の濃度を制御する濃度制御手段と、
処理液の生成から新たな処理液を生成するまでを、第１の時間帯と第２の時間帯との少なくとも二つの時間帯に区分けし、薬液の供給が正常な状態における第１の時間帯において、第１の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第１の正常値を予め求めておき、薬液の供給が正常な状態における第２の時間帯において、第２の監視間隔で前記薬液供給手段からの薬液の供給量を積算して第２の正常値を予め求めておき、少なくとも前記第１の時間帯と前記第２の時間帯と、前記第１の監視間隔と前記第２の監視間隔と、前記第１の正常値と前記第２の正常値とを予め記憶する記憶手段と、
前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第１の時間間隔で積算して第１の実績値として算出し、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給量を第２の時間間隔で積算して第２の実績値として算出する実績値算出手段と、
前記第１の正常値と前記第１の実績値、及び前記第２の正常値と前記第２の実績値とに基づいて供給異常の有無を判断する判断手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記第１の実績値は、前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第１の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第１の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第１の監視間隔で計数して予め得られている値であり、
前記第２の実績値は、前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して得られる値であり、
前記第２の正常値は、前記薬液供給手段からの薬液の供給が正常な状態における前記第２の時間帯において、前記薬液供給手段からの供給回数を前記第２の監視間隔で計数して予め得られている値である
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の基板処理装置において、
前記判断手段は、前記処理液を生成した時点を基準として、一定の無視時間を経過した時点から前記第１の時間帯までは異常の判断を行わない
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項５から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記記憶手段は、前記第１の正常値を基準とした上限値と下限値と、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値とを予め記憶し、前記第１の正常値の上限値は下限値よりも第１の正常値からの偏差が小さく設定され、前記第２の正常値の上限値は下限値よりも第２の正常値からの偏差が小さく設定され、
前記判断手段は、前記第１の正常値の上限値と下限値から前記第１の実績値が外れた場合に供給異常と判断し、前記第２の正常値を基準とした上限値と下限値の範囲から前記第２の実績値が外れた場合に供給異常と判断する
ことを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２１０９７６（Ｐ２０１１−２１０９７６Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７７６９０（Ｐ２０１０−７７６９０）
【出願日】平成２２年３月３０日（２０１０．３．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３０日（２０１０．３．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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