塗布装置及びノズル洗浄方法
【課題】基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、生産性を低下させることなく、前記ノズルの洗浄を効果的に行う。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に長いスリット状の吐出口１０ａを有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液Ｒを吐出するノズル１０と、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段５，６とを具備する塗布装置１であって、前記吐出口が形成されるノズル先端部１０ｂにおいて塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層３０と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段３４，３５とを備える
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に長いスリット状の吐出口１０ａを有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液Ｒを吐出するノズル１０と、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段５，６とを具備する塗布装置１であって、前記吐出口が形成されるノズル先端部１０ｂにおいて塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層３０と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段３４，３５とを備える
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリット状の吐出口を有するノズルの洗浄機能を備えた塗布装置、及びそのノズル洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、塗布液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
【０００３】
このフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト膜を塗布形成する方法として、図１１に示すように基板幅方向に長いスリット状の吐出口５０ａを有するノズル５０を用いる方法（スリットコーティング法と呼ぶ）がある。
このスリットコーティング法にあっては、仰向けにされた被処理基板と、その上方に配置されたノズル５０とを相対的に移動させ、前記吐出口５０ａから帯状のレジスト液を基板上に吐出することによってレジスト膜を塗布形成するものである。
この方法によれば、基板上に均一な厚膜のレジスト膜を容易に形成することができる。
【０００４】
尚、前記ノズル５０にあっては、図１２（ノズル断面）に示すように、一対の内側面５０ｂ、５０ｃが所定の間隙を空けて対向配置され、その下端に吐出口５０ａが形成されている。
また、搬送される被処理基板Ｇの移動方向側の内側面５０ｂには、ノズル５０の長手方向に沿って溝状に形成されたキャビティ５０ｄが設けられている。このキャビティ５０ｄに、ノズル５０に供給されたレジスト液が一旦溜められることによって、スリット状の吐出口５０ａから一様に吐出されるようになされている。
【０００５】
ところで、基板移動方向側の内側面５０ｂにあっては、基板Ｇへのレジスト吐出が完了すると、キャビティ５０ｄに溜められたレジスト液が流れ落ちることによって、吐出口５０ａ付近におけるレジスト付着量が多くなる。
そのように内側面５０ｂに付着しているレジストは、乾燥固化し、結晶物（以下、付着物と呼ぶ）となりやすく、そのまま放置すると、吐出口５０ａからレジストを一様に吐出することができなるため、定期的にノズル内の洗浄を行う必要があった。
従来、ノズル内の洗浄は、吐出口５０ａからノズル５０内に金属板を挿入し、内側面５０ｂ、５０ｃの付着物を掻き出して除去する方法、或いは、ノズル５０を分解して各部品の洗浄を行う方法が採られていた。
尚、このようなスリット状のノズルについては、特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２４３６７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記のように吐出口５０ａからノズル５０内に金属板を挿入し、内側面５０ｂ、５０ｃの付着物を除去する方法にあっては、内壁面５０ｂ、５０ｃに擦り傷が生じ、それにより一様な吐出が困難となる虞があった。
また、ノズル５０を分解し、各部品を洗浄する方法にあっては、その作業工程数が多く、生産性が大きく低下するという課題があった。
【０００８】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、生産性を低下させることなく、前記ノズルの洗浄を効果的に行うことのできる塗布装置及びノズル洗浄方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備する塗布装置であって、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備えることに特徴を有する。
【００１０】
このような構成によれば、ノズル先端において塗布液付着量の多い基板移動方向側の内側面に光触媒層が形成され、相対向する内側面から前記光触媒層に光照射が可能となされる。
即ち、ノズル待機時にノズル先端の内側面に光照射を行うことにより、前記内側面における付着物を解離することができ、吐出口から洗浄液、或いは塗布液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口から金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
【００１１】
また、プライミング処理の直前に光触媒層への光照射を行うことによって、解離した付着物を洗い流す作業をプライミング処理でまかなうことができ、レジスト液の無駄な消費を抑えることができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層への光照射を行うことによって、ノズル先端の内側面への付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
【００１２】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係るノズル洗浄方法は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段と、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備える塗布装置において、前記ノズル先端部内を洗浄するノズル洗浄方法であって、前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを含むことに特徴を有する。
このような方法によれば、前記した塗布装置による効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、生産性を低下させることなく、前記ノズルの洗浄を効果的に行うことのできる塗布装置及びノズル洗浄方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明にかかる第一の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる第一の実施形態の全体概略構成を示す側面図である。
【図３】図３は、図１の塗布装置が備えるノズルの概略構成を示す断面図である。
【図４】図４は、本発明にかかる第一の実施形態の動作の流れを示すフロー図である。
【図５】図５は、本発明にかかる第一の実施形態の動作を説明するための断面図である。
【図６】図６は、本発明にかかる第二の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図７】図７は、本発明にかかる第二の実施形態の全体概略構成を示す側面図である。
【図８】図８は、図６の塗布装置が備えるノズルの概略構成を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明にかかる第二の実施形態の動作の流れを示すフロー図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる第二の実施形態の動作を説明するための断面図である。
【図１１】図１１は、従来のスリット状の吐出口を有するノズルを示す斜視図である。
【図１２】図１２は、従来のスリット状の吐出口を有するノズルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の塗布装置及びノズル洗浄方法にかかる第一の実施形態を、図１乃至図５に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、塗布装置を、被処理基板であるガラス基板を浮上搬送しながら、前記基板に対し塗布液であるレジスト液の塗布膜形成を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
【００１６】
図１、図２に示すように、塗布装置１は、ガラス基板Ｇを枚様式に一枚ずつ浮上搬送するための浮上搬送部２Ａと、前記浮上搬送部２Ａから基板Ｇを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部２Ｂとを備え、基板Ｇが所謂平流し搬送されるように構成されている。前記浮上搬送部２Ａにおいては、基板搬送方向であるＸ方向に延長された浮上ステージ３が設けられている。浮上ステージ３の上面には、図示するように多数のガス噴出口３ａとガス吸気口３ｂとがＸ方向とＹ方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口３ａからの不活性ガスの噴出量と、ガス吸気口３ｂからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Ｇを浮上させている。
尚、この実施形態では、ガスの噴出及び吸気により基板Ｇを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
【００１７】
また、前記コロ搬送部２Ｂにおいては、ステージ３の後段に、コロ駆動部４０によって回転駆動される複数本のコロ軸４１が並列に設けられている。各コロ軸４１には、複数の搬送コロ４２が取り付けられ、これら搬送コロ４２の回転によって基板Ｇを搬送する構成となされている。
【００１８】
また、前記浮上ステージ３の幅方向（Ｙ方向）の左右側方には、Ｘ方向に平行に延びる一対のガイドレール５が設けられている。この一対のガイドレール５には、ガラス基板Ｇの四隅の縁部を下方から吸着保持してガイドレール５上を移動する４つの基板キャリア６が設けられている。これら基板キャリア６により浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｇを搬送方向（Ｘ方向）に沿って移動される。
尚、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂへの基板引き渡しを円滑に行うために、ガイドレール５は、浮上ステージ３の左右側方だけでなく、コロ搬送部２Ｂの側方にまで延設されている。
また、前記基板キャリア６による基板Ｇの保持、及び搬送動作は、コンピュータからなる制御部５０により制御される。
【００１９】
また、図１、図２に示すように、塗布装置１の浮上ステージ３上には、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル１０が設けられている。ノズル１０は、Ｙ方向に向けて例えば長い略直方体形状に形成され、ガラス基板ＧのＹ方向の幅よりも長く形成されている。図２に示すようにノズル１０の下端部には、浮上ステージ３の幅方向に長いスリット状の吐出口１０ａが形成され、このノズル１０には、レジスト液供給源２０から送出ポンプ２１及び流量調整バルブ２２を介してレジスト液が供給されるようになされている。
尚、本実施形態にあっては、ガラス基板Ｇへのレジスト液の塗布時には、ノズル１０は浮上ステージ３に対し移動せず、ノズル１０の下方をガラス基板Ｇが搬送される。このため、ガイドレール５及び基板キャリア６により、ノズル１０に対し基板Ｇを相対的に移動させる相対移動手段が構成される。また、レジスト供給源２０、送出ポンプ２１、及び流量調整バルブ２２により塗布液供給手段が構成される。
【００２０】
また、図１に示すようにノズル１０の両側には、Ｘ方向に延びる一対のガイドレール１１が設けられている。ノズル１０は、ガイドレール１１上を移動するノズルアーム１２によって保持されている。このノズル１０は、ノズルアーム１２が有する駆動機構により、ガイドレール１１に沿ってＸ方向に移動可能となされている。
また、ノズルアーム１２には、昇降機構が設けられており、ノズル１０は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図２に示すように、ノズル１０は、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール１３、及び待機部１５との間を移動可能となされている。
【００２１】
前記回転ロール１３は、ノズル１０の吐出口１０ａに均一にレジスト液を付着させるためのプライミング処理に用いられる。回転ローラ１３は、洗浄タンク１４内に軸周りに回転可能に収容されている。プライミング処理の際には、回転ロール１３の最上部にノズル１０の吐出口１０ａを近接し、回転ロール１３を回転させながら、吐出口１０ａから回転ロール１３にレジスト液を吐出する。これにより、吐出口１０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられ、吐出口１０ａにおけるレジスト液の吐出状態を安定させることができる。
【００２２】
また、ステージ３の上方において、ノズル１０よりも上流側には待機部１５が設けられている。この待機部１５は、図１に示すようにノズル１０の吐出口１０ａに付着した余分なレジスト液を洗浄し除去するノズル洗浄部１５ａと、いわゆるダミー吐出を行うダミーディスペンス部１５ｂとを有している。
尚、ノズル１０の吐出位置と待機位置との間の移動制御、及びプライミング処理に係る回転ローラ１３の駆動、ノズル１０の吐出口１０ａからの吐出制御、待機部１５の動作制御等は制御部５０によって行われる。
【００２３】
また、本発明にかかる構成にあっては、ノズル内部の洗浄機構を備える。
即ち、図３に示すようにノズル１０は、ガラス基板Ｇの移動方向側（下流側）に配置されるノズルパーツ１６（第一のノズルパーツ）と、ノズルパーツ１７に対し所定の間隙Ｃを空けて（上流側に）対向配置されるノズルパーツ１７（第二のノズルパーツ）とにより構成される。
レジスト液の流路となる前記間隙Ｃは、ノズルパーツ１６の内側面１６ａとノズルパーツ１７の内側面１７ａとにより形成される。内側面１６ａ、１７ａはそれぞれ略垂直面となされ、浮上ステージ３の幅方向に延設されている。
【００２４】
ノズルパーツ１６は例えばステンレス鋼により形成され、その内側面１６ａには、ノズル１０の長手方向（浮上ステージ３の幅方向）に沿ってキャビティ１６ｂ（半円筒状の溝）が形成されている。このため、上方から間隙Ｃに供給されたレジスト液がキャビティ１６ｂに一旦溜められ、スリット状の吐出口１０ａからレジスト液を一様に吐出することができる。
【００２５】
また、キャビティ１６ｂの表面、及びそれより下方のノズル先端部１０ｂの内側面１６ａには、光触媒層３０が一様に形成されている。この光触媒層３０は、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）をコーティングすることにより形成される。
このようにノズル先端部１０ｂにおいて、レジスト吐出後にレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成されていることによって、付着物を酸化作用により解離し、除去しやすい状態とすることができる。
【００２６】
一方、ノズルパーツ１６に対向配置されたノズルパーツ１７にあっては、ノズルパーツ１６に形成された光触媒層３０を効果的に作用させるための構成を有する。
即ち、図３に示すようにノズルパーツ１７のノズル先端部１０ｂは、透光部材３１により形成される。透光部材３１は、光ファイバとして利用可能な材料、例えば透光性に優れる石英部材で形成されるのが望ましい。
この透光部材３１は、図示するように下端は吐出口１０ａ、上端はノズルパーツ１６のキャビティ１６ｂの上端と略同じ高さとなされている。
また、透光部材３１の外側面にはノズル内方向に反射面を有する光反射板３２がノズル１０の長手方向（ステージ３の幅方向）に沿って設けられている。
【００２７】
また、ノズルパーツ１７の内部において、前記透光部材３１上には、ノズル長手方向（ステージ３の幅方向）に長い導光板３３が設けられている。この導光板３３は、例えばアクリル樹脂により形成されている。
さらに、この導光板３３の上端部には光触媒反応可能な光である短波長の紫外線を放射する光源３４（例えばエキシマランプ）が配置され、その放射方向が下方、即ち導光板３３に向けられている。このため、光源３４から放射された紫外線は、導光板３３を介して透光部材３１に入射され、さらに光反射板３２に反射することによって放射角度が変更され、ノズルパーツ１６の光触媒層３０に対し照射されるようになされている。
かかる構成により、光源３４から放射された紫外線が照射される光触媒層３０では効果的に光触媒作用が生じ、光触媒層３０上の付着物を容易に解離することができる。
【００２８】
尚、前記光源３４は、光源駆動部３５により点灯制御され、さらに光源駆動部３５は制御部５０により制御がなされる。また、光源３４と光源駆動部３５により光照射手段が構成される。
また、ノズルパーツ１７において、前記透光部材３１、導光板３３を除く部分は、例えばステンレス鋼により形成されている。
【００２９】
また、ノズルパーツ１６，１７により形成される前記間隙Ｃには、レジスト液だけではなく、ノズル待機時において内側面１６ａ、１７ａを洗浄するためのレジスト溶解可能な洗浄液（例えばシンナー液）が必要に応じて供給可能となされている。
即ち、洗浄液供給手段として、洗浄液供給源３６と、そこから所定量の洗浄液を送出するための送出ポンプ３７、流量調整バルブ３８が設けられている。そして、ノズル１０への供給液が、切換バルブ３９（切換手段）によって、レジスト液と洗浄液のいずれかに切り換えられるようになされている。
【００３０】
続いて、このように構成された第一の実施形態にかかる塗布装置１において、基板Ｇへのレジスト液の塗布から待機時におけるノズルのプライミング処理（ノズル洗浄処理）までの一連の流れについて図４に基づいて説明する。
塗布装置１においては、浮上ステージ３に新たにガラス基板Ｇが搬入されると、基板Ｇはステージ３上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア６により保持される（図４のステップＳ１）。
そして、制御部５０の制御により基板キャリア６が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される（図４のステップＳ２）。
【００３１】
また、図５（ａ）に示すように、レジストノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液Ｒが吐出され、ノズル１０の下方を通過する基板Ｇに対し塗布処理が施される（図４のステップＳ３）。
基板Ｇ上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル１０からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Ｇは、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される（図４のステップＳ４）。
【００３２】
待機期間になると、制御部５０は、ノズル１０をレール１０に沿って待機部１５の上方へと移動させる（図４のステップＳ５）。
そして、先ずノズル１０の先端部１０ｂの外面に対し、ノズル洗浄部１５ａにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部１５ｂにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル１０の一次洗浄が完了する（図４のステップＳ６）。
【００３３】
一次洗浄が完了したノズル１０は、図５（ｂ）に示すように回転ローラ１３の上方へと移動される。そして、光源駆動部３５により光源３４が点灯され、導光板３３、透光部材３１、及び反射板３２を介して、短波長の紫外線がノズル先端部１０ｂに形成された光触媒層３０に照射される（図４のステップＳ７）。
これにより、ノズル先端部１０ｂにおいて光触媒層３０上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
【００３４】
次いで、例えば塗布処理を行った基板枚数が所定数に達しない場合（通常時）、図５（ｃ）に示すように回転ローラ１３が所定方向に回転駆動され、レジスト供給源２０からノズル１０にレジスト供給されて吐出口１０ａから回転ローラ１３のローラ面にレジスト液Ｒが吐出される（図４のステップＳ９）。これにより、前記ステップＳ７において解離された付着物が洗い流され、ノズル１０の二次洗浄が行われると共に、吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒを付着させるためのプライミング処理が行われる（図４のステップＳ９）。
また、プライミング処理が完了したノズル１０は塗布位置へと移動され、次の基板Ｇの塗布処理を行うこととなる（図４のステップＳ１０）。
【００３５】
一方、前記ステップＳ８において、例えば塗布処理を行った基板枚数が所定数に達した場合、切換バルブ３９の切換によってノズル１０内の間隙Ｃに洗浄液（シンナー液）が供給され、図５（ｄ）に示すように吐出口１０ａから洗浄液Ｔが洗浄タンク１４内に吐出される（図４のステップＳ１１）。
これにより、内側面１６ａ，１７ａに残る付着物を洗浄液Ｔがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップＳ７において解離された付着物が容易に洗い流される（二次洗浄）。
その後、プライミング処理によって吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒが付着され（図４のステップＳ９）、ノズル１０は塗布位置へと移動される（図４のステップＳ１０）。
【００３６】
以上のように、本発明に係る第一の実施形態によれば、ノズル先端１０ｂにおいてレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成され、相対向する内側面１７ａから前記光触媒層３０に光（紫外線）照射が可能な構成となされる。
この構成において、ノズル待機時にノズル先端１０ｂの内側面１６ａに光照射を行うことにより、前記内側面１６ａにおける付着物を解離することができ、吐出口１０ａから洗浄液、或いはレジスト液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口１０ａから金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
【００３７】
また、プライミング処理の直前に光触媒層３０への光照射を行うことによって、解離した付着物を洗い流す作業をプライミング処理でまかなうことができ、レジスト液の無駄な消費を抑えることができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層３０への光照射を行うことによって、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａへの付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
【００３８】
続いて、本発明にかかる第二の実施形態を、図６乃至図１０に基づき説明する。この第二の実施形態にあっては、前記した第一の実施形態と、ノズル１０の構成、及びその洗浄機構が一部異なるのみであるため、第一の実施形態と同じ構成のものについては、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
【００３９】
本発明にかかる第二の実施形態にあっては、図６、図７に示すようにステージ３の幅方向に長く形成され、短波長の紫外線を照射する光源３４（例えばエキシマランプ）が、ノズル１０ではなく回転ローラ１３の上流側の側方に配置されている。
さらに、光源３４の上流側の側方には、浮上ステージ３を跨いでレール４５が架設され、そのレール４５に沿ってＣＣＤカメラ４６（光センサ）が移動可能に設けられている。このＣＣＤカメラ４６は、投光部（図示せず）と受光部（図示せず）とを有し、投光部により所定波長の光を投光し、投光対象において反射した光を受光部が受光する構成となされている。
【００４０】
図７に示すように、ＣＣＤカメラ４６の投光方向、及び受光方向は回転ローラ１３の少し上方、即ちプライミング時にノズル先端１０ｂが位置する方向に向けられている。即ち、ＣＣＤカメラ４６からの投光対象はノズル先端部１０ｂであり、プライミング処理時において、ＣＣＤカメラ４６は、レール４５に沿って移動しながら、ノズル１０の先端１０ｂの一端から他端まで、所定波長の光を投光し、その反射光を受光するようになされている。
【００４１】
また、図８に示すように、第二の実施形態にあっては、ノズル１０の構成が第一の実施形態とは異なる。
即ち、図示するように、ノズルパーツ１６の構成は第一の実施形態と同じであるが、ノズルパーツ１７において図３に示した導光板３３及び反射板３２は具備しない。
また、ノズルパーツ１７において先端部１０ｂには、図３に示した透光部材３１と同様の部材で形成された透光部材４７が設けられる。この透光部材４７の上端は、少なくとも光源３４から放射された光が、この透光部材４７を透過し、対向するノズルパーツ１６のキャビティ１６ｂに照射される高さとなされている。
【００４２】
かかる構成により、図８に示すようにノズル１０が回転ローラ１３上に位置する状態で、光源３４が点灯すると、ノズル先端１０ｂの透光部材４７を介し、ノズルパーツ１６の内側面１６ａ（及びキャビティ１６ｂ）に形成された光触媒層３０に対して紫外線が照射されるようになされている。
このため、プライミング処理において、ノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液を吐出する前に、光源３４により光触媒層３０に対し紫外線を照射することによって、光触媒層３０上における付着物を効果的に解離することができる。そして、吐出口１０ａからレジスト液を吐出することにより、解離された付着物を容易に除去することができる。
【００４３】
また、図８に示すようにノズル１０が回転ローラ１３上に位置する状態で、ＣＣＤカメラ４６がレール４５に沿って移動しながら投光した所定波長の光は、透光部材４７を透過し、ノズルパーツ１６の内側面１６ａに形成された光触媒層３０に照射されて反射し、再び透光部材４７を透過してＣＣＤカメラ４６に受光されることとなる。
【００４４】
また、ＣＣＤカメラ４６が受光した受光信号は、制御部５０に供給され、その受光信号は、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａに、固化した付着物が存在するか否かの判定に用いられる。
具体的には、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａに固化した付着物が存在する場合、投光された光の強度が反射光において低下すると共に、反射光において位相ずれが生じる。そのため、制御部５０では、受光信号から得られる反射光の位相と強度とが、それぞれ所定範囲内であるか否かを判定することによって、内側面１６ａにおいて固化した付着物の有無を判定するようになされている。
尚、ＣＣＤカメラ４６が投光する光の波長は、レジスト液に対し吸収帯の少ない波長が望ましい。
【００４５】
続いて、このように構成された第二の実施形態にかかる塗布装置１において、基板Ｇへのレジスト液の塗布から待機時におけるノズルのプライミング処理（ノズル洗浄処理）までの一連の流れについて説明する。
塗布装置１においては、浮上ステージ３に新たにガラス基板Ｇが搬入されると、基板Ｇはステージ３上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア６により保持される（図９のステップＳＴ１）。
そして、制御部５０の制御により基板キャリア６が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される（図９のステップＳＴ２）。
【００４６】
また、図１０（ａ）に示すように、レジストノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液Ｒが吐出され、ノズル１０の下方を通過する基板Ｇに対し塗布処理が施される（図９のステップＳＴ３）。
基板Ｇ上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル１０からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Ｇは、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される（図９のステップＳＴ４）。
【００４７】
待機期間に入ると、制御部５０は、ノズル１０をレール１０に沿って待機部１５の上方へと移動させる（図９のステップＳＴ５）。
そして、先ずノズル１０の先端部１０ｂの外面に対し、ノズル洗浄部１５ａにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部１５ｂにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル１０の一次洗浄が完了する（図９のステップＳＴ６）。
【００４８】
一次洗浄が完了したノズル１０は、図１０（ｂ）に示すように回転ローラ１３の上方へと移動される。
そして、ＣＣＤカメラ４６がレール４５に沿って移動しながら所定波長の光をノズル先端部１０ｂに向けて投光し、光触媒層３０において反射した反射光を受光する（図９のステップＳＴ７）。
ＣＣＤカメラ４６による受光信号は、制御部５０において光強度及び位相が所定範囲内であるか解析され、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａに付着した固化物の有無が判定される。
【００４９】
そして、制御部５０により、内側面１６ａに付着物があると判定された場合（図９のステップＳＴ８）、光源駆動部３５により光源３４が点灯され、透光部材４７を透過した光がノズルパーツ１６の先端部１０ｂに形成された光触媒層３０に照射される（図９のステップＳＴ９）。
これにより、ノズル先端部１０ｂにおいて光触媒層３０上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
【００５０】
次いで、切換バルブ３９の切換によってノズル１０内の間隙Ｃに洗浄液（シンナー液）が供給され、図１０（ｃ）に示すように吐出口１０ａから洗浄液Ｔが洗浄タンク１４内に吐出される（図９のステップＳＴ１０）。
これにより、内側面１６ａ，１７ａに残る付着物を洗浄液Ｔがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップＳＴ９において解離された付着物が容易に洗い流される（二次洗浄）。
【００５１】
次に、図１０（ｄ）に示すように回転ローラ１３が所定方向に回転駆動され、切換バルブ３９の切換によってレジスト供給源２０からノズル１０にレジスト供給されて吐出口１０ａから回転ローラ１３のローラ面にレジスト液Ｒが吐出される。これにより、吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒを付着させるためのプライミング処理が行われる（図９のステップＳＴ１１）。
尚、ステップＳＴ８において、制御部５０により内側面１６ａに付着物が無いと判定された場合、紫外線照射（ステップＳＴ９）及び洗浄液Ｔの吐出（ステップＳＴ１０）は行われず、ステップＳＴ１１のプライミング処理が行われる。
プライミング処理が完了したノズル１０は塗布位置へと移動され、次の基板Ｇの塗布処理を行うこととなる（図９のステップＳＴ１２）。
【００５２】
以上のように、本発明に係る第二の実施形態によれば、前記第一の実施形態と同様にノズル先端１０ｂにおいてレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成され、相対向する内側面１７ａから前記光触媒層３０に光（紫外線）照射が可能な構成となされる。
さらに、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａの状態を検出するためのＣＣＤカメラ４６が設けられ、制御部５０において内側面１６ａにおける付着物の有無が判定される。
この構成により、前記第一の実施形態と同様の作用効果を得ることができるだけでなく、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａに付着物が有る場合にのみ、内側面１６ａの光触媒層３０に対し光照射を行えばよく、効率的にノズル内の洗浄を行うことができる。
【００５３】
尚、前記第二の実施形態においては、内側面１６ａの光触媒層３０に光照射し（図９のステップＳＴ９）、解離した付着物を洗浄液Ｔにより洗い流すようにしたが（図９のステップＳＴ１０）、それに限定されるものではない。
例えば、前記ステップＳＴ１０を省き、ステップＳＴ１１のプライミング処理におけるレジスト液Ｒの吐出により付着物を洗い流すようにしてもよい。
【００５４】
また、前記第一、第二の実施形態にあっては、ノズル１０の一次洗浄（図４のステップＳ６、図９のステップＳＴ６）の後にノズル内側面１６ａの光触媒層３０に対し光照射を行い、解離した付着物を洗浄液Ｔ、或いはプライミング処理でのレジスト液吐出により洗い流すようにしたが、光照射、及び洗い流しのタイミングは、それに限定されるものではない。
例えば、ノズル１０の一次洗浄において、ノズル先端部１０ｂの外面をノズル洗浄部１５ａで洗浄した後、前記光触媒層３０に光照射を行い、解離した付着物を、ダミーディスペンス部１５ｂにおけるレジスト液吐出により洗い流し、更にその後、プライミング処理を行うようにしてもよい。
【００５５】
また、前記第一、第二の実施形態においては、浮上ステージ３上を平流し搬送される基板Ｇに対しレジスト膜を形成する構成としたが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではなく、塗布液を吐出するノズルと被処理基板とが相対的に移動する構成であれば、その他の構成にも適用することができる。例えば、基板Ｇをステージに載置（吸着）し、前記ステージをノズルに対して移動させる構成であってもよい。或いは、基板Ｇをステージに載置（吸着）し、ノズルを走査しながら塗布膜を形成する構成であってもよい。
【００５６】
また、光触媒層３０を、例えば酸化チタン（ＴｉＯ2）をコーティングすることにより形成し、光源３４が放射する光を短波長の紫外線としたが、その組み合わせに限定されるものではなく、光触媒反応可能な組み合わせであれば、他の光触媒や他の波長の光を用いてもよい。
また、前記第一、第二の実施形態にあっては、本発明にかかる塗布装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる塗布装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００５７】
１ 塗布装置
５ ガイドレール（相対移動手段）
６ 基板キャリア（相対移動手段）
１０ ノズル
１０ａ 吐出口
３０ 光触媒層
３４ 光源（光照射手段）
３５ 光源駆動部（光照射手段）
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
Ｒ レジスト（塗布液）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリット状の吐出口を有するノズルの洗浄機能を備えた塗布装置、及びそのノズル洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、塗布液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
【０００３】
このフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト膜を塗布形成する方法として、図１１に示すように基板幅方向に長いスリット状の吐出口５０ａを有するノズル５０を用いる方法（スリットコーティング法と呼ぶ）がある。
このスリットコーティング法にあっては、仰向けにされた被処理基板と、その上方に配置されたノズル５０とを相対的に移動させ、前記吐出口５０ａから帯状のレジスト液を基板上に吐出することによってレジスト膜を塗布形成するものである。
この方法によれば、基板上に均一な厚膜のレジスト膜を容易に形成することができる。
【０００４】
尚、前記ノズル５０にあっては、図１２（ノズル断面）に示すように、一対の内側面５０ｂ、５０ｃが所定の間隙を空けて対向配置され、その下端に吐出口５０ａが形成されている。
また、搬送される被処理基板Ｇの移動方向側の内側面５０ｂには、ノズル５０の長手方向に沿って溝状に形成されたキャビティ５０ｄが設けられている。このキャビティ５０ｄに、ノズル５０に供給されたレジスト液が一旦溜められることによって、スリット状の吐出口５０ａから一様に吐出されるようになされている。
【０００５】
ところで、基板移動方向側の内側面５０ｂにあっては、基板Ｇへのレジスト吐出が完了すると、キャビティ５０ｄに溜められたレジスト液が流れ落ちることによって、吐出口５０ａ付近におけるレジスト付着量が多くなる。
そのように内側面５０ｂに付着しているレジストは、乾燥固化し、結晶物（以下、付着物と呼ぶ）となりやすく、そのまま放置すると、吐出口５０ａからレジストを一様に吐出することができなるため、定期的にノズル内の洗浄を行う必要があった。
従来、ノズル内の洗浄は、吐出口５０ａからノズル５０内に金属板を挿入し、内側面５０ｂ、５０ｃの付着物を掻き出して除去する方法、或いは、ノズル５０を分解して各部品の洗浄を行う方法が採られていた。
尚、このようなスリット状のノズルについては、特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２４３６７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記のように吐出口５０ａからノズル５０内に金属板を挿入し、内側面５０ｂ、５０ｃの付着物を除去する方法にあっては、内壁面５０ｂ、５０ｃに擦り傷が生じ、それにより一様な吐出が困難となる虞があった。
また、ノズル５０を分解し、各部品を洗浄する方法にあっては、その作業工程数が多く、生産性が大きく低下するという課題があった。
【０００８】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、生産性を低下させることなく、前記ノズルの洗浄を効果的に行うことのできる塗布装置及びノズル洗浄方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備する塗布装置であって、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備えることに特徴を有する。
【００１０】
このような構成によれば、ノズル先端において塗布液付着量の多い基板移動方向側の内側面に光触媒層が形成され、相対向する内側面から前記光触媒層に光照射が可能となされる。
即ち、ノズル待機時にノズル先端の内側面に光照射を行うことにより、前記内側面における付着物を解離することができ、吐出口から洗浄液、或いは塗布液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口から金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
【００１１】
また、プライミング処理の直前に光触媒層への光照射を行うことによって、解離した付着物を洗い流す作業をプライミング処理でまかなうことができ、レジスト液の無駄な消費を抑えることができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層への光照射を行うことによって、ノズル先端の内側面への付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
【００１２】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係るノズル洗浄方法は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段と、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備える塗布装置において、前記ノズル先端部内を洗浄するノズル洗浄方法であって、前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを含むことに特徴を有する。
このような方法によれば、前記した塗布装置による効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板幅方向に長いスリット状の吐出口を有するノズルを備えた塗布装置において、生産性を低下させることなく、前記ノズルの洗浄を効果的に行うことのできる塗布装置及びノズル洗浄方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明にかかる第一の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明にかかる第一の実施形態の全体概略構成を示す側面図である。
【図３】図３は、図１の塗布装置が備えるノズルの概略構成を示す断面図である。
【図４】図４は、本発明にかかる第一の実施形態の動作の流れを示すフロー図である。
【図５】図５は、本発明にかかる第一の実施形態の動作を説明するための断面図である。
【図６】図６は、本発明にかかる第二の実施形態の全体概略構成を示す平面図である。
【図７】図７は、本発明にかかる第二の実施形態の全体概略構成を示す側面図である。
【図８】図８は、図６の塗布装置が備えるノズルの概略構成を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明にかかる第二の実施形態の動作の流れを示すフロー図である。
【図１０】図１０は、本発明にかかる第二の実施形態の動作を説明するための断面図である。
【図１１】図１１は、従来のスリット状の吐出口を有するノズルを示す斜視図である。
【図１２】図１２は、従来のスリット状の吐出口を有するノズルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の塗布装置及びノズル洗浄方法にかかる第一の実施形態を、図１乃至図５に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、塗布装置を、被処理基板であるガラス基板を浮上搬送しながら、前記基板に対し塗布液であるレジスト液の塗布膜形成を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
【００１６】
図１、図２に示すように、塗布装置１は、ガラス基板Ｇを枚様式に一枚ずつ浮上搬送するための浮上搬送部２Ａと、前記浮上搬送部２Ａから基板Ｇを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部２Ｂとを備え、基板Ｇが所謂平流し搬送されるように構成されている。前記浮上搬送部２Ａにおいては、基板搬送方向であるＸ方向に延長された浮上ステージ３が設けられている。浮上ステージ３の上面には、図示するように多数のガス噴出口３ａとガス吸気口３ｂとがＸ方向とＹ方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口３ａからの不活性ガスの噴出量と、ガス吸気口３ｂからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Ｇを浮上させている。
尚、この実施形態では、ガスの噴出及び吸気により基板Ｇを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
【００１７】
また、前記コロ搬送部２Ｂにおいては、ステージ３の後段に、コロ駆動部４０によって回転駆動される複数本のコロ軸４１が並列に設けられている。各コロ軸４１には、複数の搬送コロ４２が取り付けられ、これら搬送コロ４２の回転によって基板Ｇを搬送する構成となされている。
【００１８】
また、前記浮上ステージ３の幅方向（Ｙ方向）の左右側方には、Ｘ方向に平行に延びる一対のガイドレール５が設けられている。この一対のガイドレール５には、ガラス基板Ｇの四隅の縁部を下方から吸着保持してガイドレール５上を移動する４つの基板キャリア６が設けられている。これら基板キャリア６により浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｇを搬送方向（Ｘ方向）に沿って移動される。
尚、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂへの基板引き渡しを円滑に行うために、ガイドレール５は、浮上ステージ３の左右側方だけでなく、コロ搬送部２Ｂの側方にまで延設されている。
また、前記基板キャリア６による基板Ｇの保持、及び搬送動作は、コンピュータからなる制御部５０により制御される。
【００１９】
また、図１、図２に示すように、塗布装置１の浮上ステージ３上には、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル１０が設けられている。ノズル１０は、Ｙ方向に向けて例えば長い略直方体形状に形成され、ガラス基板ＧのＹ方向の幅よりも長く形成されている。図２に示すようにノズル１０の下端部には、浮上ステージ３の幅方向に長いスリット状の吐出口１０ａが形成され、このノズル１０には、レジスト液供給源２０から送出ポンプ２１及び流量調整バルブ２２を介してレジスト液が供給されるようになされている。
尚、本実施形態にあっては、ガラス基板Ｇへのレジスト液の塗布時には、ノズル１０は浮上ステージ３に対し移動せず、ノズル１０の下方をガラス基板Ｇが搬送される。このため、ガイドレール５及び基板キャリア６により、ノズル１０に対し基板Ｇを相対的に移動させる相対移動手段が構成される。また、レジスト供給源２０、送出ポンプ２１、及び流量調整バルブ２２により塗布液供給手段が構成される。
【００２０】
また、図１に示すようにノズル１０の両側には、Ｘ方向に延びる一対のガイドレール１１が設けられている。ノズル１０は、ガイドレール１１上を移動するノズルアーム１２によって保持されている。このノズル１０は、ノズルアーム１２が有する駆動機構により、ガイドレール１１に沿ってＸ方向に移動可能となされている。
また、ノズルアーム１２には、昇降機構が設けられており、ノズル１０は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図２に示すように、ノズル１０は、ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール１３、及び待機部１５との間を移動可能となされている。
【００２１】
前記回転ロール１３は、ノズル１０の吐出口１０ａに均一にレジスト液を付着させるためのプライミング処理に用いられる。回転ローラ１３は、洗浄タンク１４内に軸周りに回転可能に収容されている。プライミング処理の際には、回転ロール１３の最上部にノズル１０の吐出口１０ａを近接し、回転ロール１３を回転させながら、吐出口１０ａから回転ロール１３にレジスト液を吐出する。これにより、吐出口１０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられ、吐出口１０ａにおけるレジスト液の吐出状態を安定させることができる。
【００２２】
また、ステージ３の上方において、ノズル１０よりも上流側には待機部１５が設けられている。この待機部１５は、図１に示すようにノズル１０の吐出口１０ａに付着した余分なレジスト液を洗浄し除去するノズル洗浄部１５ａと、いわゆるダミー吐出を行うダミーディスペンス部１５ｂとを有している。
尚、ノズル１０の吐出位置と待機位置との間の移動制御、及びプライミング処理に係る回転ローラ１３の駆動、ノズル１０の吐出口１０ａからの吐出制御、待機部１５の動作制御等は制御部５０によって行われる。
【００２３】
また、本発明にかかる構成にあっては、ノズル内部の洗浄機構を備える。
即ち、図３に示すようにノズル１０は、ガラス基板Ｇの移動方向側（下流側）に配置されるノズルパーツ１６（第一のノズルパーツ）と、ノズルパーツ１７に対し所定の間隙Ｃを空けて（上流側に）対向配置されるノズルパーツ１７（第二のノズルパーツ）とにより構成される。
レジスト液の流路となる前記間隙Ｃは、ノズルパーツ１６の内側面１６ａとノズルパーツ１７の内側面１７ａとにより形成される。内側面１６ａ、１７ａはそれぞれ略垂直面となされ、浮上ステージ３の幅方向に延設されている。
【００２４】
ノズルパーツ１６は例えばステンレス鋼により形成され、その内側面１６ａには、ノズル１０の長手方向（浮上ステージ３の幅方向）に沿ってキャビティ１６ｂ（半円筒状の溝）が形成されている。このため、上方から間隙Ｃに供給されたレジスト液がキャビティ１６ｂに一旦溜められ、スリット状の吐出口１０ａからレジスト液を一様に吐出することができる。
【００２５】
また、キャビティ１６ｂの表面、及びそれより下方のノズル先端部１０ｂの内側面１６ａには、光触媒層３０が一様に形成されている。この光触媒層３０は、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）をコーティングすることにより形成される。
このようにノズル先端部１０ｂにおいて、レジスト吐出後にレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成されていることによって、付着物を酸化作用により解離し、除去しやすい状態とすることができる。
【００２６】
一方、ノズルパーツ１６に対向配置されたノズルパーツ１７にあっては、ノズルパーツ１６に形成された光触媒層３０を効果的に作用させるための構成を有する。
即ち、図３に示すようにノズルパーツ１７のノズル先端部１０ｂは、透光部材３１により形成される。透光部材３１は、光ファイバとして利用可能な材料、例えば透光性に優れる石英部材で形成されるのが望ましい。
この透光部材３１は、図示するように下端は吐出口１０ａ、上端はノズルパーツ１６のキャビティ１６ｂの上端と略同じ高さとなされている。
また、透光部材３１の外側面にはノズル内方向に反射面を有する光反射板３２がノズル１０の長手方向（ステージ３の幅方向）に沿って設けられている。
【００２７】
また、ノズルパーツ１７の内部において、前記透光部材３１上には、ノズル長手方向（ステージ３の幅方向）に長い導光板３３が設けられている。この導光板３３は、例えばアクリル樹脂により形成されている。
さらに、この導光板３３の上端部には光触媒反応可能な光である短波長の紫外線を放射する光源３４（例えばエキシマランプ）が配置され、その放射方向が下方、即ち導光板３３に向けられている。このため、光源３４から放射された紫外線は、導光板３３を介して透光部材３１に入射され、さらに光反射板３２に反射することによって放射角度が変更され、ノズルパーツ１６の光触媒層３０に対し照射されるようになされている。
かかる構成により、光源３４から放射された紫外線が照射される光触媒層３０では効果的に光触媒作用が生じ、光触媒層３０上の付着物を容易に解離することができる。
【００２８】
尚、前記光源３４は、光源駆動部３５により点灯制御され、さらに光源駆動部３５は制御部５０により制御がなされる。また、光源３４と光源駆動部３５により光照射手段が構成される。
また、ノズルパーツ１７において、前記透光部材３１、導光板３３を除く部分は、例えばステンレス鋼により形成されている。
【００２９】
また、ノズルパーツ１６，１７により形成される前記間隙Ｃには、レジスト液だけではなく、ノズル待機時において内側面１６ａ、１７ａを洗浄するためのレジスト溶解可能な洗浄液（例えばシンナー液）が必要に応じて供給可能となされている。
即ち、洗浄液供給手段として、洗浄液供給源３６と、そこから所定量の洗浄液を送出するための送出ポンプ３７、流量調整バルブ３８が設けられている。そして、ノズル１０への供給液が、切換バルブ３９（切換手段）によって、レジスト液と洗浄液のいずれかに切り換えられるようになされている。
【００３０】
続いて、このように構成された第一の実施形態にかかる塗布装置１において、基板Ｇへのレジスト液の塗布から待機時におけるノズルのプライミング処理（ノズル洗浄処理）までの一連の流れについて図４に基づいて説明する。
塗布装置１においては、浮上ステージ３に新たにガラス基板Ｇが搬入されると、基板Ｇはステージ３上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア６により保持される（図４のステップＳ１）。
そして、制御部５０の制御により基板キャリア６が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される（図４のステップＳ２）。
【００３１】
また、図５（ａ）に示すように、レジストノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液Ｒが吐出され、ノズル１０の下方を通過する基板Ｇに対し塗布処理が施される（図４のステップＳ３）。
基板Ｇ上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル１０からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Ｇは、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される（図４のステップＳ４）。
【００３２】
待機期間になると、制御部５０は、ノズル１０をレール１０に沿って待機部１５の上方へと移動させる（図４のステップＳ５）。
そして、先ずノズル１０の先端部１０ｂの外面に対し、ノズル洗浄部１５ａにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部１５ｂにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル１０の一次洗浄が完了する（図４のステップＳ６）。
【００３３】
一次洗浄が完了したノズル１０は、図５（ｂ）に示すように回転ローラ１３の上方へと移動される。そして、光源駆動部３５により光源３４が点灯され、導光板３３、透光部材３１、及び反射板３２を介して、短波長の紫外線がノズル先端部１０ｂに形成された光触媒層３０に照射される（図４のステップＳ７）。
これにより、ノズル先端部１０ｂにおいて光触媒層３０上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
【００３４】
次いで、例えば塗布処理を行った基板枚数が所定数に達しない場合（通常時）、図５（ｃ）に示すように回転ローラ１３が所定方向に回転駆動され、レジスト供給源２０からノズル１０にレジスト供給されて吐出口１０ａから回転ローラ１３のローラ面にレジスト液Ｒが吐出される（図４のステップＳ９）。これにより、前記ステップＳ７において解離された付着物が洗い流され、ノズル１０の二次洗浄が行われると共に、吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒを付着させるためのプライミング処理が行われる（図４のステップＳ９）。
また、プライミング処理が完了したノズル１０は塗布位置へと移動され、次の基板Ｇの塗布処理を行うこととなる（図４のステップＳ１０）。
【００３５】
一方、前記ステップＳ８において、例えば塗布処理を行った基板枚数が所定数に達した場合、切換バルブ３９の切換によってノズル１０内の間隙Ｃに洗浄液（シンナー液）が供給され、図５（ｄ）に示すように吐出口１０ａから洗浄液Ｔが洗浄タンク１４内に吐出される（図４のステップＳ１１）。
これにより、内側面１６ａ，１７ａに残る付着物を洗浄液Ｔがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップＳ７において解離された付着物が容易に洗い流される（二次洗浄）。
その後、プライミング処理によって吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒが付着され（図４のステップＳ９）、ノズル１０は塗布位置へと移動される（図４のステップＳ１０）。
【００３６】
以上のように、本発明に係る第一の実施形態によれば、ノズル先端１０ｂにおいてレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成され、相対向する内側面１７ａから前記光触媒層３０に光（紫外線）照射が可能な構成となされる。
この構成において、ノズル待機時にノズル先端１０ｂの内側面１６ａに光照射を行うことにより、前記内側面１６ａにおける付着物を解離することができ、吐出口１０ａから洗浄液、或いはレジスト液を吐出することによって、前記解離した付着物を容易に洗い流して除去することができる。
したがって、従来のようにメンテナンス時において、吐出口１０ａから金属板を挿入する作業、或いは、ノズルを分解する作業が必要ないため、ノズル内を傷つけることがなく、生産性の低下を防ぐことができる。
【００３７】
また、プライミング処理の直前に光触媒層３０への光照射を行うことによって、解離した付着物を洗い流す作業をプライミング処理でまかなうことができ、レジスト液の無駄な消費を抑えることができる。
さらにプライミング処理前に毎回、光触媒層３０への光照射を行うことによって、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａへの付着物の蓄積を防止することができ、洗浄液の使用回数やメンテナンスの回数を低減することができる。
【００３８】
続いて、本発明にかかる第二の実施形態を、図６乃至図１０に基づき説明する。この第二の実施形態にあっては、前記した第一の実施形態と、ノズル１０の構成、及びその洗浄機構が一部異なるのみであるため、第一の実施形態と同じ構成のものについては、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
【００３９】
本発明にかかる第二の実施形態にあっては、図６、図７に示すようにステージ３の幅方向に長く形成され、短波長の紫外線を照射する光源３４（例えばエキシマランプ）が、ノズル１０ではなく回転ローラ１３の上流側の側方に配置されている。
さらに、光源３４の上流側の側方には、浮上ステージ３を跨いでレール４５が架設され、そのレール４５に沿ってＣＣＤカメラ４６（光センサ）が移動可能に設けられている。このＣＣＤカメラ４６は、投光部（図示せず）と受光部（図示せず）とを有し、投光部により所定波長の光を投光し、投光対象において反射した光を受光部が受光する構成となされている。
【００４０】
図７に示すように、ＣＣＤカメラ４６の投光方向、及び受光方向は回転ローラ１３の少し上方、即ちプライミング時にノズル先端１０ｂが位置する方向に向けられている。即ち、ＣＣＤカメラ４６からの投光対象はノズル先端部１０ｂであり、プライミング処理時において、ＣＣＤカメラ４６は、レール４５に沿って移動しながら、ノズル１０の先端１０ｂの一端から他端まで、所定波長の光を投光し、その反射光を受光するようになされている。
【００４１】
また、図８に示すように、第二の実施形態にあっては、ノズル１０の構成が第一の実施形態とは異なる。
即ち、図示するように、ノズルパーツ１６の構成は第一の実施形態と同じであるが、ノズルパーツ１７において図３に示した導光板３３及び反射板３２は具備しない。
また、ノズルパーツ１７において先端部１０ｂには、図３に示した透光部材３１と同様の部材で形成された透光部材４７が設けられる。この透光部材４７の上端は、少なくとも光源３４から放射された光が、この透光部材４７を透過し、対向するノズルパーツ１６のキャビティ１６ｂに照射される高さとなされている。
【００４２】
かかる構成により、図８に示すようにノズル１０が回転ローラ１３上に位置する状態で、光源３４が点灯すると、ノズル先端１０ｂの透光部材４７を介し、ノズルパーツ１６の内側面１６ａ（及びキャビティ１６ｂ）に形成された光触媒層３０に対して紫外線が照射されるようになされている。
このため、プライミング処理において、ノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液を吐出する前に、光源３４により光触媒層３０に対し紫外線を照射することによって、光触媒層３０上における付着物を効果的に解離することができる。そして、吐出口１０ａからレジスト液を吐出することにより、解離された付着物を容易に除去することができる。
【００４３】
また、図８に示すようにノズル１０が回転ローラ１３上に位置する状態で、ＣＣＤカメラ４６がレール４５に沿って移動しながら投光した所定波長の光は、透光部材４７を透過し、ノズルパーツ１６の内側面１６ａに形成された光触媒層３０に照射されて反射し、再び透光部材４７を透過してＣＣＤカメラ４６に受光されることとなる。
【００４４】
また、ＣＣＤカメラ４６が受光した受光信号は、制御部５０に供給され、その受光信号は、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａに、固化した付着物が存在するか否かの判定に用いられる。
具体的には、ノズル先端１０ｂの内側面１６ａに固化した付着物が存在する場合、投光された光の強度が反射光において低下すると共に、反射光において位相ずれが生じる。そのため、制御部５０では、受光信号から得られる反射光の位相と強度とが、それぞれ所定範囲内であるか否かを判定することによって、内側面１６ａにおいて固化した付着物の有無を判定するようになされている。
尚、ＣＣＤカメラ４６が投光する光の波長は、レジスト液に対し吸収帯の少ない波長が望ましい。
【００４５】
続いて、このように構成された第二の実施形態にかかる塗布装置１において、基板Ｇへのレジスト液の塗布から待機時におけるノズルのプライミング処理（ノズル洗浄処理）までの一連の流れについて説明する。
塗布装置１においては、浮上ステージ３に新たにガラス基板Ｇが搬入されると、基板Ｇはステージ３上に形成された不活性ガスの気流によって下方から支持され、基板キャリア６により保持される（図９のステップＳＴ１）。
そして、制御部５０の制御により基板キャリア６が駆動され、基板搬送方向に搬送開始される（図９のステップＳＴ２）。
【００４６】
また、図１０（ａ）に示すように、レジストノズル１０の吐出口１０ａからレジスト液Ｒが吐出され、ノズル１０の下方を通過する基板Ｇに対し塗布処理が施される（図９のステップＳＴ３）。
基板Ｇ上へのレジスト液の塗布処理が終了すると、ノズル１０からのレジスト液の吐出が停止され、塗布処理が完了した基板Ｇは、浮上搬送部２Ａからコロ搬送部２Ｂに引き渡され、コロ搬送によって後段の処理部へ搬出される（図９のステップＳＴ４）。
【００４７】
待機期間に入ると、制御部５０は、ノズル１０をレール１０に沿って待機部１５の上方へと移動させる（図９のステップＳＴ５）。
そして、先ずノズル１０の先端部１０ｂの外面に対し、ノズル洗浄部１５ａにより洗浄が行われ、ダミーディスペンス部１５ｂにおいて所定量のレジスト液を予備的に吐出するダミー吐出が行われ、ノズル１０の一次洗浄が完了する（図９のステップＳＴ６）。
【００４８】
一次洗浄が完了したノズル１０は、図１０（ｂ）に示すように回転ローラ１３の上方へと移動される。
そして、ＣＣＤカメラ４６がレール４５に沿って移動しながら所定波長の光をノズル先端部１０ｂに向けて投光し、光触媒層３０において反射した反射光を受光する（図９のステップＳＴ７）。
ＣＣＤカメラ４６による受光信号は、制御部５０において光強度及び位相が所定範囲内であるか解析され、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａに付着した固化物の有無が判定される。
【００４９】
そして、制御部５０により、内側面１６ａに付着物があると判定された場合（図９のステップＳＴ８）、光源駆動部３５により光源３４が点灯され、透光部材４７を透過した光がノズルパーツ１６の先端部１０ｂに形成された光触媒層３０に照射される（図９のステップＳＴ９）。
これにより、ノズル先端部１０ｂにおいて光触媒層３０上に残る付着物が酸化作用により分解され解離される。
【００５０】
次いで、切換バルブ３９の切換によってノズル１０内の間隙Ｃに洗浄液（シンナー液）が供給され、図１０（ｃ）に示すように吐出口１０ａから洗浄液Ｔが洗浄タンク１４内に吐出される（図９のステップＳＴ１０）。
これにより、内側面１６ａ，１７ａに残る付着物を洗浄液Ｔがきれいに溶解洗浄すると共に、ステップＳＴ９において解離された付着物が容易に洗い流される（二次洗浄）。
【００５１】
次に、図１０（ｄ）に示すように回転ローラ１３が所定方向に回転駆動され、切換バルブ３９の切換によってレジスト供給源２０からノズル１０にレジスト供給されて吐出口１０ａから回転ローラ１３のローラ面にレジスト液Ｒが吐出される。これにより、吐出口１０ａに均一にレジスト液Ｒを付着させるためのプライミング処理が行われる（図９のステップＳＴ１１）。
尚、ステップＳＴ８において、制御部５０により内側面１６ａに付着物が無いと判定された場合、紫外線照射（ステップＳＴ９）及び洗浄液Ｔの吐出（ステップＳＴ１０）は行われず、ステップＳＴ１１のプライミング処理が行われる。
プライミング処理が完了したノズル１０は塗布位置へと移動され、次の基板Ｇの塗布処理を行うこととなる（図９のステップＳＴ１２）。
【００５２】
以上のように、本発明に係る第二の実施形態によれば、前記第一の実施形態と同様にノズル先端１０ｂにおいてレジスト付着量の多い基板移動方向側の内側面１６ａに光触媒層３０が形成され、相対向する内側面１７ａから前記光触媒層３０に光（紫外線）照射が可能な構成となされる。
さらに、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａの状態を検出するためのＣＣＤカメラ４６が設けられ、制御部５０において内側面１６ａにおける付着物の有無が判定される。
この構成により、前記第一の実施形態と同様の作用効果を得ることができるだけでなく、ノズル先端部１０ｂの内側面１６ａに付着物が有る場合にのみ、内側面１６ａの光触媒層３０に対し光照射を行えばよく、効率的にノズル内の洗浄を行うことができる。
【００５３】
尚、前記第二の実施形態においては、内側面１６ａの光触媒層３０に光照射し（図９のステップＳＴ９）、解離した付着物を洗浄液Ｔにより洗い流すようにしたが（図９のステップＳＴ１０）、それに限定されるものではない。
例えば、前記ステップＳＴ１０を省き、ステップＳＴ１１のプライミング処理におけるレジスト液Ｒの吐出により付着物を洗い流すようにしてもよい。
【００５４】
また、前記第一、第二の実施形態にあっては、ノズル１０の一次洗浄（図４のステップＳ６、図９のステップＳＴ６）の後にノズル内側面１６ａの光触媒層３０に対し光照射を行い、解離した付着物を洗浄液Ｔ、或いはプライミング処理でのレジスト液吐出により洗い流すようにしたが、光照射、及び洗い流しのタイミングは、それに限定されるものではない。
例えば、ノズル１０の一次洗浄において、ノズル先端部１０ｂの外面をノズル洗浄部１５ａで洗浄した後、前記光触媒層３０に光照射を行い、解離した付着物を、ダミーディスペンス部１５ｂにおけるレジスト液吐出により洗い流し、更にその後、プライミング処理を行うようにしてもよい。
【００５５】
また、前記第一、第二の実施形態においては、浮上ステージ３上を平流し搬送される基板Ｇに対しレジスト膜を形成する構成としたが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではなく、塗布液を吐出するノズルと被処理基板とが相対的に移動する構成であれば、その他の構成にも適用することができる。例えば、基板Ｇをステージに載置（吸着）し、前記ステージをノズルに対して移動させる構成であってもよい。或いは、基板Ｇをステージに載置（吸着）し、ノズルを走査しながら塗布膜を形成する構成であってもよい。
【００５６】
また、光触媒層３０を、例えば酸化チタン（ＴｉＯ2）をコーティングすることにより形成し、光源３４が放射する光を短波長の紫外線としたが、その組み合わせに限定されるものではなく、光触媒反応可能な組み合わせであれば、他の光触媒や他の波長の光を用いてもよい。
また、前記第一、第二の実施形態にあっては、本発明にかかる塗布装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる塗布装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００５７】
１ 塗布装置
５ ガイドレール（相対移動手段）
６ 基板キャリア（相対移動手段）
１０ ノズル
１０ａ 吐出口
３０ 光触媒層
３４ 光源（光照射手段）
３５ 光源駆動部（光照射手段）
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
Ｒ レジスト（塗布液）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備する塗布装置であって、
前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ノズル先端部は、前記基板の移動方向側に配置された第一のノズルパーツと、前記第一のノズルパーツに対し所定の間隙を空けて対向配置された第二のノズルパーツとにより構成され、
前記第一のノズルパーツの内側面に、前記光触媒層が設けられ、前記第二のノズルパーツは透光部材により形成され、
前記光照射手段は、前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射することを特徴とする請求項１に記載された塗布装置。
【請求項３】
前記ノズルに前記塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記ノズルに前記塗布液を溶解可能な洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗布液供給手段から前記ノズルへの供給経路と前記洗浄液供給手段から前記ノズルへの供給経路とを切換可能な切換手段とを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された塗布装置。
【請求項４】
前記第二のノズルパーツの透光部材を介して、第一のノズルパーツの内側面に形成された光触媒層に対し、所定波長の光を投光し、その反射光を受光する光センサと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定する制御手段とを備えることを特徴とする請求項２または請求項３に記載された塗布装置。
【請求項５】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段と、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備える塗布装置において、前記ノズル先端部内を洗浄するノズル洗浄方法であって、
前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを含むことを特徴とするノズル洗浄方法。
【請求項６】
前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、
前記透光部材を介して前記光触媒層に対し所定波長の光を投光し、その反射光を光センサにより受光するステップと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定するステップとを実行し、
前記光触媒層における付着物が有ると判定された場合に、
前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを実行することを特徴とする請求項５に記載されたノズル洗浄方法。
【請求項１】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し、前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段とを具備する塗布装置であって、
前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ノズル先端部は、前記基板の移動方向側に配置された第一のノズルパーツと、前記第一のノズルパーツに対し所定の間隙を空けて対向配置された第二のノズルパーツとにより構成され、
前記第一のノズルパーツの内側面に、前記光触媒層が設けられ、前記第二のノズルパーツは透光部材により形成され、
前記光照射手段は、前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射することを特徴とする請求項１に記載された塗布装置。
【請求項３】
前記ノズルに前記塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記ノズルに前記塗布液を溶解可能な洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗布液供給手段から前記ノズルへの供給経路と前記洗浄液供給手段から前記ノズルへの供給経路とを切換可能な切換手段とを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された塗布装置。
【請求項４】
前記第二のノズルパーツの透光部材を介して、第一のノズルパーツの内側面に形成された光触媒層に対し、所定波長の光を投光し、その反射光を受光する光センサと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定する制御手段とを備えることを特徴とする請求項２または請求項３に記載された塗布装置。
【請求項５】
被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記基板に対し前記吐出口から塗布液を吐出するノズルと、前記ノズルに対し前記基板を相対移動させる相対移動手段と、前記吐出口が形成されるノズル先端部において塗布液が流れる流路内に設けられた光触媒層と、前記光触媒層に光触媒可能な光を照射する光照射手段とを備える塗布装置において、前記ノズル先端部内を洗浄するノズル洗浄方法であって、
前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを含むことを特徴とするノズル洗浄方法。
【請求項６】
前記ノズルの吐出口から前記基板への塗布液の吐出が完了した後、
前記透光部材を介して前記光触媒層に対し所定波長の光を投光し、その反射光を光センサにより受光するステップと、
前記光センサの受光信号に基づいて、前記光触媒層における付着物の有無を判定するステップとを実行し、
前記光触媒層における付着物が有ると判定された場合に、
前記光照射手段により前記透光部材を介して前記光触媒層に光照射するステップと、
前記吐出口から前記塗布液、又は前記塗布液を溶解可能な洗浄液を吐出するステップとを実行することを特徴とする請求項５に記載されたノズル洗浄方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−１７３０９１（Ｐ２０１１−１７３０９１Ａ）
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４０４８５（Ｐ２０１０−４０４８５）
【出願日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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