感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法
【課題】露光感度に特に優れ、表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性共重合体と、α位に置換メチル基を持つビニル基を少なくとも1つ有する重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。特に、重合性化合物が、下記一般式(1)で表される構造を少なくとも含む態様が好ましい。
【解決手段】アルカリ可溶性共重合体と、α位に置換メチル基を持つビニル基を少なくとも1つ有する重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。特に、重合性化合物が、下記一般式(1)で表される構造を少なくとも含む態様が好ましい。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項1】
(A)アルカリ可溶性共重合体と、(B)α位に置換メチル基を持つビニル基を少なくとも1つ有する重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項2】
(B)重合性化合物が、下記一般式(1)で表される構造を少なくとも含む請求項1に記載の感光性組成物。
【化1】
ただし、前記一般式(1)中、X1は、ヘテロ原子、OH基、SH基、−O−、及び有機官能基のいずれかを表す。Z1は、シアノ基、及び−COY−X2のいずれかで表される置換基であり、Yは、−O−、−S−、−NH−、及び−NX3−で表されるいずれかである。X2及びX3はそれぞれ独立して、有機官能基を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、及び有機官能基のいずれかを表す。なお、X1とX2、R1とR2、X1とR1、及びX1とR2の少なくともいずれかが互いに結合し環構造を形成してもよい。
【請求項3】
Z1が、−COOR3である請求項2に記載の感光性組成物。
ただし、前記R3は、水素原子、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の少なくとも何れかを表し、それぞれ置換基を有していてもよい。
【請求項4】
(A)アルカリ可溶性樹脂が、エポキシアクリレートである請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項5】
(A)アルカリ可溶性共重合体が、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して0.1〜1.2当量の1級アミン化合物を反応させて得られる請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項6】
(C)光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも1種を含む請求項1から5のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項7】
(D)熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも1種である請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項8】
(D)熱架橋剤が、アルキル化メチロールメラミンである請求項7に記載の感光性組成物。
【請求項9】
(D)熱架橋剤が、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物である請求項7に記載の感光性組成物。
【請求項10】
支持体と、該支持体上に、請求項1から9のいずれかに記載の感光性組成物が積層されてなる感光層と、を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項11】
請求項1から9のいずれかに記載の感光性組成物を、基材の表面に塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項12】
請求項10に記載の感光性フィルムを、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項13】
基材が、配線形成済みのプリント配線基板である請求項11から12のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項14】
請求項11から13のいずれかに記載の永久パターン形成方法により形成されることを特徴とする永久パターン。
【請求項15】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかである請求項14に記載の永久パターン。
【請求項1】
(A)アルカリ可溶性共重合体と、(B)α位に置換メチル基を持つビニル基を少なくとも1つ有する重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項2】
(B)重合性化合物が、下記一般式(1)で表される構造を少なくとも含む請求項1に記載の感光性組成物。
【化1】
ただし、前記一般式(1)中、X1は、ヘテロ原子、OH基、SH基、−O−、及び有機官能基のいずれかを表す。Z1は、シアノ基、及び−COY−X2のいずれかで表される置換基であり、Yは、−O−、−S−、−NH−、及び−NX3−で表されるいずれかである。X2及びX3はそれぞれ独立して、有機官能基を表す。R1及びR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、及び有機官能基のいずれかを表す。なお、X1とX2、R1とR2、X1とR1、及びX1とR2の少なくともいずれかが互いに結合し環構造を形成してもよい。
【請求項3】
Z1が、−COOR3である請求項2に記載の感光性組成物。
ただし、前記R3は、水素原子、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の少なくとも何れかを表し、それぞれ置換基を有していてもよい。
【請求項4】
(A)アルカリ可溶性樹脂が、エポキシアクリレートである請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項5】
(A)アルカリ可溶性共重合体が、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して0.1〜1.2当量の1級アミン化合物を反応させて得られる請求項1から3のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項6】
(C)光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも1種を含む請求項1から5のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項7】
(D)熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも1種である請求項1から6のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項8】
(D)熱架橋剤が、アルキル化メチロールメラミンである請求項7に記載の感光性組成物。
【請求項9】
(D)熱架橋剤が、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物である請求項7に記載の感光性組成物。
【請求項10】
支持体と、該支持体上に、請求項1から9のいずれかに記載の感光性組成物が積層されてなる感光層と、を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項11】
請求項1から9のいずれかに記載の感光性組成物を、基材の表面に塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項12】
請求項10に記載の感光性フィルムを、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項13】
基材が、配線形成済みのプリント配線基板である請求項11から12のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項14】
請求項11から13のいずれかに記載の永久パターン形成方法により形成されることを特徴とする永久パターン。
【請求項15】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかである請求項14に記載の永久パターン。
【図1】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【公開番号】特開2006−293264(P2006−293264A)
【公開日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−193003(P2005−193003)
【出願日】平成17年6月30日(2005.6.30)
【出願人】(000005201)富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成18年10月26日(2006.10.26)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年6月30日(2005.6.30)
【出願人】(000005201)富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Fターム(参考)】
[ Back to top ]