成形品成形装置および成形品成形方法
【課題】第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得る。
【解決手段】下型Ｍ１と上型Ｍ２とを用いて成形品Ｗ１を成形する成形品成形装置１において、下型型設置体９と下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在である上型設置体１１とを備えた成形品成形部３と、成形品Ｗ１における、第１パターンＷ３と第２パターンＷ４との間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部５と、成形品成形部３で成形品Ｗ１を成形しているときに、成形品Ｗ１の測定を位置ずれ量測定部５で行い、この測定結果に応じて上型設置体１１の相対的な位置を補正し成形品成形部３で次の成形品Ｗ３の成形をする。
【解決手段】下型Ｍ１と上型Ｍ２とを用いて成形品Ｗ１を成形する成形品成形装置１において、下型型設置体９と下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在である上型設置体１１とを備えた成形品成形部３と、成形品Ｗ１における、第１パターンＷ３と第２パターンＷ４との間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部５と、成形品成形部３で成形品Ｗ１を成形しているときに、成形品Ｗ１の測定を位置ずれ量測定部５で行い、この測定結果に応じて上型設置体１１の相対的な位置を補正し成形品成形部３で次の成形品Ｗ３の成形をする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形品成形装置および成形品成形方法に係り、たとえば、上型と下型とを用いてレンズ集合体を成形するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、下型と上型とを用いて成形材料を成形し成形品を得る構成の成形品成形装置が知られている。
【０００３】
上記従来の成形装置では、たとえば、アライメントカメラを用いて、上型に対する下型の位置を合わせ、この後に、上型と下型とを用いて平板状の成形品を成形している。
【０００４】
なお、上記従来の技術に関する特許文献として、たとえば特許文献１、特許文献２を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５４８６８号公報
【特許文献２】特開２００８−１９４９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記従来の成形品成形装置では、上型に対する下型の位置を合わせた後（アライメント後）に、下型（第１の型）と上型（第２の型）とを用いて平板状の成形品を成形しているので、アライメントに要する時間がそのままタクトタイム（成形品を成形するタクトタイム）に加算されて、成形品を成形する際のタクトタイムが長くなるという問題がある。
【０００７】
また、成形品の成形前に上型に対する下型の位置合わせをしているので、実際に上型と下型とで成形品を成形するときの押圧力（上型と下型とで成形材料を挟み込む力）や温度変化等で、せっかく位置合わせをしたにもかかわらず、上型に対する下型の位置がずれた状態で成形品が成形されてしまい、成形品の精度が悪化する場合があるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置および成形品成形方法において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得ることができるものを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形装置において、前記第１の型が設置される第１の型設置体と、前記第２の型が設置され前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体とを備えた成形品成形部と、前記成形品成形部で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部と、前記成形品成形部で成形品を成形しているときに、前記成形品成形部で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定部で行い、この測定結果に応じて前記第２の型設置体の相対的な位置を補正し前記成形品成形部で次の成形品の成形をするように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する制御部とを有する成形品成形装置である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の成形品成形装置において、前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸のまわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記位置ずれ量測定部は、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するように構成されており、前記制御部は、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する構成である成形品成形装置である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の成形品成形装置において、前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、円形状に形成されているとともに所定の間隔をあけて複数設けられており、前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、前記位置ずれ量測定部は、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するように構成されている成形品成形装置である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形方法において、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、未硬化の成形材料を供給する成形材料供給工程と、前記成形材料供給工程で未硬化の成形材料を供給した後、前記第１の型に対して前記第２の型を相対的に移動位置決めし、前記成形材料を硬化して成形品を成形する成形品成形工程と、前記成形品成形工程で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程とを有し、前記成形品成形工程で成形品の成形をしているときに、前記成形品成形工程で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定工程で行い、この測定結果に応じて前記成形品成形工程で前記第２の型の相対的な位置を補正し次の成形品の成形をする成形品成形方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の成形品成形方法において、前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、前記成形品成形工程では、前記第２の型が、前記第１の型に対して、前記第１の型に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記位置ずれ量測定工程では、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっており、前記成形品成形工程では、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正する成形品成形方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項４または請求項５に記載の成形品成形方法において、前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられており、前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、前記位置ずれ量測定工程では、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する成形品成形方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置および成形品成形方法において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】レンズ集合体の構成を示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＩ−Ｉ断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る成形品成形装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の概略構成を示す正面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の概略構成を示す側面図であり、図３におけるＩＶ矢視図である。
【図５】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する位置ずれ量測定部の概略構成を示す正面図である。
【図１０】図９におけるＸ−Ｘ矢視図である。
【図１１】（ａ）は、図１におけるＸＩ部の拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＸＩ−ＸＩ断面図である。
【図１２】図１１におけるＸＩＩｃ部の拡大図である。
【図１３】従来の成形品成形装置と本発明の実施形態に係る成形品成形装置とのタクトタイムを比較した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
まず、本発明の実施形態に係る成形品成形装置（成形材料の成形装置）１で成形される成形品Ｗ１について説明する。
【００１８】
成形品Ｗ１として、たとえば、図１に示すレンズの集合体（ウエハーレベルレンズ）を掲げることができる。レンズ集合体Ｗ１は、硬化した紫外線硬化樹脂の透明な材料で構成されており、平板状の本体部Ｗ２と球冠状の複数の凸部（第１パターンの例である凸部）Ｗ３と球冠状の複数の凹部（第２パターンの例である凸部）Ｗ４とを備えている。本体部Ｗ２は、円板状に形成されている。凸部（図３等で示す下型Ｍ１で形成された凸部）Ｗ３は、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面で、所定の間隔をあけて設けられている。凹部（図３等で示す上型Ｍ２で形成された凹部）Ｗ４は、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面で、所定の間隔をあけて設けられている。
【００１９】
レンズ集合体Ｗ１（本体部Ｗ２）をこの厚さ方向から見ると、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面（図１（ｂ）では下面）に設けられている各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面（図１（ｂ）では上面）に設けられている各凹部Ｗ４それぞれの中心の位置とは、お互いにほぼ一致している。
【００２０】
このように構成されているレンズ集合体Ｗ１は、たとえば、一対の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を備えた（本体部Ｗ２の厚さの方向の一方の面側の１つの凸部Ｗ３と、本体部Ｗ２の厚さの方向の他方の面側の１つの凹部Ｗ４とを備えた）レンズ（メニスカスレンズ）に分割され、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサ等の撮像素子を設けることで、携帯電話等のカメラ部に使用される。
【００２１】
なお、図１（ａ）等では、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の数を少なく描いている。しかし、本体部Ｗ２の外径が、６インチから８インチ程度になっており、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が、数百個から数千個設けられている場合もある。
【００２２】
図１に示すレンズ集合体Ｗ１では、本体部Ｗ２に凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されているが、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面に複数の球冠状の凸部を設け、もしくは、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面に複数の球冠状の凹部を設けた構成であってもよい。
【００２３】
また、図１に示すレンズ集合体Ｗ１は、一種類の成形材料のみで構成されているが（キャスティングされているが）、レンズ集合体をハイブリッドで構成してもよい。すなわち、レンズ集合体が、平板状の透明な基板（たとえば、ガラス基板）と、硬化した樹脂とで構成されていてもよい。硬化した樹脂部は、基板の厚さ方向の両面に設けられている。
【００２４】
成形材料として、紫外線硬化樹脂の代わりに、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の樹脂材料やその他の材料（たとえばガラス）を掲げることができるが、ここでは、紫外線硬化樹脂を例に掲げて説明する。
【００２５】
成形品成形装置１は、図３や図４で示すように、成形パターン（たとえば、球冠状の複数の凸部；図示せず）が形成されている第１の型（たとえば下型）Ｍ１と、成形パターン（たとえば、前記凸部よりも直径が大きい球冠状の複数の凹部；図示せず）が形成されている第２の型（たとえば上型）Ｍ２とを用いて、紫外線硬化樹脂から成形品Ｗ１を成形する装置である。
【００２６】
成形品Ｗ１は、液体状もしくは流動体状の紫外線硬化樹脂を各型Ｍ１，Ｍ２の間に供給して硬化することで所定の形状に形成される。
【００２７】
成形品成形装置１は、成形品成形部３と位置ずれ量測定部５と制御部７とを備えて構成されている。
【００２８】
成形品成形部３は、下型Ｍ１が設置される第１の型設置体（たとえば下型設置体）９と、上型Ｍ２が設置される第２の型設置体（たとえば上型設置体）１１とを備えて構成されている。上型設置体１１は、下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在になっている。換言すれば、下型設置体９は、上型設置体１１に対して相対的に移動位置決め自在になっている。
【００２９】
位置ずれ量測定部５は、成形品成形部３とは別箇に設けられている。位置ずれ量測定部５は、成形品成形部３で成形された成形品Ｗ１における凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定する装置である。なお、上述したように、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３は、下型Ｍ１の成形パターンで形成されたものであり、成形品Ｗ１の凹部Ｗ４は、上型Ｍ２の成形パターンで形成されたものである。
【００３０】
制御部７は、メモリ１３に格納されている動作プログラムにしたがって成形品成形装置１全体を制御するものであり、制御部７の制御によって、成形品成形部３と位置ずれ量測定部５等が次に示す動作をするようになっている。
【００３１】
すなわち、成形品成形部３で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形部３で成形した成形品Ｗ１の測定を、成形品成形部３での成形とは別個に、位置ずれ量測定部５で行うようにしている（位置ずれ量測定部５での測定を成形品成形部３での成形と並行して行うようにしている）。
【００３２】
また、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて（測定結果をフィードバックして）、上型設置体１１（上型Ｍ２）に対する下型設置体９（下型Ｍ１）の相対的な位置を補正し、成形品成形部３で次の成形品（先に成形されて位置ずれ量測定部５で測定された成形品Ｗ１と同仕様の成形品）Ｗ１の成形をするようにしている。
【００３３】
ところで、上型設置体１１は、下型設置体９に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、Ｚ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、Ｚ軸方向とＸ軸方向とに直交する他の一方向であるＹ軸方向とで、下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在になっている。
【００３４】
また、上型設置体１１は、下型設置体９に対して、Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで下型設置体９に対して相対的に回動位置決め自在になっており、Ｙ軸方向に延びている他の一方向の延びている所定の軸であるＢ軸まわりで下型設置体９に対して相対的に回動位置決め自在になっている。
【００３５】
Ｚ軸方向は、たとえば、上下方向（鉛直方向）であり、Ｘ軸方向は水平な一方向であり、Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向に直交する水平な他の一方向である。
【００３６】
位置ずれ量測定部５は、Ｘ軸方向（成形品Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さ方向と直交する一方向）とＹ軸方向（成形品Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さ方向と直交する他一方向であって前記一方向に直交する方向）とで凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００３７】
また、位置ずれ量測定部５は、成形品Ｗ１の平板状部（たとえば、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されていない本体部Ｗ２の周辺部）の厚さを複数箇所で測定するように構成されている。
【００３８】
制御部７は、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで上型設置体１１（上型Ｍ２）の相対的な位置（下型設置体９や下型Ｍ１に対する位置）を補正するとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで上型設置体１１の相対的な位置（下型設置体９や下型Ｍ１に対する位置）を補正する制御をするようになっている。
【００３９】
制御部７の制御の下、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、上型設置体１１の相対的な位置を補正することで、凸部Ｗ３に対する凹部Ｗ４の位置ずれを無くすかもしくは許容値以下にするようになっている。また、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで、上型設置体１１の相対的な位置を補正することで、成形品Ｗ１の厚さ（厚さの絶対値と厚さの平行度）を補正し、成形品Ｗ１の厚さを目標値にしかつ成形品Ｗ１の厚さの平行度を「０」にするか許容値以下にするようになっている。
【００４０】
また、前述したように、成形品Ｗ１の厚さ方向から見ると（下型設置体９に設置されている下型Ｍ１に成形品Ｗ１がくっついているときにはＺ軸方向から見ると）、凹凸部Ｗ３，Ｗ４は、円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられている。
【００４１】
位置ずれ量測定部５は、各凸部Ｗ３のうちの１つの凸部Ｗ３（たとえば、最も外側に位置している凸部Ｗ３ａ；図１（ａ）参照）と、この１つの凸部Ｗ３ａに対応している凹部Ｗ４ａ（図１（ａ）参照）との位置ずれ量を測定し、また、各凸部Ｗ３のうちの他の１つの凸部Ｗ３（たとえば、最も外側に位置しているとともに、成形品Ｗ１の中心に対して凸部Ｗ３ａとは対称な位置に存在している凸部Ｗ３ｂ；図１（ａ）参照）と、この他の１つの凸部Ｗ３ｂに対応して形成されている凹部Ｗ４ｂとの位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００４２】
そして上記測定をすることで、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００４３】
ここで、成形品成形装置１についてさらに詳しく説明する。まず、成形品成形部３について詳しく説明する。
【００４４】
成形品成形部３は、図２〜図４で示すように、ベース体１９の上方に設けられており、ＸＹＣステージ１５とチルト調整部１７と下型設置体９と上型設置体１１とを備えて構成されている。
【００４５】
ＸＹＣステージ１５は、図示しない基台と図示しないＸ軸テーブルと図示しないＹ軸テーブルと図示しないＣ軸テーブルとを備えて構成されている。基台は、ベース体１９の上面でベース体１９に一体的に設けられている。
【００４６】
Ｘ軸テーブルは、基台の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介して基台に支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｘ軸方向で、基台に対して移動位置決め自在になっている。
【００４７】
Ｙ軸テーブルは、Ｘ軸テーブルの上方で、図示しないリニアガイドベリングを介してＸ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｙ軸方向で、Ｘ軸テーブルに対して移動位置決め自在になっている。
【００４８】
Ｃ軸テーブルは、Ｙ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＹ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｃ軸まわりで、Ｙ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００４９】
これにより、Ｃ軸テーブルは、ベース体１９（基台）に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、移動および回動位置決め自在になっている。なお、Ｃ軸は、Ｚ軸方向に延びた軸であって、Ｃ軸テーブルの中心を通っている軸である。
【００５０】
チルト調整部１７は、図示しないＡ軸テーブルと図示しないＢ軸テーブルとを備えて構成されている。
【００５１】
Ａ軸テーブルは、Ｃ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＣ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ａ軸まわりで、Ｃ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００５２】
Ｂ軸テーブルは、Ａ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＡ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｂ軸まわりで、Ａ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００５３】
これにより、Ｂ軸テーブルは、ベース体１９（基台）に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｃ軸まわり、Ａ軸まわりおよびＢ軸まわりで、移動および回動位置決め自在になっている。なお、Ａ軸は、Ｘ軸方向に延びた軸であって、Ａ軸テーブルの中心を通っている軸であり、Ｂ軸は、Ｘ軸方向に延びた軸であって、Ｂ軸テーブルの中心を通っている軸である。
【００５４】
チルト調整部１７（Ｂ軸テーブル）の上には、ロードセル２１を介して水冷ジャケット２３が一体的に設けられている。ロードセル２１は、下型Ｍ１と上型Ｍ２とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力（下型Ｍ１と上型Ｍ２とが紫外線硬化樹脂を挟み込む力）を測定するものであり、この測定値は、制御部７に入力されるようになっている。水冷ジャケット２３は、成形品Ｗ１を成形するときに成形品Ｗ１や各型Ｍ１，Ｍ２を冷却するものである。
【００５５】
水冷ジャケット２３の上面は、ほぼ水平な平面になっており、水冷ジャケット２３の上面中央部には、下型設置体９が図示しないボルト等の締結具によって一体的に設置されている。
【００５６】
下型設置体９の上面は、ほぼ水平な平面になっており、下型設置体９の上面に、下型Ｍ１がたとえば図示しないボルト等の締結部もしくは真空吸着によって一体的にしかも着脱自在に設置されるようになっている。
【００５７】
このとき、図示しない突き当て（たとえば、下型設置体９に一体的に設けられ下型設置体９の上面から突出している突き当てピン）に当接するこことで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、下型Ｍ１が下型設置体９の所定に位置に設置されるようになっている。
【００５８】
下型Ｍ１は、たとえば、ニッケル等の金属で円形な平板状に形成されており、厚さ方向の一方の面に、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３を形成するための凹部（図示しない成形パターン）が形成されている。そして、下型Ｍ１を下型設置体９に設置した状態では、下型Ｍ１の下面が下型設置体９の上面に面接触しており、下型Ｍ１の上面ほぼ水平方向で展開している上面）に成形パターンが存在している。
【００５９】
また、下型設置体９の上面の周辺部には、たとえば筒状のベローズ２５で構成された成形室形成体が設けられている。成形室形成体は、成形品Ｗ１を成形すべく、上型設置体１１に設置された上型Ｍ２を、下型設置体９に設置された下型Ｍ１に接近させたときに、下型設置体９（図３等では水冷ジャケット２３であるが、図３等で下型設置体９をＸ軸方向とＹ軸方向とで大きくし、下型設置体９としてもよい。）と上型設置体１１と協同して、成形室２７を形成するものである。成形室２７が形成されることで、成形品Ｗ１（紫外線硬化樹脂）が大気と遮断されるようになっている。なお、成形品Ｗ１を成形するとき、成形室２７内は、たとえば、窒素ガスで満たされるようになっているが、成形室２７内を真空状態にしてもよい。
【００６０】
ベース体１９には、一対の支柱２９が起立して一体的に設けられている。一対の支柱２９は、ベース体１９の上面であってＸＹＣステージ１５等の両側方で起立している。
【００６１】
各支柱２９のそれぞれには、リニアガイドベアリング３１を介して一対のＺ軸テーブル３３が設けられている。各Ｚ軸テーブル３３は、一対のサーボモータ３５等のアクチュエータによって、制御部７の制御の下、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっている。また、一対のサーボモータ３５はお互いが同期して駆動するようになっている。
【００６２】
一対のＺ軸テーブルの上端には、上型設置体１１が一体的に設けられている。これにより、上型設置体１１が、Ｚ軸方向でベース体１９に対して移動位置決め自在になっている。さらに、上型設置体１１が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、下型設置体９に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。換言すれば、下型設置体９が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、上型設置体１１に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。
【００６３】
上型設置体１１は、下型設置体９に設置された下型Ｍ１の上方で下型Ｍ１から離れている。
【００６４】
また、上型設置体１１の中央部には、貫通孔３９とバックアップガラス４１とが設けられている。バックアップガラス４１は、貫通孔３９を塞ぐように貫通孔３９内で上型設置体１１に一体的に設けられている。
【００６５】
上型設置体１１の下面（バックアップガラス４１に下面）は、水平な平面になっており、上型設置体１１の下面に、上型Ｍ２がたとえば図示しないボルト等の締結部と保持具３７もしくは真空吸着によって一体的にしかも着脱自在に設置されるようになっている。
【００６６】
このとき、図示しない突き当て（たとえば、上型設置体１１に一体的に設けられ上型設置体１１の下面から突出している突き当てピン）に当接するこことで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、上型Ｍ２が上型設置体１１の所定に位置に設置されるようになっている。
【００６７】
上型Ｍ２は、たとえば、紫外線が透過する樹脂もしくは石英ガラス等の透明体で、円形な平板状に形成されており、厚さ方向の一方の面に、成形品Ｗ１の凹部Ｗ４を形成するための凸部（図示しない成形パターン）が形成されている。そして、上型Ｍ２を上型設置体１１に設置した状態では、上型Ｍ２の上面が上型設置体１１の下面に面接触しており、上型Ｍ２の下面（水平方向で展開している下面）に成形パターンが存在している。
【００６８】
下型設置体９に下型Ｍ１を設置し上型設置体１１に上型Ｍ２を設置した状態では、上型Ｍ２は、下型Ｍ１の上方で下型Ｍ１から離れて存在している。また、上型Ｍ２が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、下型Ｍ１に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。
【００６９】
また、下型設置体９に下型Ｍ１を設置し上型設置体１１に上型Ｍ２を設置した状態では、下型Ｍ１の上面と上型Ｍ２の下面とがお互いにほぼ平行になって対向しており、Ｚ軸方向から見ると、下型Ｍ１と上型Ｍ２とがお互いにほぼ重なっている。
【００７０】
上型設置体１１の上方には紫外線発生装置４３が設けられており、この紫外線発生装置４３が発した紫外線が、貫通孔３９とバックアップガラス４１と上型Ｍ２とを通って、紫外線硬化樹脂Ｗ５に照射されて紫外線硬化樹脂Ｗ５が硬化し成形品Ｗ１が成形されるようになっている（図７参照）。
【００７１】
紫外線発生装置４３は、紫外線発生装置移動装置４５によって、紫外線硬化樹脂Ｗ５に紫外線を照射する位置である照射位置ＰＡ１もしくは退避位置ＰＡ２に位置するようになっている（図３、図４参照）。
【００７２】
また、上型設置体１１の上方には、一対のカメラ４７が設けられている。カメラ４７は、カメラ移動装置４９によって、撮影位置ＰＢ１もしくは退避位置ＰＢ２に位置するようになっている（図３参照）。
【００７３】
上型Ｍ２が設置された上型設置体１１が下降して下型Ｍ１が設置された下型設置体９に近づき、カメラ４７が撮影位置ＰＢ１に位置しているときに、上型Ｍ２に形成されているアイマーク（図示せず）と下型Ｍ１に形成されているアイマーク（図示せず）とを、カメラ４７で撮影するようになっている。
【００７４】
この撮影された画像は、制御部７の画像処理装置５１に送られて処理され、下型（下型設置体９に設置されている下型）Ｍ１に対する上型（上型設置体１１に設置されている上型）Ｍ２の位置ずれ量（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｃ軸まわりでの位置ずれ量）を測定することができるようになっている。
【００７５】
この測定された位置ずれ量に応じて、下型設置体９に対する上型設置体１１の位置ずれを、成形品Ｗ１の成形前に補正するようになっている。なお、カメラ４７による位置ずれ量の測定やこの測定結果に基づく補正は、上下の型設置体９，１１に上下の型Ｍ１，Ｍ２を設置した後、最初の成形品Ｗ１を成形する前に限ってなされる。
【００７６】
カメラ４７と紫外線発生装置４３とは、お互いが干渉しないようになっている。すなわち、カメラ４７が撮影位置ＰＢ１に位置しているときには、紫外線発生装置４３が退避位置ＰＡ２に位置し、紫外線発生装置４３が照射位置ＰＡ１に位置しているときには、カメラ４７が退避位置ＰＢ２に位置することで、お互いが干渉しないようになっている。
【００７７】
なお、成形品成形部３において、カメラ４７やカメラ移動装置４９を削除した構成であってもよい。この場合、紫外線発生装置移動装置４５も削除され、紫外線発生装置４３は、常に照射位置ＰＡ１に位置しているものとする。
【００７８】
次に、位置ずれ量測定部５について詳しく説明する。
【００７９】
位置ずれ量測定部５は、図２で示すように、成形品成形部３の近くでベース体１９の上方に設けられており、図９で示すように、ＸＹステージ５３と成形品設置体５５とカメラ５７と測長器（レーザ測長器）５９とを備えて構成されている。
【００８０】
ＸＹステージ５３は、たとえば、筒状（たとえば矩形な筒状）に形成されている基台６１と、環状（たとえば矩形な環状）に形成されているＸ軸テーブル６３と、環状（たとえば矩形な環状）に形成されているＹ軸テーブル６５とを備えて構成されている。基台６１は、ベース体１９の上方でベース体１９に一体的に設けられている。
【００８１】
Ｘ軸テーブル６３は、基台６１の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介して基台６１に支持されており、制御部７の制御の下、サーボモータ６７等のアクチュエータにより、Ｘ軸方向で、基台６１に対して移動位置決め自在になっている。
【００８２】
Ｙ軸テーブル６５は、Ｘ軸テーブル６３の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介してＸ軸テーブル６３に支持されており、制御部７の制御の下、サーボモータ６９等のアクチュエータにより、Ｙ軸方向で、Ｘ軸テーブル６３に対して移動位置決め自在になっている。
【００８３】
成形品設置体５５は、たとえば、リング状に形成されており、Ｙ軸テーブル６５の上方でＹ軸テーブル６５に一体的に設けられている。成型品設置体５５がＸＹステージ５３に設置されている状態では、成形品設置体５５やＸＹステージ５３の内部に円柱状等の内部空間７１が形成されており、内部空間７１内に照明装置７３が設けられている。照明装置７３で成形品設置体５５に設置された成形品Ｗ１を照明することで、カメラ５７での撮影状態が良好になる。
【００８４】
成形品設置体５５の上面は、リング状の水平な平面になっており、この上面に成形品Ｗ１がたとえば真空吸着によって一体的に設置されるようになっている。
【００８５】
成形品設置体５５に設置された成形品Ｗ１は、この厚さ方向がＺ軸方向になっており、ベース体１９に対し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００８６】
また、成形品設置体５５に成形品Ｗ１が設置された状態では、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されていない成形品Ｗ１の周辺部が、成形品設置体５５のリング状の上面に面接触している。これにより、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されている成形品Ｗ１の部位は、照明装置７３で下から照明されるようになっている。
【００８７】
なお、成形品設置体５５が、リング状に形成されていなくてもよい。高さがお互いに等しい柱状の複数のブロックで成形品設置体を構成してもよい、この場合、各ブロックは、リング状で水平な平面上のＹ軸テーブルの上面で、円周上でお互いが離れて配置されるものとする。
【００８８】
ベース体１９には、一対の支柱７５が起立して一体的に設けられている。一対の支柱７５は、ベース体１９の上面であってＸＹステージ５３の両側方で起立している。
【００８９】
各支柱７５のそれぞれの上端には、梁７７が一体的に設けられている。梁７７の中央部には、カメラ５７が設けられている。カメラ５７は、カメラ支持体８１に一体的に設けられており、カメラ支持体８１が、リニアガイドベアリング８３を介して梁７７に支持されている。そして、カメラ５７が、制御部７の制御の下、サーボモータ８５等のアクチュエータにより、Ｚ軸方向で、梁７７（ベース体１９）に対して移動位置決め自在になっている。
【００９０】
レーザ測長器５９は、梁７７の下側で梁７７に一体的に設けられている。レーザ測長器５９は下方に向かってレーザ光を出射するとともに、成形品Ｗ１で上方に反射されて戻ってきたレーザ光を受光するようになっている。そして、レーザ光を出射してから受光するまでの時間によって、レーザ測長器５９と成形品（成形品設置体５５に設置されている成形品）Ｗ１との間の距離を測定するようになっている。さらに、成形品（成形体５５に設置されている成形品）Ｗ１の厚さ（レーザ光が反射した部位における厚さ）を測定することができるようになっている。
【００９１】
また、カメラ５７は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１に対して、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっているとともに、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１は、レーザ測長器５９やカメラ５７に対して、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで移動位置決め自在になっている
これにより、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１を適宜移動位置決めすることで、カメラ５７は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１の総ての部位を撮影することができるとともに、レーザ測長器５９は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１の総ての部位の厚さを測定することができるようになっている。
【００９２】
次に、カメラ５７を用いた、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の測定と補正とについて説明する。
【００９３】
図１１（ａ）で示すように、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４全体を一度に撮影することができる場合には、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影し、この撮影結果を制御部７の画像処理装置５１に送る。画像処理装置５１では、凸部Ｗ３の中心Ｏ１と凹部Ｗ４の中心Ｏ２とを求め、中心Ｏ１と中心Ｏ２との間の位置ずれ量（Ｘ軸方向における位置ずれ量Δｘ１、Ｙ軸方向における位置ずれ量Δｙ１）を求める。この求めた位置ずれ量が、１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４における凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量になる。
【００９４】
このようにして、少なくとも、図１（ａ）で示す１組の凹凸部Ｗ３ａ，Ｗ４ａと他の１組の凹凸部Ｗ３ｂ，Ｗ４ｂとで位置ずれ量を求めれば、この結果を用いて、上型設置体１１に設置されている上型Ｍ２に対する下型設置体９に設置されている下型Ｍ１の位置を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで補正し、凹部Ｗ４の位置に対する凸部Ｗ３の位置を正確なものにすることができる。
【００９５】
さらに説明すると、成形品成形部３で１回目に成形した成形品Ｗ１ａの位置ずれ量が、Ｒ１であったとすると、１回目の成形をする前に、ＸＹＣステージ１５を適宜駆動し、下型設置体９の位置を補正し（位置ずれ量が「０」になるように補正し）、この補正後に、２回目の成形品Ｗ１ｂの成形をするようになっている。なお、位置ずれ量Ｒ１が許容値以下の大きさせる場合には、補正をしなくてもよい。
【００９６】
３回目以降の成形品Ｗ１の成形においては、前の回の成形品（たとえば２回目の成形品もしくは１回目の成形品）Ｗ１の位置ずれ量を用いて補正すればよい。
【００９７】
また、前の回の所定回数の位置ずれ量の平均値を求めて、この求めた平均値で、成形前に位置ずれ量の補正をしてもよい。たとえば、５回目の成形品Ｗ１を成形する前に、３回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量と４回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量との平均値を求めて、この求めた平均値で５回目の成形前に位置ずれ量を補正してもよい。
【００９８】
さらに、平均値を求める際、各成形回数での位置ずれ量に重みをつけてもよい。たとえば、５回目の成形品Ｗ１を成形する前に、３回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量Ｒ３と４回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量Ｒ４との平均値を求める際、位置ずれ量Ｒ３に係数１を乗じ、位置ずれ量Ｒ４に係数２を乗じ、（Ｒ３×１＋Ｒ４×２）÷（１＋２）の式で求め位置ずれ量（平均値）で、５回目の成形前に位置ずれ量を補正してもよい。
【００９９】
ところで、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４全体を一度に撮影することができない場合には、カメラ５７で、各凹凸部Ｗ３，Ｗ４の一部（外周の一部）を撮影する（たとえば、図１１（ａ）で示すＸＩＩｃ部を撮影する）。この撮影結果を制御部７の画像処理装置５１に送る。画像処理装置では、図１２で示すように、凸部Ｗ３の円弧状の外周上に２点Ｐ１１，Ｐ１２をとり、２点Ｐ１１，Ｐ１２をお互いに結ぶ線分Ｌ１を求め、線分Ｌ１の垂直２等分線Ｌ２（凸部Ｗ３における１本目の直線）を求める。同様にして、凹部Ｗ４における１本目の直線を求める。
【０１００】
次に、カメラ５７に対して成形品Ｗ１を適宜移動して、たとえば、図１１（ａ）で示すＸＩＩｂ部を撮影し、同様にして、凸部Ｗ３における２本目の直線と、凹部Ｗ４における２本目の直線を求める。これらの求めた４本の直線により、凸部Ｗ３の中心と凹部Ｗ４の中心とを求め、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求める。
【０１０１】
さらに、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影し、凸部Ｗ３の外周と、凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めることで、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めてもよい。
【０１０２】
凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離は、たとえば、図１２で示すように、垂直２等分線Ｌ２と凸部Ｗ３の外周との交点Ｐ２１と、垂直２等分線Ｌ２と凹部Ｗ４の外周との交点Ｐ２２との間の距離を求めることでなされる。
【０１０３】
凸部Ｗ３や凹部Ｗ４の外径が既知でない場合には、たとえば、図１１で示す部位ＸＩＩｂと部位ＸＩＩｃと部位ＸＩＩｄとの少なくとも３箇所で、凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めれば、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めることができる。また、凸部Ｗ３や凹部Ｗ４の外径が既知である場合には、たとえば、図１１で示す部位ＸＩＩａと部位ＸＩＩｂとの少なくとも２箇所で、凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めれば、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めることができる。
【０１０４】
なお、成形品Ｗ１は、凸部Ｗ３（凹部であってもよい）の外径が凹部Ｗ４（凸部であってもよい）の外径よりも大きく、カメラ５７が凹部Ｗ４側から成形品Ｗ１を撮影するので、凹部Ｗ４はもちろんのこと、成形品Ｗ１の平板状の本体部Ｗ２を通して凸部Ｗ３を正確に撮影することができる。
【０１０５】
なお、凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影する代わりに、下型Ｍ１によって成形品Ｗ１の下面に形成されたアイマークと、上型Ｍ２によって成形品Ｗ１の上面に形成されたアイマークとを、カメラ５７で撮影し、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めてもよい。
【０１０６】
また、成形品Ｗ１の厚さや厚さの平行度は、レーザ測長器５９で成形品Ｗ１の３箇所を測定することでもとめることができる。この結果を用いて、上型設置体１１に対する下型設置体９の位置（Ｚ軸方向の位置、Ａ軸まわりの回動位置、Ｂ軸まわりの回動位置）の補正がさなれ、成形品Ｗ１の成形がなされる。
【０１０７】
次に、成形品成形装置１の他の部分について説明する。
【０１０８】
成形品成形装置１には、ディスペンサ（未硬化の紫外線硬化樹脂供給装置）８７と搬送ロボット（搬送装置）８９と搬送スライダ（搬送装置）９１とカセットチェンジャ９３とが設けられている。ディスペンサ８７と搬送ロボット８９と搬送スライダ９１とカセットチェンジャ９３とは、ベース体１９の上に設けられている。
【０１０９】
ディスペンサ８７は、樹脂タンク９５から未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５の供給を受けて、成形品成形部３の下型設置体９に設置されている下型Ｍ１の上面に、未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を所定量供給する装置である。
【０１１０】
ディスペンサ８７は、ディスペンサ移動位置決め装置９７で支持されており、下型Ｍ１の上面に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を供給する供給位置ＰＣ１と退避位置ＰＣ２とのいすれかの位置に位置するようになっている。
【０１１１】
搬送ロボット８９は、成形品成形部３で成形された成形品Ｗ１を、成形品成形部３から搬出して位置ずれ量測定部５に供給する装置である。また、搬送ロボット８９は、位置ずれ量測定部５で位置ずれ量が測定された成形品Ｗ１を、位置ずれ量測定部５から搬出して搬送スライダ９１に供給する装置である。
【０１１２】
搬送スライダ９１に供給された成形品Ｗ１は、カセットチェンジャ９３を介し図示しない格納部に格納されるようになっている。
【０１１３】
次に、たとえば、成形品成形装置１を用いた成形品Ｗ１の成形方法（製造方法）について説明する。
【０１１４】
まず、初期状態として、図５で示すように上型設置体１１（上型Ｍ２）が上昇しており、上型設置体１１（上型Ｍ２）がＸ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、下型設置体９（下型Ｍ１）に対してほぼ位置決めされているものとする。
【０１１５】
上記初期状態において、成形品成形部３では、プレディスペンスとこのプレディスペンスに応じた上型設置体１１（上型Ｍ２）の下降と上昇とを行う。これらは、少量の未硬化の紫外線硬化樹脂を予め下型Ｍ１に供給しておくものであり、成形品Ｗ１への気泡の混入を避けるためになされるものである。
【０１１６】
続いて、下型設置体９に設置されている下型Ｍ１に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗを供給する（成形材料供給工程；紫外線硬化樹脂供給工程；図６参照）。この紫外線硬化樹脂供給工程で、下型Ｍ１、上型Ｍ２の少なくとも一方に未硬化の紫外線硬化樹脂を供給するようにしてもよい。上型Ｍ２に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を供給した場合、粘度等によって、紫外線硬化樹脂Ｗ５は落下しないものとする。
【０１１７】
続いて、成形材料供給工程で未硬化の紫外線硬化樹脂を供給した後、下型設置体９に対して上型設置体１１を相対的に移動位置決めし（上型設置体１１を下降させて、下型Ｍ１と上型Ｍ２との間の距離を所定の小さな距離にし）、紫外線硬化樹脂Ｗ５を硬化して成形品Ｗ１を成形する（成形品Ｗ１を得る；成形品成形工程；図７参照）。このとき、成形室２７内を窒素ガスで満たす。また、成形された成形品Ｗ１は、この厚さ方向がＺ軸方向になっている。
【０１１８】
続いて、成形品成形工程で成形品Ｗ１を成形した後、この成形された成形品Ｗ１を各型Ｍ１，Ｍ２から離す（図８で示すように、上型設置体１１（上型Ｍ２）を上昇して、上型Ｍ２を成形品Ｗ１から離し、この後、搬送ロボット８９で成形品Ｗ１を下型Ｍ１から取り出す；離型工程）。
【０１１９】
位置ずれ量測定部５では、成形品成形工程で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形工程で成形され離型工程で取り出された成形品Ｗ１における、凹凸部Ｗ３，Ｗ４間の位置ずれ量を測定する（位置ずれ量測定工程）。
【０１２０】
そして、成形品成形工程では、位置ずれ量測定工程での測定結果に応じて、上型Ｍ２の相対的な位置を補正し次の成形品Ｗ１の成形をする。
【０１２１】
なお、成形品成形工程では、上型Ｍ２型が、下型Ｍ１に対して、Ｚ軸方向とＸ軸方向とＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、Ｃ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ａ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ｂ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっている。
【０１２２】
また、位置ずれ量測定工程では、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するとともに、成形品Ｗ１の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっている。
【０１２３】
また、成形品成形工程では、位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、成形品Ｗ１の成形前に、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、下型Ｍ１に対する上型Ｍ２の相対的な位置を補正するとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで下型Ｍ１に対する上型Ｍ２の相対的な位置を補正するようになっている。
【０１２４】
さらに、位置ずれ量測定工程では、各凸部Ｗ３のうちの１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ａ）と、この１つの凸部Ｗ３に対応している凹部Ｗ４（Ｗ４ａ）との位置ずれ量を測定し、各凸部Ｗ３のうちの他の１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ｂ）と、この他の１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ｂ）に対応している凹部Ｗ４（Ｗ４ｂ）との位置ずれ量を測定することで、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するようになっている。
【０１２５】
成形品成形装置１によれば、成形品成形部３で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形部３で成形した成形品Ｗ１の測定を位置ずれ量測定部５で行い、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の相対的な位置を補正し成形品成形部３で次の成形品Ｗ１の成形をするようにしているので、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品（正確な形状の成形品）Ｗ１を得ることができる。
【０１２６】
すなわち、図１３で示すように、位置ずれ量測定部５での位置ずれ量の測定が、成形品成形部３での成形と並行してなされるので、成形品成形部３での上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれ量の測定を、従来のように予めする必要がなくなり、その分、成形品成形部３（成形品成形装置１）でのタクトタイム（成形品Ｗ１を成形するためのタクトタイム）を短縮することができる。
【０１２７】
さらに説明すると、図１３で示すように、成形品成形部と位置ずれ量測定部とが一体化されている従来の成形品成形装置では、プレディスペンスに１５秒、プレディスペンス後の上型Ｍ２の下降に３０秒、下型Ｍ１への紫外線硬化樹脂の供給（ディスペンス）に６０秒、成形前のアラメント測定（上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれの測定）に６０秒、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれの補正に１５秒、上型Ｍ２の下降に６０秒、紫外線の照射による紫外線硬化樹脂の硬化に３０秒、離型に３０秒、成形品Ｗ１の取り出しに３０秒の、合計３３０秒のタクトタイムになっている。
【０１２８】
一方、本発明の実施形態に係る成形品成形装置１では、成形前のアラメント測定（各凹凸部Ｗ３，Ｗ４の位置ずれ量の測定）が並行して行われるので、タクトタイムが６０秒短縮されている。
【０１２９】
また、成形品成形装置１では、成形品Ｗ１の成形前に上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置の補正をしこの後に上型Ｍ２を下降し下型Ｍ１に近づけて成形品Ｗ１の成形をするのではなく、位置ずれ量測定部５で成形品Ｗ１における凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を直接測定するようになっている。
【０１３０】
したがって、上型Ｍ２と下型Ｍ１とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力や上型Ｍ２の下降等で上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置がずれた状態で成形品Ｗ１が成形されていても、次の成形品Ｗ１を成形するときに、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置を補正することができ、正確な形状の成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３１】
なお、上型Ｍ２と下型Ｍ１とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力等で上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置がずれた状態で成形品Ｗ１が成形される場合、下型Ｍ１が下型設置体９に設置されたままであり上Ｍ２が上型設置体１１に設置されたままであり成形品Ｗ１が同仕様であれば、上記位置ずれの傾向と大きさとはほぼ同じであるので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれがほとんど無い成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３２】
また、成形品成形装置１によれば、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで補正をするとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とでも補正をするので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量だけでなく厚さの誤差がほとんど無い成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３３】
また、成形品成形装置１によれば、位置ずれ量測定部５で、成形品Ｗ１の一方の端部に存在している凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するとともに、成形品の他方の端部に存在している凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を一層正確に測定することができ、一層正確な形状の成形品Ｗ１を得ることができる。
【符号の説明】
【０１３４】
１ 成形品成形装置
３ 成形品成形部
５ 位置ずれ量測定部
７ 制御部
９ 下型設置体（第１の型設置体）
１１ 上型設置体（第２の型設置体）
Ｍ１ 下型（第１の型）
Ｍ２ 上型（第２の型）
Ｗ１ 成形品
Ｗ３ 凹部（第１パターン）
Ｗ４ 凸部（第２パターン）
Ｗ５ 紫外線硬化樹脂（成形材料）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形品成形装置および成形品成形方法に係り、たとえば、上型と下型とを用いてレンズ集合体を成形するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、下型と上型とを用いて成形材料を成形し成形品を得る構成の成形品成形装置が知られている。
【０００３】
上記従来の成形装置では、たとえば、アライメントカメラを用いて、上型に対する下型の位置を合わせ、この後に、上型と下型とを用いて平板状の成形品を成形している。
【０００４】
なお、上記従来の技術に関する特許文献として、たとえば特許文献１、特許文献２を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５４８６８号公報
【特許文献２】特開２００８−１９４９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記従来の成形品成形装置では、上型に対する下型の位置を合わせた後（アライメント後）に、下型（第１の型）と上型（第２の型）とを用いて平板状の成形品を成形しているので、アライメントに要する時間がそのままタクトタイム（成形品を成形するタクトタイム）に加算されて、成形品を成形する際のタクトタイムが長くなるという問題がある。
【０００７】
また、成形品の成形前に上型に対する下型の位置合わせをしているので、実際に上型と下型とで成形品を成形するときの押圧力（上型と下型とで成形材料を挟み込む力）や温度変化等で、せっかく位置合わせをしたにもかかわらず、上型に対する下型の位置がずれた状態で成形品が成形されてしまい、成形品の精度が悪化する場合があるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置および成形品成形方法において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得ることができるものを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形装置において、前記第１の型が設置される第１の型設置体と、前記第２の型が設置され前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体とを備えた成形品成形部と、前記成形品成形部で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部と、前記成形品成形部で成形品を成形しているときに、前記成形品成形部で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定部で行い、この測定結果に応じて前記第２の型設置体の相対的な位置を補正し前記成形品成形部で次の成形品の成形をするように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する制御部とを有する成形品成形装置である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の成形品成形装置において、前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸のまわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記位置ずれ量測定部は、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するように構成されており、前記制御部は、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する構成である成形品成形装置である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の成形品成形装置において、前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、円形状に形成されているとともに所定の間隔をあけて複数設けられており、前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、前記位置ずれ量測定部は、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するように構成されている成形品成形装置である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形方法において、前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、未硬化の成形材料を供給する成形材料供給工程と、前記成形材料供給工程で未硬化の成形材料を供給した後、前記第１の型に対して前記第２の型を相対的に移動位置決めし、前記成形材料を硬化して成形品を成形する成形品成形工程と、前記成形品成形工程で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程とを有し、前記成形品成形工程で成形品の成形をしているときに、前記成形品成形工程で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定工程で行い、この測定結果に応じて前記成形品成形工程で前記第２の型の相対的な位置を補正し次の成形品の成形をする成形品成形方法である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の成形品成形方法において、前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、前記成形品成形工程では、前記第２の型が、前記第１の型に対して、前記第１の型に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記位置ずれ量測定工程では、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっており、前記成形品成形工程では、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正する成形品成形方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項４または請求項５に記載の成形品成形方法において、前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられており、前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、前記位置ずれ量測定工程では、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する成形品成形方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置および成形品成形方法において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】レンズ集合体の構成を示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＩ−Ｉ断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る成形品成形装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の概略構成を示す正面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の概略構成を示す側面図であり、図３におけるＩＶ矢視図である。
【図５】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する成形品成形部の動作を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係る成形品成形装置を構成する位置ずれ量測定部の概略構成を示す正面図である。
【図１０】図９におけるＸ−Ｘ矢視図である。
【図１１】（ａ）は、図１におけるＸＩ部の拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＸＩ−ＸＩ断面図である。
【図１２】図１１におけるＸＩＩｃ部の拡大図である。
【図１３】従来の成形品成形装置と本発明の実施形態に係る成形品成形装置とのタクトタイムを比較した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
まず、本発明の実施形態に係る成形品成形装置（成形材料の成形装置）１で成形される成形品Ｗ１について説明する。
【００１８】
成形品Ｗ１として、たとえば、図１に示すレンズの集合体（ウエハーレベルレンズ）を掲げることができる。レンズ集合体Ｗ１は、硬化した紫外線硬化樹脂の透明な材料で構成されており、平板状の本体部Ｗ２と球冠状の複数の凸部（第１パターンの例である凸部）Ｗ３と球冠状の複数の凹部（第２パターンの例である凸部）Ｗ４とを備えている。本体部Ｗ２は、円板状に形成されている。凸部（図３等で示す下型Ｍ１で形成された凸部）Ｗ３は、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面で、所定の間隔をあけて設けられている。凹部（図３等で示す上型Ｍ２で形成された凹部）Ｗ４は、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面で、所定の間隔をあけて設けられている。
【００１９】
レンズ集合体Ｗ１（本体部Ｗ２）をこの厚さ方向から見ると、本体部Ｗ２の厚さ方向の一方の面（図１（ｂ）では下面）に設けられている各凸部Ｗ３それぞれの中心の位置と、本体部Ｗ２の厚さ方向の他方の面（図１（ｂ）では上面）に設けられている各凹部Ｗ４それぞれの中心の位置とは、お互いにほぼ一致している。
【００２０】
このように構成されているレンズ集合体Ｗ１は、たとえば、一対の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を備えた（本体部Ｗ２の厚さの方向の一方の面側の１つの凸部Ｗ３と、本体部Ｗ２の厚さの方向の他方の面側の１つの凹部Ｗ４とを備えた）レンズ（メニスカスレンズ）に分割され、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサ等の撮像素子を設けることで、携帯電話等のカメラ部に使用される。
【００２１】
なお、図１（ａ）等では、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の数を少なく描いている。しかし、本体部Ｗ２の外径が、６インチから８インチ程度になっており、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が、数百個から数千個設けられている場合もある。
【００２２】
図１に示すレンズ集合体Ｗ１では、本体部Ｗ２に凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されているが、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面に複数の球冠状の凸部を設け、もしくは、本体部Ｗ２の厚さ方向の両面に複数の球冠状の凹部を設けた構成であってもよい。
【００２３】
また、図１に示すレンズ集合体Ｗ１は、一種類の成形材料のみで構成されているが（キャスティングされているが）、レンズ集合体をハイブリッドで構成してもよい。すなわち、レンズ集合体が、平板状の透明な基板（たとえば、ガラス基板）と、硬化した樹脂とで構成されていてもよい。硬化した樹脂部は、基板の厚さ方向の両面に設けられている。
【００２４】
成形材料として、紫外線硬化樹脂の代わりに、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の樹脂材料やその他の材料（たとえばガラス）を掲げることができるが、ここでは、紫外線硬化樹脂を例に掲げて説明する。
【００２５】
成形品成形装置１は、図３や図４で示すように、成形パターン（たとえば、球冠状の複数の凸部；図示せず）が形成されている第１の型（たとえば下型）Ｍ１と、成形パターン（たとえば、前記凸部よりも直径が大きい球冠状の複数の凹部；図示せず）が形成されている第２の型（たとえば上型）Ｍ２とを用いて、紫外線硬化樹脂から成形品Ｗ１を成形する装置である。
【００２６】
成形品Ｗ１は、液体状もしくは流動体状の紫外線硬化樹脂を各型Ｍ１，Ｍ２の間に供給して硬化することで所定の形状に形成される。
【００２７】
成形品成形装置１は、成形品成形部３と位置ずれ量測定部５と制御部７とを備えて構成されている。
【００２８】
成形品成形部３は、下型Ｍ１が設置される第１の型設置体（たとえば下型設置体）９と、上型Ｍ２が設置される第２の型設置体（たとえば上型設置体）１１とを備えて構成されている。上型設置体１１は、下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在になっている。換言すれば、下型設置体９は、上型設置体１１に対して相対的に移動位置決め自在になっている。
【００２９】
位置ずれ量測定部５は、成形品成形部３とは別箇に設けられている。位置ずれ量測定部５は、成形品成形部３で成形された成形品Ｗ１における凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定する装置である。なお、上述したように、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３は、下型Ｍ１の成形パターンで形成されたものであり、成形品Ｗ１の凹部Ｗ４は、上型Ｍ２の成形パターンで形成されたものである。
【００３０】
制御部７は、メモリ１３に格納されている動作プログラムにしたがって成形品成形装置１全体を制御するものであり、制御部７の制御によって、成形品成形部３と位置ずれ量測定部５等が次に示す動作をするようになっている。
【００３１】
すなわち、成形品成形部３で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形部３で成形した成形品Ｗ１の測定を、成形品成形部３での成形とは別個に、位置ずれ量測定部５で行うようにしている（位置ずれ量測定部５での測定を成形品成形部３での成形と並行して行うようにしている）。
【００３２】
また、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて（測定結果をフィードバックして）、上型設置体１１（上型Ｍ２）に対する下型設置体９（下型Ｍ１）の相対的な位置を補正し、成形品成形部３で次の成形品（先に成形されて位置ずれ量測定部５で測定された成形品Ｗ１と同仕様の成形品）Ｗ１の成形をするようにしている。
【００３３】
ところで、上型設置体１１は、下型設置体９に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、Ｚ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、Ｚ軸方向とＸ軸方向とに直交する他の一方向であるＹ軸方向とで、下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在になっている。
【００３４】
また、上型設置体１１は、下型設置体９に対して、Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで下型設置体９に対して相対的に回動位置決め自在になっており、Ｙ軸方向に延びている他の一方向の延びている所定の軸であるＢ軸まわりで下型設置体９に対して相対的に回動位置決め自在になっている。
【００３５】
Ｚ軸方向は、たとえば、上下方向（鉛直方向）であり、Ｘ軸方向は水平な一方向であり、Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向に直交する水平な他の一方向である。
【００３６】
位置ずれ量測定部５は、Ｘ軸方向（成形品Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さ方向と直交する一方向）とＹ軸方向（成形品Ｗ１の本体部Ｗ２の厚さ方向と直交する他一方向であって前記一方向に直交する方向）とで凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００３７】
また、位置ずれ量測定部５は、成形品Ｗ１の平板状部（たとえば、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されていない本体部Ｗ２の周辺部）の厚さを複数箇所で測定するように構成されている。
【００３８】
制御部７は、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで上型設置体１１（上型Ｍ２）の相対的な位置（下型設置体９や下型Ｍ１に対する位置）を補正するとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで上型設置体１１の相対的な位置（下型設置体９や下型Ｍ１に対する位置）を補正する制御をするようになっている。
【００３９】
制御部７の制御の下、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、上型設置体１１の相対的な位置を補正することで、凸部Ｗ３に対する凹部Ｗ４の位置ずれを無くすかもしくは許容値以下にするようになっている。また、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで、上型設置体１１の相対的な位置を補正することで、成形品Ｗ１の厚さ（厚さの絶対値と厚さの平行度）を補正し、成形品Ｗ１の厚さを目標値にしかつ成形品Ｗ１の厚さの平行度を「０」にするか許容値以下にするようになっている。
【００４０】
また、前述したように、成形品Ｗ１の厚さ方向から見ると（下型設置体９に設置されている下型Ｍ１に成形品Ｗ１がくっついているときにはＺ軸方向から見ると）、凹凸部Ｗ３，Ｗ４は、円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられている。
【００４１】
位置ずれ量測定部５は、各凸部Ｗ３のうちの１つの凸部Ｗ３（たとえば、最も外側に位置している凸部Ｗ３ａ；図１（ａ）参照）と、この１つの凸部Ｗ３ａに対応している凹部Ｗ４ａ（図１（ａ）参照）との位置ずれ量を測定し、また、各凸部Ｗ３のうちの他の１つの凸部Ｗ３（たとえば、最も外側に位置しているとともに、成形品Ｗ１の中心に対して凸部Ｗ３ａとは対称な位置に存在している凸部Ｗ３ｂ；図１（ａ）参照）と、この他の１つの凸部Ｗ３ｂに対応して形成されている凹部Ｗ４ｂとの位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００４２】
そして上記測定をすることで、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するように構成されている。
【００４３】
ここで、成形品成形装置１についてさらに詳しく説明する。まず、成形品成形部３について詳しく説明する。
【００４４】
成形品成形部３は、図２〜図４で示すように、ベース体１９の上方に設けられており、ＸＹＣステージ１５とチルト調整部１７と下型設置体９と上型設置体１１とを備えて構成されている。
【００４５】
ＸＹＣステージ１５は、図示しない基台と図示しないＸ軸テーブルと図示しないＹ軸テーブルと図示しないＣ軸テーブルとを備えて構成されている。基台は、ベース体１９の上面でベース体１９に一体的に設けられている。
【００４６】
Ｘ軸テーブルは、基台の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介して基台に支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｘ軸方向で、基台に対して移動位置決め自在になっている。
【００４７】
Ｙ軸テーブルは、Ｘ軸テーブルの上方で、図示しないリニアガイドベリングを介してＸ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｙ軸方向で、Ｘ軸テーブルに対して移動位置決め自在になっている。
【００４８】
Ｃ軸テーブルは、Ｙ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＹ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｃ軸まわりで、Ｙ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００４９】
これにより、Ｃ軸テーブルは、ベース体１９（基台）に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、移動および回動位置決め自在になっている。なお、Ｃ軸は、Ｚ軸方向に延びた軸であって、Ｃ軸テーブルの中心を通っている軸である。
【００５０】
チルト調整部１７は、図示しないＡ軸テーブルと図示しないＢ軸テーブルとを備えて構成されている。
【００５１】
Ａ軸テーブルは、Ｃ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＣ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ａ軸まわりで、Ｃ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００５２】
Ｂ軸テーブルは、Ａ軸テーブルの上方で、図示しないベリングを介してＡ軸テーブルに支持されており、制御部７の制御の下、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、Ｂ軸まわりで、Ａ軸テーブルに対して回動位置決め自在になっている。
【００５３】
これにより、Ｂ軸テーブルは、ベース体１９（基台）に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｃ軸まわり、Ａ軸まわりおよびＢ軸まわりで、移動および回動位置決め自在になっている。なお、Ａ軸は、Ｘ軸方向に延びた軸であって、Ａ軸テーブルの中心を通っている軸であり、Ｂ軸は、Ｘ軸方向に延びた軸であって、Ｂ軸テーブルの中心を通っている軸である。
【００５４】
チルト調整部１７（Ｂ軸テーブル）の上には、ロードセル２１を介して水冷ジャケット２３が一体的に設けられている。ロードセル２１は、下型Ｍ１と上型Ｍ２とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力（下型Ｍ１と上型Ｍ２とが紫外線硬化樹脂を挟み込む力）を測定するものであり、この測定値は、制御部７に入力されるようになっている。水冷ジャケット２３は、成形品Ｗ１を成形するときに成形品Ｗ１や各型Ｍ１，Ｍ２を冷却するものである。
【００５５】
水冷ジャケット２３の上面は、ほぼ水平な平面になっており、水冷ジャケット２３の上面中央部には、下型設置体９が図示しないボルト等の締結具によって一体的に設置されている。
【００５６】
下型設置体９の上面は、ほぼ水平な平面になっており、下型設置体９の上面に、下型Ｍ１がたとえば図示しないボルト等の締結部もしくは真空吸着によって一体的にしかも着脱自在に設置されるようになっている。
【００５７】
このとき、図示しない突き当て（たとえば、下型設置体９に一体的に設けられ下型設置体９の上面から突出している突き当てピン）に当接するこことで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、下型Ｍ１が下型設置体９の所定に位置に設置されるようになっている。
【００５８】
下型Ｍ１は、たとえば、ニッケル等の金属で円形な平板状に形成されており、厚さ方向の一方の面に、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３を形成するための凹部（図示しない成形パターン）が形成されている。そして、下型Ｍ１を下型設置体９に設置した状態では、下型Ｍ１の下面が下型設置体９の上面に面接触しており、下型Ｍ１の上面ほぼ水平方向で展開している上面）に成形パターンが存在している。
【００５９】
また、下型設置体９の上面の周辺部には、たとえば筒状のベローズ２５で構成された成形室形成体が設けられている。成形室形成体は、成形品Ｗ１を成形すべく、上型設置体１１に設置された上型Ｍ２を、下型設置体９に設置された下型Ｍ１に接近させたときに、下型設置体９（図３等では水冷ジャケット２３であるが、図３等で下型設置体９をＸ軸方向とＹ軸方向とで大きくし、下型設置体９としてもよい。）と上型設置体１１と協同して、成形室２７を形成するものである。成形室２７が形成されることで、成形品Ｗ１（紫外線硬化樹脂）が大気と遮断されるようになっている。なお、成形品Ｗ１を成形するとき、成形室２７内は、たとえば、窒素ガスで満たされるようになっているが、成形室２７内を真空状態にしてもよい。
【００６０】
ベース体１９には、一対の支柱２９が起立して一体的に設けられている。一対の支柱２９は、ベース体１９の上面であってＸＹＣステージ１５等の両側方で起立している。
【００６１】
各支柱２９のそれぞれには、リニアガイドベアリング３１を介して一対のＺ軸テーブル３３が設けられている。各Ｚ軸テーブル３３は、一対のサーボモータ３５等のアクチュエータによって、制御部７の制御の下、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっている。また、一対のサーボモータ３５はお互いが同期して駆動するようになっている。
【００６２】
一対のＺ軸テーブルの上端には、上型設置体１１が一体的に設けられている。これにより、上型設置体１１が、Ｚ軸方向でベース体１９に対して移動位置決め自在になっている。さらに、上型設置体１１が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、下型設置体９に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。換言すれば、下型設置体９が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、上型設置体１１に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。
【００６３】
上型設置体１１は、下型設置体９に設置された下型Ｍ１の上方で下型Ｍ１から離れている。
【００６４】
また、上型設置体１１の中央部には、貫通孔３９とバックアップガラス４１とが設けられている。バックアップガラス４１は、貫通孔３９を塞ぐように貫通孔３９内で上型設置体１１に一体的に設けられている。
【００６５】
上型設置体１１の下面（バックアップガラス４１に下面）は、水平な平面になっており、上型設置体１１の下面に、上型Ｍ２がたとえば図示しないボルト等の締結部と保持具３７もしくは真空吸着によって一体的にしかも着脱自在に設置されるようになっている。
【００６６】
このとき、図示しない突き当て（たとえば、上型設置体１１に一体的に設けられ上型設置体１１の下面から突出している突き当てピン）に当接するこことで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで、上型Ｍ２が上型設置体１１の所定に位置に設置されるようになっている。
【００６７】
上型Ｍ２は、たとえば、紫外線が透過する樹脂もしくは石英ガラス等の透明体で、円形な平板状に形成されており、厚さ方向の一方の面に、成形品Ｗ１の凹部Ｗ４を形成するための凸部（図示しない成形パターン）が形成されている。そして、上型Ｍ２を上型設置体１１に設置した状態では、上型Ｍ２の上面が上型設置体１１の下面に面接触しており、上型Ｍ２の下面（水平方向で展開している下面）に成形パターンが存在している。
【００６８】
下型設置体９に下型Ｍ１を設置し上型設置体１１に上型Ｍ２を設置した状態では、上型Ｍ２は、下型Ｍ１の上方で下型Ｍ１から離れて存在している。また、上型Ｍ２が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とＡ軸まわりとＢ軸まわりとＣ軸まわりとで、下型Ｍ１に対して相対的に、移動および回動位置決め自在になっている。
【００６９】
また、下型設置体９に下型Ｍ１を設置し上型設置体１１に上型Ｍ２を設置した状態では、下型Ｍ１の上面と上型Ｍ２の下面とがお互いにほぼ平行になって対向しており、Ｚ軸方向から見ると、下型Ｍ１と上型Ｍ２とがお互いにほぼ重なっている。
【００７０】
上型設置体１１の上方には紫外線発生装置４３が設けられており、この紫外線発生装置４３が発した紫外線が、貫通孔３９とバックアップガラス４１と上型Ｍ２とを通って、紫外線硬化樹脂Ｗ５に照射されて紫外線硬化樹脂Ｗ５が硬化し成形品Ｗ１が成形されるようになっている（図７参照）。
【００７１】
紫外線発生装置４３は、紫外線発生装置移動装置４５によって、紫外線硬化樹脂Ｗ５に紫外線を照射する位置である照射位置ＰＡ１もしくは退避位置ＰＡ２に位置するようになっている（図３、図４参照）。
【００７２】
また、上型設置体１１の上方には、一対のカメラ４７が設けられている。カメラ４７は、カメラ移動装置４９によって、撮影位置ＰＢ１もしくは退避位置ＰＢ２に位置するようになっている（図３参照）。
【００７３】
上型Ｍ２が設置された上型設置体１１が下降して下型Ｍ１が設置された下型設置体９に近づき、カメラ４７が撮影位置ＰＢ１に位置しているときに、上型Ｍ２に形成されているアイマーク（図示せず）と下型Ｍ１に形成されているアイマーク（図示せず）とを、カメラ４７で撮影するようになっている。
【００７４】
この撮影された画像は、制御部７の画像処理装置５１に送られて処理され、下型（下型設置体９に設置されている下型）Ｍ１に対する上型（上型設置体１１に設置されている上型）Ｍ２の位置ずれ量（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｃ軸まわりでの位置ずれ量）を測定することができるようになっている。
【００７５】
この測定された位置ずれ量に応じて、下型設置体９に対する上型設置体１１の位置ずれを、成形品Ｗ１の成形前に補正するようになっている。なお、カメラ４７による位置ずれ量の測定やこの測定結果に基づく補正は、上下の型設置体９，１１に上下の型Ｍ１，Ｍ２を設置した後、最初の成形品Ｗ１を成形する前に限ってなされる。
【００７６】
カメラ４７と紫外線発生装置４３とは、お互いが干渉しないようになっている。すなわち、カメラ４７が撮影位置ＰＢ１に位置しているときには、紫外線発生装置４３が退避位置ＰＡ２に位置し、紫外線発生装置４３が照射位置ＰＡ１に位置しているときには、カメラ４７が退避位置ＰＢ２に位置することで、お互いが干渉しないようになっている。
【００７７】
なお、成形品成形部３において、カメラ４７やカメラ移動装置４９を削除した構成であってもよい。この場合、紫外線発生装置移動装置４５も削除され、紫外線発生装置４３は、常に照射位置ＰＡ１に位置しているものとする。
【００７８】
次に、位置ずれ量測定部５について詳しく説明する。
【００７９】
位置ずれ量測定部５は、図２で示すように、成形品成形部３の近くでベース体１９の上方に設けられており、図９で示すように、ＸＹステージ５３と成形品設置体５５とカメラ５７と測長器（レーザ測長器）５９とを備えて構成されている。
【００８０】
ＸＹステージ５３は、たとえば、筒状（たとえば矩形な筒状）に形成されている基台６１と、環状（たとえば矩形な環状）に形成されているＸ軸テーブル６３と、環状（たとえば矩形な環状）に形成されているＹ軸テーブル６５とを備えて構成されている。基台６１は、ベース体１９の上方でベース体１９に一体的に設けられている。
【００８１】
Ｘ軸テーブル６３は、基台６１の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介して基台６１に支持されており、制御部７の制御の下、サーボモータ６７等のアクチュエータにより、Ｘ軸方向で、基台６１に対して移動位置決め自在になっている。
【００８２】
Ｙ軸テーブル６５は、Ｘ軸テーブル６３の上方で、図示しないリニアガイドベリングを介してＸ軸テーブル６３に支持されており、制御部７の制御の下、サーボモータ６９等のアクチュエータにより、Ｙ軸方向で、Ｘ軸テーブル６３に対して移動位置決め自在になっている。
【００８３】
成形品設置体５５は、たとえば、リング状に形成されており、Ｙ軸テーブル６５の上方でＹ軸テーブル６５に一体的に設けられている。成型品設置体５５がＸＹステージ５３に設置されている状態では、成形品設置体５５やＸＹステージ５３の内部に円柱状等の内部空間７１が形成されており、内部空間７１内に照明装置７３が設けられている。照明装置７３で成形品設置体５５に設置された成形品Ｗ１を照明することで、カメラ５７での撮影状態が良好になる。
【００８４】
成形品設置体５５の上面は、リング状の水平な平面になっており、この上面に成形品Ｗ１がたとえば真空吸着によって一体的に設置されるようになっている。
【００８５】
成形品設置体５５に設置された成形品Ｗ１は、この厚さ方向がＺ軸方向になっており、ベース体１９に対し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【００８６】
また、成形品設置体５５に成形品Ｗ１が設置された状態では、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されていない成形品Ｗ１の周辺部が、成形品設置体５５のリング状の上面に面接触している。これにより、凹凸部Ｗ３，Ｗ４が形成されている成形品Ｗ１の部位は、照明装置７３で下から照明されるようになっている。
【００８７】
なお、成形品設置体５５が、リング状に形成されていなくてもよい。高さがお互いに等しい柱状の複数のブロックで成形品設置体を構成してもよい、この場合、各ブロックは、リング状で水平な平面上のＹ軸テーブルの上面で、円周上でお互いが離れて配置されるものとする。
【００８８】
ベース体１９には、一対の支柱７５が起立して一体的に設けられている。一対の支柱７５は、ベース体１９の上面であってＸＹステージ５３の両側方で起立している。
【００８９】
各支柱７５のそれぞれの上端には、梁７７が一体的に設けられている。梁７７の中央部には、カメラ５７が設けられている。カメラ５７は、カメラ支持体８１に一体的に設けられており、カメラ支持体８１が、リニアガイドベアリング８３を介して梁７７に支持されている。そして、カメラ５７が、制御部７の制御の下、サーボモータ８５等のアクチュエータにより、Ｚ軸方向で、梁７７（ベース体１９）に対して移動位置決め自在になっている。
【００９０】
レーザ測長器５９は、梁７７の下側で梁７７に一体的に設けられている。レーザ測長器５９は下方に向かってレーザ光を出射するとともに、成形品Ｗ１で上方に反射されて戻ってきたレーザ光を受光するようになっている。そして、レーザ光を出射してから受光するまでの時間によって、レーザ測長器５９と成形品（成形品設置体５５に設置されている成形品）Ｗ１との間の距離を測定するようになっている。さらに、成形品（成形体５５に設置されている成形品）Ｗ１の厚さ（レーザ光が反射した部位における厚さ）を測定することができるようになっている。
【００９１】
また、カメラ５７は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１に対して、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっているとともに、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１は、レーザ測長器５９やカメラ５７に対して、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで移動位置決め自在になっている
これにより、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１を適宜移動位置決めすることで、カメラ５７は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１の総ての部位を撮影することができるとともに、レーザ測長器５９は、成形品設置体５５に設置されている成形品Ｗ１の総ての部位の厚さを測定することができるようになっている。
【００９２】
次に、カメラ５７を用いた、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の測定と補正とについて説明する。
【００９３】
図１１（ａ）で示すように、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４全体を一度に撮影することができる場合には、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影し、この撮影結果を制御部７の画像処理装置５１に送る。画像処理装置５１では、凸部Ｗ３の中心Ｏ１と凹部Ｗ４の中心Ｏ２とを求め、中心Ｏ１と中心Ｏ２との間の位置ずれ量（Ｘ軸方向における位置ずれ量Δｘ１、Ｙ軸方向における位置ずれ量Δｙ１）を求める。この求めた位置ずれ量が、１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４における凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量になる。
【００９４】
このようにして、少なくとも、図１（ａ）で示す１組の凹凸部Ｗ３ａ，Ｗ４ａと他の１組の凹凸部Ｗ３ｂ，Ｗ４ｂとで位置ずれ量を求めれば、この結果を用いて、上型設置体１１に設置されている上型Ｍ２に対する下型設置体９に設置されている下型Ｍ１の位置を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＣ軸まわりで補正し、凹部Ｗ４の位置に対する凸部Ｗ３の位置を正確なものにすることができる。
【００９５】
さらに説明すると、成形品成形部３で１回目に成形した成形品Ｗ１ａの位置ずれ量が、Ｒ１であったとすると、１回目の成形をする前に、ＸＹＣステージ１５を適宜駆動し、下型設置体９の位置を補正し（位置ずれ量が「０」になるように補正し）、この補正後に、２回目の成形品Ｗ１ｂの成形をするようになっている。なお、位置ずれ量Ｒ１が許容値以下の大きさせる場合には、補正をしなくてもよい。
【００９６】
３回目以降の成形品Ｗ１の成形においては、前の回の成形品（たとえば２回目の成形品もしくは１回目の成形品）Ｗ１の位置ずれ量を用いて補正すればよい。
【００９７】
また、前の回の所定回数の位置ずれ量の平均値を求めて、この求めた平均値で、成形前に位置ずれ量の補正をしてもよい。たとえば、５回目の成形品Ｗ１を成形する前に、３回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量と４回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量との平均値を求めて、この求めた平均値で５回目の成形前に位置ずれ量を補正してもよい。
【００９８】
さらに、平均値を求める際、各成形回数での位置ずれ量に重みをつけてもよい。たとえば、５回目の成形品Ｗ１を成形する前に、３回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量Ｒ３と４回目に成形した成形品Ｗ１の位置ずれ量Ｒ４との平均値を求める際、位置ずれ量Ｒ３に係数１を乗じ、位置ずれ量Ｒ４に係数２を乗じ、（Ｒ３×１＋Ｒ４×２）÷（１＋２）の式で求め位置ずれ量（平均値）で、５回目の成形前に位置ずれ量を補正してもよい。
【００９９】
ところで、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４全体を一度に撮影することができない場合には、カメラ５７で、各凹凸部Ｗ３，Ｗ４の一部（外周の一部）を撮影する（たとえば、図１１（ａ）で示すＸＩＩｃ部を撮影する）。この撮影結果を制御部７の画像処理装置５１に送る。画像処理装置では、図１２で示すように、凸部Ｗ３の円弧状の外周上に２点Ｐ１１，Ｐ１２をとり、２点Ｐ１１，Ｐ１２をお互いに結ぶ線分Ｌ１を求め、線分Ｌ１の垂直２等分線Ｌ２（凸部Ｗ３における１本目の直線）を求める。同様にして、凹部Ｗ４における１本目の直線を求める。
【０１００】
次に、カメラ５７に対して成形品Ｗ１を適宜移動して、たとえば、図１１（ａ）で示すＸＩＩｂ部を撮影し、同様にして、凸部Ｗ３における２本目の直線と、凹部Ｗ４における２本目の直線を求める。これらの求めた４本の直線により、凸部Ｗ３の中心と凹部Ｗ４の中心とを求め、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求める。
【０１０１】
さらに、カメラ５７で１組の凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影し、凸部Ｗ３の外周と、凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めることで、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めてもよい。
【０１０２】
凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離は、たとえば、図１２で示すように、垂直２等分線Ｌ２と凸部Ｗ３の外周との交点Ｐ２１と、垂直２等分線Ｌ２と凹部Ｗ４の外周との交点Ｐ２２との間の距離を求めることでなされる。
【０１０３】
凸部Ｗ３や凹部Ｗ４の外径が既知でない場合には、たとえば、図１１で示す部位ＸＩＩｂと部位ＸＩＩｃと部位ＸＩＩｄとの少なくとも３箇所で、凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めれば、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めることができる。また、凸部Ｗ３や凹部Ｗ４の外径が既知である場合には、たとえば、図１１で示す部位ＸＩＩａと部位ＸＩＩｂとの少なくとも２箇所で、凸部Ｗ３の外周と凹部Ｗ４の外周との間の距離を求めれば、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めることができる。
【０１０４】
なお、成形品Ｗ１は、凸部Ｗ３（凹部であってもよい）の外径が凹部Ｗ４（凸部であってもよい）の外径よりも大きく、カメラ５７が凹部Ｗ４側から成形品Ｗ１を撮影するので、凹部Ｗ４はもちろんのこと、成形品Ｗ１の平板状の本体部Ｗ２を通して凸部Ｗ３を正確に撮影することができる。
【０１０５】
なお、凹凸部Ｗ３，Ｗ４を撮影する代わりに、下型Ｍ１によって成形品Ｗ１の下面に形成されたアイマークと、上型Ｍ２によって成形品Ｗ１の上面に形成されたアイマークとを、カメラ５７で撮影し、成形品Ｗ１の凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量の求めてもよい。
【０１０６】
また、成形品Ｗ１の厚さや厚さの平行度は、レーザ測長器５９で成形品Ｗ１の３箇所を測定することでもとめることができる。この結果を用いて、上型設置体１１に対する下型設置体９の位置（Ｚ軸方向の位置、Ａ軸まわりの回動位置、Ｂ軸まわりの回動位置）の補正がさなれ、成形品Ｗ１の成形がなされる。
【０１０７】
次に、成形品成形装置１の他の部分について説明する。
【０１０８】
成形品成形装置１には、ディスペンサ（未硬化の紫外線硬化樹脂供給装置）８７と搬送ロボット（搬送装置）８９と搬送スライダ（搬送装置）９１とカセットチェンジャ９３とが設けられている。ディスペンサ８７と搬送ロボット８９と搬送スライダ９１とカセットチェンジャ９３とは、ベース体１９の上に設けられている。
【０１０９】
ディスペンサ８７は、樹脂タンク９５から未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５の供給を受けて、成形品成形部３の下型設置体９に設置されている下型Ｍ１の上面に、未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を所定量供給する装置である。
【０１１０】
ディスペンサ８７は、ディスペンサ移動位置決め装置９７で支持されており、下型Ｍ１の上面に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を供給する供給位置ＰＣ１と退避位置ＰＣ２とのいすれかの位置に位置するようになっている。
【０１１１】
搬送ロボット８９は、成形品成形部３で成形された成形品Ｗ１を、成形品成形部３から搬出して位置ずれ量測定部５に供給する装置である。また、搬送ロボット８９は、位置ずれ量測定部５で位置ずれ量が測定された成形品Ｗ１を、位置ずれ量測定部５から搬出して搬送スライダ９１に供給する装置である。
【０１１２】
搬送スライダ９１に供給された成形品Ｗ１は、カセットチェンジャ９３を介し図示しない格納部に格納されるようになっている。
【０１１３】
次に、たとえば、成形品成形装置１を用いた成形品Ｗ１の成形方法（製造方法）について説明する。
【０１１４】
まず、初期状態として、図５で示すように上型設置体１１（上型Ｍ２）が上昇しており、上型設置体１１（上型Ｍ２）がＸ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、下型設置体９（下型Ｍ１）に対してほぼ位置決めされているものとする。
【０１１５】
上記初期状態において、成形品成形部３では、プレディスペンスとこのプレディスペンスに応じた上型設置体１１（上型Ｍ２）の下降と上昇とを行う。これらは、少量の未硬化の紫外線硬化樹脂を予め下型Ｍ１に供給しておくものであり、成形品Ｗ１への気泡の混入を避けるためになされるものである。
【０１１６】
続いて、下型設置体９に設置されている下型Ｍ１に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗを供給する（成形材料供給工程；紫外線硬化樹脂供給工程；図６参照）。この紫外線硬化樹脂供給工程で、下型Ｍ１、上型Ｍ２の少なくとも一方に未硬化の紫外線硬化樹脂を供給するようにしてもよい。上型Ｍ２に未硬化の紫外線硬化樹脂Ｗ５を供給した場合、粘度等によって、紫外線硬化樹脂Ｗ５は落下しないものとする。
【０１１７】
続いて、成形材料供給工程で未硬化の紫外線硬化樹脂を供給した後、下型設置体９に対して上型設置体１１を相対的に移動位置決めし（上型設置体１１を下降させて、下型Ｍ１と上型Ｍ２との間の距離を所定の小さな距離にし）、紫外線硬化樹脂Ｗ５を硬化して成形品Ｗ１を成形する（成形品Ｗ１を得る；成形品成形工程；図７参照）。このとき、成形室２７内を窒素ガスで満たす。また、成形された成形品Ｗ１は、この厚さ方向がＺ軸方向になっている。
【０１１８】
続いて、成形品成形工程で成形品Ｗ１を成形した後、この成形された成形品Ｗ１を各型Ｍ１，Ｍ２から離す（図８で示すように、上型設置体１１（上型Ｍ２）を上昇して、上型Ｍ２を成形品Ｗ１から離し、この後、搬送ロボット８９で成形品Ｗ１を下型Ｍ１から取り出す；離型工程）。
【０１１９】
位置ずれ量測定部５では、成形品成形工程で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形工程で成形され離型工程で取り出された成形品Ｗ１における、凹凸部Ｗ３，Ｗ４間の位置ずれ量を測定する（位置ずれ量測定工程）。
【０１２０】
そして、成形品成形工程では、位置ずれ量測定工程での測定結果に応じて、上型Ｍ２の相対的な位置を補正し次の成形品Ｗ１の成形をする。
【０１２１】
なお、成形品成形工程では、上型Ｍ２型が、下型Ｍ１に対して、Ｚ軸方向とＸ軸方向とＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、Ｃ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ａ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、Ｂ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっている。
【０１２２】
また、位置ずれ量測定工程では、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで凸部Ｗ３と凹部Ｗ４との間の位置ずれ量を測定するとともに、成形品Ｗ１の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっている。
【０１２３】
また、成形品成形工程では、位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、成形品Ｗ１の成形前に、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで、下型Ｍ１に対する上型Ｍ２の相対的な位置を補正するとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とで下型Ｍ１に対する上型Ｍ２の相対的な位置を補正するようになっている。
【０１２４】
さらに、位置ずれ量測定工程では、各凸部Ｗ３のうちの１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ａ）と、この１つの凸部Ｗ３に対応している凹部Ｗ４（Ｗ４ａ）との位置ずれ量を測定し、各凸部Ｗ３のうちの他の１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ｂ）と、この他の１つの凸部Ｗ３（Ｗ３ｂ）に対応している凹部Ｗ４（Ｗ４ｂ）との位置ずれ量を測定することで、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するようになっている。
【０１２５】
成形品成形装置１によれば、成形品成形部３で成形品Ｗ１の成形をしているときに、成形品成形部３で成形した成形品Ｗ１の測定を位置ずれ量測定部５で行い、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の相対的な位置を補正し成形品成形部３で次の成形品Ｗ１の成形をするようにしているので、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品（正確な形状の成形品）Ｗ１を得ることができる。
【０１２６】
すなわち、図１３で示すように、位置ずれ量測定部５での位置ずれ量の測定が、成形品成形部３での成形と並行してなされるので、成形品成形部３での上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれ量の測定を、従来のように予めする必要がなくなり、その分、成形品成形部３（成形品成形装置１）でのタクトタイム（成形品Ｗ１を成形するためのタクトタイム）を短縮することができる。
【０１２７】
さらに説明すると、図１３で示すように、成形品成形部と位置ずれ量測定部とが一体化されている従来の成形品成形装置では、プレディスペンスに１５秒、プレディスペンス後の上型Ｍ２の下降に３０秒、下型Ｍ１への紫外線硬化樹脂の供給（ディスペンス）に６０秒、成形前のアラメント測定（上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれの測定）に６０秒、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置ずれの補正に１５秒、上型Ｍ２の下降に６０秒、紫外線の照射による紫外線硬化樹脂の硬化に３０秒、離型に３０秒、成形品Ｗ１の取り出しに３０秒の、合計３３０秒のタクトタイムになっている。
【０１２８】
一方、本発明の実施形態に係る成形品成形装置１では、成形前のアラメント測定（各凹凸部Ｗ３，Ｗ４の位置ずれ量の測定）が並行して行われるので、タクトタイムが６０秒短縮されている。
【０１２９】
また、成形品成形装置１では、成形品Ｗ１の成形前に上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置の補正をしこの後に上型Ｍ２を下降し下型Ｍ１に近づけて成形品Ｗ１の成形をするのではなく、位置ずれ量測定部５で成形品Ｗ１における凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を直接測定するようになっている。
【０１３０】
したがって、上型Ｍ２と下型Ｍ１とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力や上型Ｍ２の下降等で上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置がずれた状態で成形品Ｗ１が成形されていても、次の成形品Ｗ１を成形するときに、上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置を補正することができ、正確な形状の成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３１】
なお、上型Ｍ２と下型Ｍ１とで成形品Ｗ１を成形するときの押圧力等で上型Ｍ２に対する下型Ｍ１の位置がずれた状態で成形品Ｗ１が成形される場合、下型Ｍ１が下型設置体９に設置されたままであり上Ｍ２が上型設置体１１に設置されたままであり成形品Ｗ１が同仕様であれば、上記位置ずれの傾向と大きさとはほぼ同じであるので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれがほとんど無い成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３２】
また、成形品成形装置１によれば、位置ずれ量測定部５での測定結果に応じて、Ｘ軸方向とＹ軸方向とＣ軸まわりとで補正をするとともに、Ａ軸まわりとＢ軸まわりとＺ軸方向とでも補正をするので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量だけでなく厚さの誤差がほとんど無い成形品Ｗ１を得ることができる。
【０１３３】
また、成形品成形装置１によれば、位置ずれ量測定部５で、成形品Ｗ１の一方の端部に存在している凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するとともに、成形品の他方の端部に存在している凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を測定するので、凹凸部Ｗ３，Ｗ４の間の位置ずれ量を一層正確に測定することができ、一層正確な形状の成形品Ｗ１を得ることができる。
【符号の説明】
【０１３４】
１ 成形品成形装置
３ 成形品成形部
５ 位置ずれ量測定部
７ 制御部
９ 下型設置体（第１の型設置体）
１１ 上型設置体（第２の型設置体）
Ｍ１ 下型（第１の型）
Ｍ２ 上型（第２の型）
Ｗ１ 成形品
Ｗ３ 凹部（第１パターン）
Ｗ４ 凸部（第２パターン）
Ｗ５ 紫外線硬化樹脂（成形材料）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形装置において、
前記第１の型が設置される第１の型設置体と、前記第２の型が設置され前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体とを備えた成形品成形部と、
前記成形品成形部で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部と、
前記成形品成形部で成形品を成形しているときに、前記成形品成形部で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定部で行い、この測定結果に応じて前記第２の型設置体の相対的な位置を補正し前記成形品成形部で次の成形品の成形をするように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する制御部と、
を有することを特徴とする成形品成形装置。
【請求項２】
請求項１に記載の成形品成形装置において、
前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、
前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸のまわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、
前記位置ずれ量測定部は、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するように構成されており、
前記制御部は、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する構成であることを特徴とする成形品成形装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の成形品成形装置において、
前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、円形状に形成されているとともに所定の間隔をあけて複数設けられており、
前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、
前記位置ずれ量測定部は、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するように構成されていることを特徴とする成形品成形装置。
【請求項４】
成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形方法において、
前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、未硬化の成形材料を供給する成形材料供給工程と、
前記成形材料供給工程で未硬化の成形材料を供給した後、前記第１の型に対して前記第２の型を相対的に移動位置決めし、前記成形材料を硬化して成形品を成形する成形品成形工程と、
前記成形品成形工程で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程と、
を有し、前記成形品成形工程で成形品の成形をしているときに、前記成形品成形工程で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定工程で行い、この測定結果に応じて前記成形品成形工程で前記第２の型の相対的な位置を補正し次の成形品の成形をすることを特徴とする成形品成形方法。
【請求項５】
請求項４に記載の成形品成形方法において、
前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、
前記成形品成形工程では、前記第２の型が、前記第１の型に対して、前記第１の型に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、
前記位置ずれ量測定工程では、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっており、
前記成形品成形工程では、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正することを特徴とする成形品成形方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の成形品成形方法において、
前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられており、
前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、
前記位置ずれ量測定工程では、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することを特徴とする成形品成形方法。
【請求項１】
成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形装置において、
前記第１の型が設置される第１の型設置体と、前記第２の型が設置され前記第１の型設置体に対して相対的に移動位置決め自在である第２の型設置体とを備えた成形品成形部と、
前記成形品成形部で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部と、
前記成形品成形部で成形品を成形しているときに、前記成形品成形部で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定部で行い、この測定結果に応じて前記第２の型設置体の相対的な位置を補正し前記成形品成形部で次の成形品の成形をするように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する制御部と、
を有することを特徴とする成形品成形装置。
【請求項２】
請求項１に記載の成形品成形装置において、
前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、
前記第２の型設置体は、前記第１の型設置体に対して、前記第１の型設置体に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで、相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸のまわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、
前記位置ずれ量測定部は、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するように構成されており、
前記制御部は、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで前記第１の型設置体に対する前記第２の型設置体の相対的な位置を補正するように、前記成形品成形部と前記位置ずれ量測定部とを制御する構成であることを特徴とする成形品成形装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の成形品成形装置において、
前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、円形状に形成されているとともに所定の間隔をあけて複数設けられており、
前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、
前記位置ずれ量測定部は、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するように構成されていることを特徴とする成形品成形装置。
【請求項４】
成形パターンが形成されている第１の型と成形パターンが形成されている第２の型とを用いて成形材料から成形品を成形する成形品成形方法において、
前記第１の型、前記第２の型の少なくともいずれかに、未硬化の成形材料を供給する成形材料供給工程と、
前記成形材料供給工程で未硬化の成形材料を供給した後、前記第１の型に対して前記第２の型を相対的に移動位置決めし、前記成形材料を硬化して成形品を成形する成形品成形工程と、
前記成形品成形工程で成形された成形品における、前記第１の型の成形パターンで形成された第１パターンと前記第２の型の成形パターンで形成された第２パターンとの間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定工程と、
を有し、前記成形品成形工程で成形品の成形をしているときに、前記成形品成形工程で成形した成形品の測定を前記位置ずれ量測定工程で行い、この測定結果に応じて前記成形品成形工程で前記第２の型の相対的な位置を補正し次の成形品の成形をすることを特徴とする成形品成形方法。
【請求項５】
請求項４に記載の成形品成形方法において、
前記成形品は平板状に形成されており、前記第１パターンが厚さ方向の一方の面に形成されており、前記第２パターンが厚さ方向の他方の面に形成されており、
前記成形品成形工程では、前記第２の型が、前記第１の型に対して、前記第１の型に接近もしくは離反する方向であるＺ軸方向と、このＺ軸方向に直交する一方向であるＸ軸方向と、前記Ｚ軸方向と前記Ｘ軸方向とに直交する一方向であるＹ軸方向とで相対的に移動位置決め自在になっているとともに、前記Ｚ軸方向に延びている所定の軸であるＣ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｘ軸方向に延びている所定の軸であるＡ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、前記Ｙ軸方向に延びている所定の軸であるＢ軸まわりで相対的に回動位置決め自在になっており、
前記位置ずれ量測定工程では、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定するとともに、前記成形品の平板状部の厚さを複数箇所で測定するようになっており、
前記成形品成形工程では、前記位置ずれ量測定部での測定結果に応じて、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向と前記Ｃ軸まわりとで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正するとともに、前記Ａ軸まわりと前記Ｂ軸まわりと前記Ｚ軸方向とで、前記第１の型に対する前記第２の型の相対的な位置を補正することを特徴とする成形品成形方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の成形品成形方法において、
前記成形品の第１パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに円形状に形成されているとともに、所定の間隔をあけて複数設けられており、
前記成形品の第２パターンは、前記成形品の厚さ方向から見たときに、前記第１パターンとは直径が異なる円形状に形成されているとともに、前記各第１パターンに対応して、前記第１パターンと同じ数、所定の間隔をあけて複数設けられており、しかも、前記第１パターンの中心位置のそれぞれと前記第２パターンの中心位置のそれぞれとがお互いにほぼ一致しており、
前記位置ずれ量測定工程では、前記各第１パターンのうちの１つの第１パターンと、この１つの第１パターンに対応している第２パターンとの間の位置ずれ量を測定し、前記各第１パターンのうちの他の１つの第１パターンと、この他の１つの第１パターンに対応して形成されている第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することで、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とで前記第１パターンと前記第２パターンとの間の位置ずれ量を測定することを特徴とする成形品成形方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１２−２０１０００（Ｐ２０１２−２０１０００Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２２日（２０１２．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６７８６３（Ｐ２０１１−６７８６３）
【出願日】平成２３年３月２５日（２０１１．３．２５）
【出願人】（０００００３４５８）東芝機械株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２２日（２０１２．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２５日（２０１１．３．２５）
【出願人】（０００００３４５８）東芝機械株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
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