標本スキャナ装置、該装置による標本位置検出方法
【課題】本発明では、透明標本及び褪色が危惧される蛍光標本に対して、褪色することなく、標本位置（カバーガラス）を自動判別する標本スキャナ装置を提供する。
【解決手段】スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、を備えることにより、上記課題の解決を図る。
【解決手段】スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、を備えることにより、上記課題の解決を図る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ上に載置されたスライドガラス上の所定の位置を検出することができる標本スキャナ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、スライドガラスの全領域を低倍率対物レンズで撮影した各画像情報を高倍率対物レンズの実視野サイズに分割して、その分割領域の標本像の有無を検出し、標本像が存在すると判明した分割領域のみを高倍率対物レンズで撮影することにより、広視野かつ高精細の顕微鏡画像を効率良く撮影し、且つ画像記録容量を削減した顕微鏡画像撮影装置が開示されている。
【０００３】
特許文献２では、特に病理診断学の教材に使用可能な必要最小限の領域かつ高精細な顕微鏡ディジタル画像撮影可能な顕微鏡画像撮影装置が開示されている。特許文献２では、現在観察している観察範囲を小区画に分割して、各小区画を現在の観察倍率よりも大きな観察倍率でそれぞれ入力することにより、高解像な顕微鏡画像が形成されている。
【特許文献１】特開２００４−１０１８７１号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１や特許文献２では、一度低倍でスライドガラス全面を撮像し、その撮像した画像に対してスクリーニング位置を判別・指定している。例えば、特許文献では撮像画像の輝度値から標本が存在するかしないかの自動判定をしている。また、特許文献２では、ユーザが画像から目的とする標本を指定している。
【０００５】
そのため、特許文献１及び特許文献２では、透明標本のスクリーニング位置の指定が難しく、スライドガラス全面を一度撮像するために時間がかかる。その結果、特に蛍光標本では光毒性により標本が損傷する。
【０００６】
上記の課題に鑑み、本発明では、透明標本及び褪色が危惧される蛍光標本に対して、褪色することなく、標本位置（カバーガラス）を自動判別する方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
前記標本スキャナ装置において、前記走査制御手段は、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させることを特徴とする。
前記標本スキャナ装置において、前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させることを特徴とする。
【０００９】
前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識することを特徴とする。
【００１０】
前記標本スキャナ装置は、さらに、前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するＺ座標位置検出手段を備えることを特徴とする。
【００１１】
前記標本スキャナ装置において、前記Ｚ座標位置検出手段は、アクティブオートフォーカス機構であることを特徴とする。
前記標本スキャナ装置は、顕微鏡に搭載されることを特徴とする。
【００１２】
本発明にかかる、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置による標本位置検出方法は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させ、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出し、前記走査された前記スライドガラス上の位置と、該スライドガラス上の位置に対応する前記検出された反射光の光強度と、に基づいて、該スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明を用いることにより、スクリーニング時に透明標本でも標本位置（カバーガラス位置）を観察することができる。また、蛍光標本に対し褪色させることなく標本位置（カバーガラス位置）を検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明にかかる標本スキャナ装置は、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられるものである。
【００１５】
本発明にかかる標本スキャナ装置は、走査制御手段、光強度検出手段、及び標本保持部材認識手段を備える。
走査制御手段は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる。前記走査制御手段は、例えば、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させるようにしてもよい（例えば、本実施形態でいえば、ステージ制御部５に相当する。）。
【００１６】
光強度検出手段は、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する（例えば、本実施形態でいえば、光センサ３６に相当する。）。
標本保持部材認識手段は、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する（例えば、本実施形態でいえば、コントロール部１８に相当する）。
【００１７】
このように構成することにより、スライドガラス上のカバーガラスの位置を検出することができる。
また、前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させることができる。
【００１８】
このように構成することにより、スライドガラス上に任意に配列されたカバーガラスの位置を検出することができる。
また、前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識することができる。
【００１９】
このように構成することにより、ノイズ成分を除去することができるので、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラスの判別がより容易になる。
前記標本スキャナ装置は、さらに、Ｚ座標位置検出手段を備えてもよい。Ｚ座標位置検出手段は、前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するものである。前記Ｚ座標位置検出手段は、例えばアクティブオートフォーカス機構であってよい（例えば、本実施形態でいえば、アクティブオートフォーカス機能を実現させる赤外光半導体レーザー２６、レーザー制御部２７、集光レンズ群３５受光センサ３６等に相当する。）。
【００２０】
このように構成することにより、ＡＦを行うことができる。そのため、カバーガラスからの反射光の光強度とスライドガラスからの反射光の光強度との変化率がより大きくなるので、カバーガラスかスライドガラスかの判別がより容易になる。
【００２１】
図１は、本発明にかかる標本スキャナ装置を適用した顕微鏡システムの構成例を示す。図１において、本発明にかかる顕微鏡システムの１例としての倒立顕微鏡システム１では、被検物である標本２がスライドガラス３ａに載置されてカバーガラス３ｂで覆われている。
【００２２】
さらに、標本２を載置したスライドガラス３aは、電動ステージ４に固定されている。電動ステージ４は、光軸に対して直交方向であるＸ−Ｙ方向に電動制御が可能であり、その制御はステージ制御部５によって行われる。
【００２３】
蛍光光源６は、標本２に対して蛍光照明を行うための光源である。蛍光光源６から出射された励起光はコレクタレンズ７で集光され、励起フィルタ８、ダイクロックミラー９、および対物レンズ１０ａを介して、電動ステージ４上に固定された標本２へ照射されることにより標本２を照明する。
【００２４】
励起光に照明されたことによって標本２が発する蛍光は、ダイクロックミラー９および吸収フィルタ１１を通過し、光路切換え部１２によって接眼レンズ１３またはＣＣＤカメラユニット１４へ導かれる。
【００２５】
そして、ＣＣＤカメラユニット１４によって撮像された標本２の画像は、ビデオキャプチャボード１５によりホストＰＣ１６に取得される。ホストＰＣ１６は、取得した画像を図示しない画像メモリ上に保存する。この画像メモリは通常複数の画像を保存することが可能となっている。
【００２６】
また、電動シャッタ１７は、蛍光光源６から照射される励起光を遮光するためのシャッタで、コントロール部１８によって励起光の遮光を制御できるものとなっている。
対物レンズ１０（１０ａ，１０ｂ）は、電動レボルバ１９に装着されている。電動レボルバ１９は、コントロール部１８からの信号により任意の対物レンズ１０ａまたは対物レンズ１０ｂを光路内に挿入する機能を有している。
【００２７】
また、この電動レボルバ１９はピエゾ素子２１を介して焦準用モータ２２よって駆動させる架台２３に固定させており、コントロール部１８からの制御されるモータ制御部２４によって光軸方向（Ｚ方向）に移動させることで、標本２と対物レンズ１０ａの距離を相対的に駆動することが可能になっている。
【００２８】
一方、ピエゾ素子２１は、電動レボルバ１９と架台２３との間に配置させており、コントロール部１８から制御されるピエゾ駆動部２５によって電気的にピエゾ素子２１の光軸方向の厚みを変えることで、連動レボルバ１９に装着された対物レンズ１０ａの位置を光軸方向に移動させる構造のもので、同じく標本２と対物レンズ１０ａとの距離を相対的に駆動することが可能になっている。ピエゾ素子２１は、焦準用モータ２２よりも駆動範囲は短くなっている反面、高速、高分解能という特徴を持っている素子である。
【００２９】
コントロール部１８はホストＰＣ１６に接続させており、倒立顕微鏡システム１の各種制御を行うものである。また、コントロール部１８には電動レボルバ１９の駆動をユーザが指示入力するためのジョグエンコーダ３８、パルスカウンタ３９、およびその他の各種指示を入力するための操作部４０が接続されている。
【００３０】
一方、合焦を行うための測定光源には可視外波長領域である赤外光半導体レーザー２６が対応している。赤外光半導体レーザー２６は、コントロール部１８に接続させたレーザー制御部２７によって制御されている。
【００３１】
半導体レーザー２６から出射されたレーザー光は、平行光を保つ為のコリメートレンズ２８を通り、光束径の半分を投光側ストッパ２９によりカットされる。その後、ＰＢＳ（偏光ビームスプリッタ：Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒ）３０でＰ偏光成分のみが反射され、標本２側に導かれる。
【００３２】
そして、集光レンズ群３１により一旦集光された光束は、色収差補正レンズ群３２を通過する。色収差補正レンズ群３２を通過した光は、λ／４板３３で４５°偏光され、ダイクロイックミラー３４に入射する。ここで、ダイクロイックミラー３４では、赤外域のみ反射される為、反射された光束は、対物レンズ１０ａによりスライドガラス３ａまたはカバーガラス３ｂの表面にスポット形状の像を形成する。
【００３３】
そして、スライドガラス３ａまたはカバーガラス３ｂにより反射された光束は、今度は逆に対物レンズ１０ａ、ダイクロイックミラー３４を介し、λ／４板３３にてさらに４５°偏光され、Ｓ偏光成分に切り換わる。
【００３４】
さらに、色収差補正レンズ群３２および集光レンズ群３１を戻り、ＰＢＳ３０へ入射される。すると、光束はＳ偏光成分になっているのでそのままＰＢＳ３０を透過し、集光レンズ群３５を通過した後に受光センサ３６に結像される。
【００３５】
受光センサ３６は、光軸を中心に設置された２分割（Ａ領域とＢ領域）のフォトダイオードとなっている。そして、標本２がピント位置にある場合は、図２（ｂ）に示す様に受光センサ３６に結像されたスポットが狭く強度の高い信号となっており、標本２がピント位置からＺ方向の上側（後ピン位置）にある場合は、図２（ｃ）に示す様にＢ領域の範囲に偏った信号強度分布となっており、標本２がピント位置からＺ方向の下側（前ピン位置）にある場合は、図２（ａ）に示す様にＡ領域の範囲に偏った信号強度分布となっており、それぞれセンサ信号に変換される。
【００３６】
そして、Ａ領域とＢ領域の範囲に分割、変換された検出信号は合焦判別部３７に出力される。合焦判別部３７は、その入力された検出信号に基づいて、それぞれの範囲における強度の総和を算出する。すなわち、図３（ａ）に示す様に、横軸を電動レボルバ１９のＺ方向、縦軸をそれぞれの受光センサ３６に入射する光強度とすると、ピント位置を挟んで左右対称なＡ範囲信号およびＢ範囲信号の２つのカーブが検出できる。
【００３７】
次に、このＡ範囲信号およびＢ範囲信号から、図３（ｂ）に示すようなＡ＋Ｂの算出、および図３（ｃ）に示すような（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）の算出を行う。特に図３（ｃ）のような特性はＳ字カーブと呼ばれ、その値は評価関数値（以下、Ｅｆ値と略す）と呼ばれる。
【００３８】
コントロール部１８は合焦判別部３７よりのＥｆ値の符号により合焦位置方向を判定する。例えば、図３（ｃ）中「１」の位置からＡＦ（オートフォーカス）を開始した場合には、コントロール部１８は、Ｅｆ値の符号が負のため電動レボルバ１９を上昇させる制御を行う。また、例えば、図３（ｃ）中「２」の位置からＡＦを開始した場合には、コントロール部１８は、Ｅｆ値の符号が正のため電動レボルバ１９を下降させる制御を行う。コントロール部１８はこのような制御を行って、最終的にＥｆ値が０となるように、モータ制御部２４にて対物レンズ１０ａとスライドガラス３の表面の距離を光軸方向に相対的に駆動させて合焦動作を行う。なお、スライドガラス３のように表面と背面２つの反射面をもつ場合のものは、２つの座標位置関係から自動的にスライドガラス３の表面に合焦を合わせる機能も有している。
【００３９】
このように、レーザー光が点灯制御され、観察試料に投影したレーザー光束の反射光を検出することで、アクティブ型のＡＦ光学系が実現される。
図４は、コントロール部１８の内部構成の一例を示す。ＲＯＭ（リードオンリーメモリ）１８ｂには、システムを制御するためのプログラムが格納されている。ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）１８ｃは、制御に必要なデータが格納され揮発性メモリ等である。
【００４０】
ＣＰＵ（中央演算装置）１８ａは、ＲＯＭ１８ｂに記憶されている予め設定されたプログラムを読み出して各種制御を実行する。入出力（Ｉ／Ｏ）ポート１８ｄは、顕微鏡１の各種駆動部や、各種制御部、判定部等とデータのやり取りを行うための入出力インターフェースである。また、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）１８ｅは、操作部４０やＰＣ等の
外部の機器と通信可能にするための通信インターフェースである。
【００４１】
図５は、本発明におけるスライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出する概要を示すフローである。図６は、電動ステージ４上に載置したスライドガラス３ａを示す。以下では、図６を参照しながら、図５のフローを説明する。
【００４２】
まず、スライドガラス３ａに標本２を載置し、その標本２の上をカバーガラス３ｂで覆って、顕微鏡観察用のスライドガラス３ａを作成する。そして、図６（ａ）に示すように、この作成したスライドガラス３ａを電動ステージ４に置いて、クレンメル４ａで押さえて、スライドガラス３ａを電動ステージ４に固定する（ステップ１。以下、ステップを「Ｓ」と称する）。
【００４３】
次に、電動ステージ４を１次元方向または２次元方向に移動させることにより、スライドガラス３ａの所定の位置から一定方向に赤外光半導体レーザー２６をスキャンする（Ｓ２）。例えば、図６（ｂ）に示すように、電動ステージ４のＺ位置（例えば、光強度の大きさが最も大きくなる位置（ＡＦをかけた位置）など）及びＹ位置を所定の位置で固定した状態で、スライドガラス３ａのＸ方向に対して、赤外光半導体レーザー２６をスキャンする。スキャン時のアクティブＡＦの光強度値を、その光強度値が検出されたＸ座標と共にＲＡＭ１８ｃに保持する。なお、対物レンズの倍率は固定しておく。
【００４４】
このとき、後述するように、カバーガラス３ｂの位置を検出する場合に、最初にスキャンした位置がスライドガラスかカバーガラスかを識別するために、予めスライドガラスの光強度を基準値Ｐstdとして取得しておく。取得方法としては、例えば、スライドガラス上の規定位置をスキャンしてもよいし、ユーザが任意にスライドガラス上の所定の位置を指定してもよい。
【００４５】
次に、Ｓ２で取得した光強度値のうち、所定の閾値より大きい光強度値のデータを抽出する（Ｓ３）。これにより、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を認識することができる。なぜなら、図６（ｂ）に示すように、カバーガラス３ｂの無い部分（光強度値Ｐ１）とカバーガラス３ｂのある部分（光強度値Ｐ２）とでは屈折率の相違により、それぞれで反射された反射光の光強度値が異なるからである。これについて、図７を用いて詳述する。
【００４６】
図７は、本発明の原理を説明するための図である。図７（ａ）は、スライドガラス３ａが載置された電動ステージ４をＸ方向に移動させることにより、赤外光半導体レーザー２６から照射されたレーザー光が対物レンズ１０からスライドガラス３ａに照射されて、スライドガラス３ａのＸ方向にスキャンしている様子を示す。角度θは、スライドガラスの傾斜角度を示す。角度θは任意であり、０°（傾斜していない）であってもよく、傾斜していてもよい。
【００４７】
図７（ｂ）は、図７（ａ）でスキャンされた走査線上のサンプリング点にある、ａ点、ｂ点、ｃ点、ｄ点、ｅ点、ｆ点で検出された光強度値を示す。図７（ｂ）中のａ１〜ｆ１はそれぞれ、図７（ａ）のａ点〜ｆ点におけるＡ＋Ｂの算出結果を示す（Ａ＋Ｂについては、図３（ｂ）で説明した。）。ａ２〜ｆ２はそれぞれ、ａ点〜ｃ点における（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）の算出結果を示す（（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）については、図３（ｃ）で説明した。）。
【００４８】
図７では、スライドガラス３ａは電動ステージ４の載置面に対して角度θ傾斜している場合を例に説明する。この場合、角度θ傾斜しているスライドガラス３ａの表面に対応するＺ位置をプロットした直線を破線Ｚ１で表し、角度θ傾斜しているカバーガラス３ｂの表面に対応するＺ位置をプロットした直線を破線Ｚ２で表す。Ｗは、スキャン方向におけるカバーガラス３ｂの幅を示す。
【００４９】
ａ１、ｂ１では、所定のＺ位置にピークＰ１が存在する。ａ２、ｂ２においても、このピーク値Ｐ１のあるＺ位置に対応する評価関数値Ｅｆをα、βとして確認できる。
ｃ１、ｄ１では、ａ１及びｂ１で着目していたＺ位置にあったピークＰ１がピークＰ２に減少し、この着目していたＺ位置とは異なるＺ位置に新たにピークが生じている。Ｃ２では、その減少後のピーク値Ｐ２及び新たに生じたピーク値のあるＺ位置に対応する評価関数値Ｅｆをそれぞれ、γ及ぶδとして確認できる。なお、ｄ１の評価関数値Ｅｆは、ｃ２とほぼ同様なので省略している。
【００５０】
ｅ１、ｆ１では、ｃ１、ｄ１で生じたピークが消滅し、ａ１及びｂ１で着目していたＺ位置にあったピークＰ２が増加して再びＰ１に回復している。なお、ｅ１、ｆ１の評価関数値Ｅｆは、ａ２、ｂ２とほぼ同様なので省略している。
【００５１】
このように、カバーガラス３ｂがセットされたスライドガラス３ａに対してレーザー光を一定方向にスキャンして、スライドガラス３ａ部分及びカバーガラス３ｂ部分に関するＡ＋Ｂ、及び／又は（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）を算出することにより、光強度の差異及び／または変化点を検出することができる。よって、この検出された光強度の差異及び／または変化点に対応するスライドガラス３ａ上の位置を検出することにより、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出することができる。
【００５２】
このようにスライドガラス３ａとカバーガラス３ｂとの屈折率の相違により合焦位置が変わることを利用して、スライドガラス３ａ上のスライドガラス３ａの位置を検出することができる。それでは、本発明の実施形態の詳細を説明する。
【００５３】
＜第１の実施形態＞
本実施形態では、スライドガラスに対してレーザー光を相対的に１次元方向に走査する場合について説明する。
【００５４】
図８は、本実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。同図において、スライドガラス３ａ上には、ｎ個のカバーガラス３（３ｂ−１，３ｂ−２，・・・３ｂ−ｎ）がセットされている。スライドガラス３ａの短手方向（Ｙ方向）の幅の任意の位置のＹ座標をＹcで表す。
【００５５】
スライドガラス３ａのＹ座標＝Ｙc上にある各カバーガラス３ｂの端部は、３ｂ−１についてはＸＳ１（Ｘ11，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘ12，Ｙc）で表され、３ｂ−２についてはＸＳ１（Ｘ21，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘ22，Ｙc）で表され、・・・、３ｂ−ｎについてはＸＳ１（Ｘn1，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘn2，Ｙc）で表される。
【００５６】
図９は、本実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。まず、ユーザは、所望の標本２をスライドガラス３ａに載置して、その標本２をカバーガラス３ｂで覆う。これを繰り返して、図８のように、スライドガラス３ａ上に複数のカバーガラス３ｂ（３ｂ−１，３ｂ−２，・・・３ｂ−ｎ）を載置する。
【００５７】
それから、ユーザは、そのスライドガラス３ａを電動ステージ４に置いてクレンメル４ａで押さえる（Ｓ１１）。なお、本実施形態では電動ステージ４に対してスライドガラス３ａは傾斜角度θ＝０°であるとする。
【００５８】
次に、ユーザが操作部４０にある「カバーガラス位置認識」ボタン（不図示）を押下すると、カバーガラス位置認識指示信号が発信する。コントロール部１８は、そのカバーガラス位置認識指示信号を受信すると、スライドガラス３ａ上のＹc位置についてＸ方向へ向かってレーザー光をスキャンさせる（Ｓ１２）。コントロール部１８は、スライドガラス３ａ上の所定のＹ位置（Ｙc位置）を予め内部に保持している。なお、本実施形態では、スキャン時は電動ステージのＺ位置及びＹ位置は固定である。
【００５９】
具体的には、ＣＰＵ１８ａは、ＲＯＭ１８ｂに格納されているＹ位置（Ｙc）を読み出して、ステージ制御部５に送信する。ステージ制御部５は、対物レンズ１０の先端（光軸）がそのＹｃの垂線上に位置するように電動ステージ４を移動させる。なお、対物レンズの倍率は固定しておく。
【００６０】
このとき、Ｙcに対応するＸ座標は任意であるが、通常はスライドガラス３ａの端部付近となるように、予め設定されている（例えば、ＲＯＭ１８ｂにＹcに対応するＸ座標が格納されていてもよい）。本実施形態では、図８に示すように、スライドガラス上の座標（Ｘ0，Ｙc）をスキャンの開始位置Ｑとする。
【００６１】
ステージ制御部５の制御により、電動ステージ４上のスライドガラス３ａのスキャン開始位置Ｑが対物レンズ１０の先端から照射されるレーザー光の光軸上に到達する。そうすると、コントロール部１８はレーザー駆動部２７を駆動させて赤外光半導体レーザー２６を照射させると共に、コントロール部１８はステージ駆動部５を駆動させて電動ステージ４をＸ方向に移動させる。
【００６２】
コントロール部１８は、Ｓ１２におけるＸ方向へのスキャンに伴い、各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＸ（Ｘ）をＲＡＭ１８ｃに保持する（Ｓ１３）。
【００６３】
具体的には、コントロール部１８は、受光センサ３６により検出した各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のレーザー反射光強度を合焦判定部３７を介して取り込み、上述したようにＡ＋Ｂを算出して、光強度値のピーク値ＰＸ（Ｘ）を取得する。
【００６４】
なお、サンプリング頻度は可変であってよく、例えば、スライドガラス３ａ上のＸ方向の全座標についてピーク値ＰＸ（ｘ）を保持してもよいし、座標を飛ばしてピーク値ＰＸ（Ｘ）を保持してもよい。
【００６５】
なお、本実施形態では、カバーガラス３ｂからの反射光の光強度とスライドガラス３ａからの反射光の光強度との相違（変化率）を検出するので、必ずしもＡＦを行う必要はない。しかしながら、ＡＦを行うことにより、カバーガラス３ｂからの反射光の光強度とスライドガラス３ａからの反射光の光強度との変化率がより大きくなるので、カバーガラス３ｂかスライドガラス３ａかの判別がより容易になる。
【００６６】
次に、コントロール部１８は、Ｓ１３で取得した各ＰＸ（Ｘ）値を比較し、カバーガラス３ｂの存在する位置座標（カバーガラス始点位置をＸＳ１で表し、カバーガラス終点位置をＸＳ２で表す。）を認識する（Ｓ１４）。このＳ１４の処理については図１１で詳述する。
【００６７】
図１０は、本実施形態における、スキャン開始位置Ｑにカバーガラスが無い場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。図１０は、図９のＳ１３で保持された各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＸ（Ｘ）を概念的なグラフにしたものである。
【００６８】
図１０（ａ）は、カバーガラスが載置されたスライドガラスの上面図である。
図１０（ｂ）は、カバーガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。カバーガラスにフォーカスを合わせているので、カバーガラスのあるＸＳ１−ＸＳ２区間は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００６９】
図１０（ｃ）は、スライドガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。スライドガラスにフォーカスを合わせているので、スライドガラス表面が露出しているＸＳ１−ＸＳ２区間及びＸＳ２以降の区間（すなわち、カバーガラスで覆われていない区間）は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００７０】
Ｐstdは、予め取得しているスライドガラス上の規定位置の光強度を示す。「ＷＳ」はスキャン方向時の、ノイズ成分を除去するための閾値であり、例えば、カバーガラスとして利用される最小の幅が設定されている。また、「ＷＰt」はＡＦ山位置の閾値であり、ノイズ成分を除去するための閾値である。また、「Ｃ」は、カバーガラス幅を計測するカウンタである。また、Ｐ（１）＋ＷＰtの値をＷＰで表すとする。
【００７１】
スキャン開始位置ＱからＸＳ1までは、光強度値Ｐstd（Ｐstdには、Ｐstd＋σ（σ：誤差範囲）も含む。以下、同様である。）である。ＸＳ１からＸＳ２までは、図１０（ｂ）の場合には光強度値Ｐ（Ｎ）＜Ｐstd−ＷＰt、図１０（ｃ）の場合にはＰ（Ｎ）＞Ｐstd＋ＷＰtである（Ｎは、後述するように、スライドガラス上の位置を示す変数である。）。ＸＳ２以降は、再び光強度値Ｐstdである。
【００７２】
図１１は、本実施形態におけるスキャン結果に基づいて、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置及び個数を認識するフロー（予めスライドガラスにフォーカスを合わせている場合）を示す。本フローは、コントロール部１８により実行される図９のＳ１４の詳細なフローである。図１０で説明した変数を用いて本フローについて説明する。
【００７３】
まず、変数の初期化が行われる（Ｓ２１）。例えば、スライドガラス上の座標を計測するためのカウンタ変数（スライドガラス用座標カウンタ）ＮをＮ＝１とし、カバーガラスの幅を計測するためのカウンタ変数（カバーガラス幅カウンタ）ＣをＣ＝１とし、認識されたカバーガラスの数（カバーガラス認識数）ｎをｎ＝０とする。
【００７４】
次に、予め取得しているスライドガラス３ａ上の規定位置の光強度ＰstdがＮ＝１での光強度Ｐ（Ｎ＝１）以上か否かを判断する（Ｓ２２）。スキャン開始位置Ｑで既にカバーガラスが存在している場合には、スライドガラス３ａ表面にフォーカスがあっていないため光強度Ｐ（１）は低下するので、Ｐ（１）がＰstd以上となることはない。したがって、スキャン開始位置Ｑで既にカバーガラス３ｂが存在している場合には、「Ｎｏ」へ進む。一方、スキャン開始位置Ｑでカバーガラスが存在なく、スライドガラス３ａ表面が露出している場合には、Ｐ（１）は低下しないので、「Ｙｅｓ」へ進む。
【００７５】
Ｎ＝１でスライドガラス３ａが露出している場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」へ進んだ場合）、光強度値ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）であるか否かが判定される（Ｓ２３）。ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の場合とは、スライドガラス３ａからカバーガラス３ｂ上にスキャン位置が移動した場合である。ＷＰ≦Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の場合とは、スライドガラス表面をスキャンしている場合である。但し、Ｓ２３の処理を行うのが最初である場合、すわなちＮ＝１のときはＳ２３で「Ｎｏ」へ進む。この例では、Ｎ＝１であるからＳ２３で「Ｎｏ」へ進む。
【００７６】
次に、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされる（Ｓ３５）。Ｓ３５の処理後、スライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅より小さいか否かが判定される（Ｓ３３）。本実施形態では、スライドガラス３ａの幅＝７５０に設定しているがこれに限定されない。
【００７７】
Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）が成立するまで、Ｓ２３→Ｓ３５→Ｓ３３→Ｓ３４→Ｓ２３→・・・が繰り返される。
【００７８】
ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）が成立（カバーガラス３ｂがある部分）すると（Ｓ２３で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」であるか否かが判定される（Ｓ２４）。当該カバーガラス３ｂについての最初の処理ならばＣ＝１であるのでＳ２５へ進むが、２回目以降の処理ならばＣ＞１なのでＳ２８に進む。
【００７９】
カバーガラス幅カウンタＣが「１」の場合（Ｓ２４で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス認識数ｎが「０」であるか否かが判定される（Ｓ２５）。当該スライドガラス３ａにおいて、当該カバーガラス３ｂが最初に認識されたものであるならばｎ＝０であるのでＳ２６の処理へ進むが、そうでないならばｎ＞０なのでＳ２７の処理へ進む。ｎ＝０の場合（Ｓ２５で「Ｙｅｓ」へ進む）、ｎ＝１とし（Ｓ２６）、Ｓ２７の処理へ進む。
【００８０】
次に、スライドガラス用座標カウンタＮをカバーガラス始点位置ＸＳ１（ｎ）に代入する（Ｓ２７）。
次に、カバーガラス幅カウンタＣが閾値ＷＳより大きいか否かが判定される（Ｓ２８）。カバーガラス幅カウンタＣ≦閾値ＷＳの場合（Ｓ２８で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣと閾値ＷＳが等しいか否かが判定される（Ｓ２９）。
【００８１】
カバーガラス幅カウンタＣ＜閾値ＷＳの場合（Ｓ２９で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣをインクリメントし（Ｓ３２）、Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。その後、カバーガラス幅カウンタＣ＝閾値ＷＳ（Ｓ２９）が成立するまで、Ｓ２３〜Ｓ３４→・・・が繰り返される。
【００８２】
カバーガラス幅カウンタＣ＝閾値ＷＳが成立すると（Ｓ２９で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス認識数ｎをインクリメントし（Ｓ３０）、スライドガラス用座標カウンタＮをカバーガラス終点位置ＸＳ２（ｎ−１）に代入する（Ｓ３１）。
【００８３】
その後、カバーガラス幅カウンタＣをインクリメントし（Ｓ３２）、Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。
Ｓ２３の処理において、ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の間（すなわち、当該カバーガラスについて処理されている間）、Ｃはインクリメントされ続けて（Ｓ３２）、カバーガラス終点位置ＸＳ２（ｎ−１）は更新され続ける（Ｓ３１）。
【００８４】
それから、カバーガラスが無くなると、ＷＰ≧Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）となるので（Ｓ２３で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされ（Ｓ３５）、Ｎ＜「７５０」の間Ｓ２３〜Ｓ３５が繰り返される。
【００８５】
Ｎ＝７５０なると、すなわちスライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅と等しくなると（Ｓ３３で「Ｎｏ」へ進む）、本フローは終了する。
【００８６】
このようにして、スライドガラス３ａ上に存在するカバーガラス３ｂの数（カバーガラス認識数ｎ）、及びその認識したそれぞれのカバーガラスの位置（ＸＳ１，ＸＳ２）を検出することができる。
【００８７】
次に、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスである場合のカバーガラスの検出について説明する。
図１２は、本実施形態における、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスがある場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。図１２は、図１０のカバーガラスの開始位置ＸＳ１をスキャン開始位置Ｑに重ねた場合に相当する。
【００８８】
図１２（ａ）は、カバーガラスがスキャン開始位置に載置されたスライドガラスの上面図である。
図１２（ｂ）は、カバーガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。カバーガラスにフォーカスを合わせているので、カバーガラスのあるＱ（＝ＸＳ１）−ＸＳ２区間は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００８９】
図１２（ｃ）は、スライドガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。スライドガラスにフォーカスを合わせているので、スライドガラス表面が露出しているＱ（＝ＸＳ１）−ＸＳ２区間及びＸＳ２以降の区間（すなわち、カバーガラスで覆われていない区間）は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００９０】
スキャン開始位置Ｑ（＝ＸＳ１）からＸＳ２までは、カバーガラス上をスキャンしているので、図１２（ｂ）の場合には光強度値Ｐ（Ｎ）＜Ｐstd−ＷＰt、図１２（ｃ）の場合にはＰ（Ｎ）＞Ｐstd＋ＷＰtである（Ｎは、後述するように、スライドガラス上の位置を示す変数である。）。ＸＳ２以降は、光強度値Ｐstdである。
【００９１】
図１１のフローにおいて、スキャン開始位置に既にカバーガラス３ｂが存在すると、Ｓ２２で「Ｎｏ」へ進む。それ以降は、上述したように、当該カバーガラスがなくなるまでＳ２３〜Ｓ３４を行い、当該カバーガラスが無くなると、ＷＰ≧Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）となるので（Ｓ２３で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされ（Ｓ３５）、Ｎ＜「７５０」の間Ｓ２３〜Ｓ３５が繰り返される。
【００９２】
Ｎ＝７５０なると、すなわちスライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅と等しくなると（Ｓ３３で「Ｎｏ」へ進む）、本フローは終了する。
【００９３】
このようにして、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスである場合でも、スライドガラス３ａ上に存在するカバーガラス３ｂの数（カバーガラス認識数ｎ）、及びその認識したそれぞれのカバーガラスの位置（ＸＳ１，ＸＳ２）を検出することができる。
【００９４】
本実施形態によれば、スライドガラス上の標本（カバーガラス）をスクリーニングする際に、スライドガラス全体ではなく所定の方向に１ラインまたは複数ラインのみスキャンするので、標本だけを短時間で効率よくスクリーニングすることができる。そのスクリーニング作業により、短時間で標本のあるスライドガラス上のカバーガラスの位置を検出することができる。また、カバーガラスの位置を検出することにより、スライドガラス上の標本の位置もおおよそ分かるため、効率よい顕微鏡観察を行うことができる。
【００９５】
また、カバーガラスの検出に際し、撮像処理を行わないので、標本に照明光を照射する必要がなく、したがって標本に対する光毒性がない。また、標本の位置を認識する際に画像処理を用いる必要がないので、透明な標本についても適用することができる。
【００９６】
なお、本実施形態では、図１１を用いて、予めスライドガラスにフォーカスを合わせているケースについて説明したが、本実施形態は予めカバーガラスにフォーカスを合わせている場合についても同様に適用できる。
【００９７】
＜第２の実施形態＞
本実施形態では、スライドガラスに対してレーザー光を相対的に２次元方向に走査する場合について説明する。本実施形態では、第１の実施形態の処理を行うことによりＸ方向についてのカバーガラス位置を認識した後、その認識した各カバーガラスについてＹ方向へのスキャンを実行し、Ｙ方向の位置を認識する。
【００９８】
図１３は、本実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。図８で説明したように、第１の実施形態により各カバーガラスのＸ座標（カバーガラス始点位置ＸＳ１，カバーガラス終点位置ＸＳ２）が得られるので、ＸＳ１とＸＳ２の中心座標ＸＳＣを算出して、その中心座標ＸＳＣからＹ方向へレーザーのスキャンを行う。
【００９９】
図１４は、本実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。第１の実施形態と同様にＳ１１〜Ｓ１４を実行して、Ｘ方向についてのカバーガラス位置を認識する。
【０１００】
次に、コントロール部１８は、Ｓ１４で認識された各カバーガラスについて、カバーガラスのある座標位置ＸＳ１−ＸＳ２の中心座標ＸＳＣを算出し、その中心座標ＸＳＣからＹ方向へスキャンを実行する（Ｓ４１）。Ｓ４１は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１２と同様である。
【０１０１】
次に、コントロール部１８は、Ｓ４１におけるＹ方向へのスキャンに伴い、各Ｙ座標：Ｙ（Ｙ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＹ（Ｙ）をＲＡＭ１８ｃに保持する（Ｓ４２）。Ｓ４２は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１３と同様である。
【０１０２】
次に、コントロール部１８は、Ｓ４２で取得した各ＰＹ（Ｙ）値を比較し、Ｙ方向におけるカバーガラス３ｂがある位置座標（カバーガラス始点位置をＹＳ１で表し、カバーガラス終点位置をＹＳ２で表す。）を認識する（Ｓ４３）。Ｓ４３は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１４（及び図１１）と同様である。
【０１０３】
図１５は、第１及び第２の実施形態の変形例の一例を示す。第１の実施形態では、Ｚ位置及びＹ位置を固定してＸ方向に１回スキャンしたが、図１５（ａ）に示すように、Ｙ位置を変えてＸ方向に複数回スキャンしてもよい。さらに、図１５（ｂ）に示すように、各カバーガラスの位置座標（ＸＳ１−ＸＳ２）間を複数回Ｙ方向にスキャンしてもよい。
【０１０４】
また、カバーガラスの形状は正方形に限定されず、長方形や多角形であってもよく、図１５（ｃ）に示すように円形状であってもよいし、楕円状でもよい。
また、スライドガラス上のカバーガラスは１次元状に配列されたものに限定されず、図１５（ｄ）に示すように２次元状に配列されていてもよいし、放射状や同心円状に配列されていてもよい。
【０１０５】
このように、スライドガラス上の標本（カバーガラス）をスクリーニングする際に、スライドガラス全体ではなく所定の方向（１次元方向または２次元方向）に１ラインまたは複数ラインのみスキャンするので、標本だけを短時間で自動的に効率よくスクリーニングすることができる。
【０１０６】
本実施形態によれば、第１の実施形態の効果に加えてさらに、２次元方向へのスキャンを行うことができるので、スライドガラス上にカバーガラスが２次元上に配列されていても、スライドガラス上の標本位置（カバーガラスの位置）を自動検出し、スクリーニング作業の省力化を図ることができる。
【０１０７】
なお、上記において、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上述した各実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良・変更が可能である。
【０１０８】
また、本発明の実施形態において、標本スキャナ装置は、顕微鏡と一体になったものを例に説明したが、これに限定されない。例えば本実施形態の標本スキャナ装置は、顕微鏡と別体、例えば、走査制御手段と、光強度検出手段と、標本保持部材認識手段とを構成要素とするものであってもよい。
【０１０９】
以上、本発明によれば、透明標本を用いる場合でも、スクリーニング時に標本位置（カバーガラス位置）を特定し、観察することができる。また、蛍光標本に対し褪色させることなく標本位置（カバーガラス位置）を検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明にかかる標本スキャナ装置を適用した顕微鏡システムの構成例を示す。
【図２】受光センサとピント位置との関係を説明するための図である。
【図３】デフォーカスと入射光強度との関係を説明するための図である。
【図４】コントロール部１８の内部構成の一例を示す。
【図５】本発明におけるスライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出する概要を示すフローである。
【図６】電動ステージ４上に載置したスライドガラス３ａを示す。
【図７】本発明の原理を説明するための図である。
【図８】第１の実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。
【図９】第１の実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。
【図１０】第１の実施形態における、スキャン開始位置Ｑにカバーガラスが無い場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。
【図１１】第１の実施形態におけるスキャン結果に基づいて、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置及び個数を認識するフローを示す。
【図１２】本実施形態における、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスがある場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。
【図１３】第２の実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。
【図１４】第２の実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。
【図１５】第１及び第２の実施形態の変形例の一例を示す。
【符号の説明】
【０１１１】
１ 倒立顕微鏡システム
２ 標本
３ａ スライドガラス
３ｂ カバーガラス
４ 電動ステージ
５ ステージ制御部
６ 蛍光光源
７ コレクタレンズ
８ 励起フィルタ
９ ダイクロックミラー
１０（１０ａ，１０ｂ） 対物レンズ
１１ 吸収フィルタ
１２ 光路切換え部
１３ 接眼レンズ
１４ ＣＣＤカメラユニット
１５ ビデオキャプチャボード
１６ ホストＰＣ
１７ 電動シャッタ
１８ コントロール部
１９ 電動レボルバ
２１ ピエゾ素子
２２ 準焦部モータ
２３ 架台
２４ モータ制御部
２５ ピエゾ制御部
２６ 赤外光半導体レーザー
２７ レーザー制御部
２８ コリメートレンズ
２９ 投光側ストッパ
３０ ＰＢＳ
３１ 集光レンズ群
３２ 色収差補正レンズ群
３３ λ／４板
３４ ダイクロイックミラー
３５ 集光レンズ群
３６ 受光センサ
３７ 合焦判別部
３８ ジョグエンコーダ
３９ パルスカウンタ
４０ 操作部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ上に載置されたスライドガラス上の所定の位置を検出することができる標本スキャナ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、スライドガラスの全領域を低倍率対物レンズで撮影した各画像情報を高倍率対物レンズの実視野サイズに分割して、その分割領域の標本像の有無を検出し、標本像が存在すると判明した分割領域のみを高倍率対物レンズで撮影することにより、広視野かつ高精細の顕微鏡画像を効率良く撮影し、且つ画像記録容量を削減した顕微鏡画像撮影装置が開示されている。
【０００３】
特許文献２では、特に病理診断学の教材に使用可能な必要最小限の領域かつ高精細な顕微鏡ディジタル画像撮影可能な顕微鏡画像撮影装置が開示されている。特許文献２では、現在観察している観察範囲を小区画に分割して、各小区画を現在の観察倍率よりも大きな観察倍率でそれぞれ入力することにより、高解像な顕微鏡画像が形成されている。
【特許文献１】特開２００４−１０１８７１号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１や特許文献２では、一度低倍でスライドガラス全面を撮像し、その撮像した画像に対してスクリーニング位置を判別・指定している。例えば、特許文献では撮像画像の輝度値から標本が存在するかしないかの自動判定をしている。また、特許文献２では、ユーザが画像から目的とする標本を指定している。
【０００５】
そのため、特許文献１及び特許文献２では、透明標本のスクリーニング位置の指定が難しく、スライドガラス全面を一度撮像するために時間がかかる。その結果、特に蛍光標本では光毒性により標本が損傷する。
【０００６】
上記の課題に鑑み、本発明では、透明標本及び褪色が危惧される蛍光標本に対して、褪色することなく、標本位置（カバーガラス）を自動判別する方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
前記標本スキャナ装置において、前記走査制御手段は、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させることを特徴とする。
前記標本スキャナ装置において、前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させることを特徴とする。
【０００９】
前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識することを特徴とする。
【００１０】
前記標本スキャナ装置は、さらに、前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するＺ座標位置検出手段を備えることを特徴とする。
【００１１】
前記標本スキャナ装置において、前記Ｚ座標位置検出手段は、アクティブオートフォーカス機構であることを特徴とする。
前記標本スキャナ装置は、顕微鏡に搭載されることを特徴とする。
【００１２】
本発明にかかる、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置による標本位置検出方法は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させ、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出し、前記走査された前記スライドガラス上の位置と、該スライドガラス上の位置に対応する前記検出された反射光の光強度と、に基づいて、該スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明を用いることにより、スクリーニング時に透明標本でも標本位置（カバーガラス位置）を観察することができる。また、蛍光標本に対し褪色させることなく標本位置（カバーガラス位置）を検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明にかかる標本スキャナ装置は、スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられるものである。
【００１５】
本発明にかかる標本スキャナ装置は、走査制御手段、光強度検出手段、及び標本保持部材認識手段を備える。
走査制御手段は、前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる。前記走査制御手段は、例えば、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させるようにしてもよい（例えば、本実施形態でいえば、ステージ制御部５に相当する。）。
【００１６】
光強度検出手段は、前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する（例えば、本実施形態でいえば、光センサ３６に相当する。）。
標本保持部材認識手段は、前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する（例えば、本実施形態でいえば、コントロール部１８に相当する）。
【００１７】
このように構成することにより、スライドガラス上のカバーガラスの位置を検出することができる。
また、前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させることができる。
【００１８】
このように構成することにより、スライドガラス上に任意に配列されたカバーガラスの位置を検出することができる。
また、前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識することができる。
【００１９】
このように構成することにより、ノイズ成分を除去することができるので、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラスの判別がより容易になる。
前記標本スキャナ装置は、さらに、Ｚ座標位置検出手段を備えてもよい。Ｚ座標位置検出手段は、前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するものである。前記Ｚ座標位置検出手段は、例えばアクティブオートフォーカス機構であってよい（例えば、本実施形態でいえば、アクティブオートフォーカス機能を実現させる赤外光半導体レーザー２６、レーザー制御部２７、集光レンズ群３５受光センサ３６等に相当する。）。
【００２０】
このように構成することにより、ＡＦを行うことができる。そのため、カバーガラスからの反射光の光強度とスライドガラスからの反射光の光強度との変化率がより大きくなるので、カバーガラスかスライドガラスかの判別がより容易になる。
【００２１】
図１は、本発明にかかる標本スキャナ装置を適用した顕微鏡システムの構成例を示す。図１において、本発明にかかる顕微鏡システムの１例としての倒立顕微鏡システム１では、被検物である標本２がスライドガラス３ａに載置されてカバーガラス３ｂで覆われている。
【００２２】
さらに、標本２を載置したスライドガラス３aは、電動ステージ４に固定されている。電動ステージ４は、光軸に対して直交方向であるＸ−Ｙ方向に電動制御が可能であり、その制御はステージ制御部５によって行われる。
【００２３】
蛍光光源６は、標本２に対して蛍光照明を行うための光源である。蛍光光源６から出射された励起光はコレクタレンズ７で集光され、励起フィルタ８、ダイクロックミラー９、および対物レンズ１０ａを介して、電動ステージ４上に固定された標本２へ照射されることにより標本２を照明する。
【００２４】
励起光に照明されたことによって標本２が発する蛍光は、ダイクロックミラー９および吸収フィルタ１１を通過し、光路切換え部１２によって接眼レンズ１３またはＣＣＤカメラユニット１４へ導かれる。
【００２５】
そして、ＣＣＤカメラユニット１４によって撮像された標本２の画像は、ビデオキャプチャボード１５によりホストＰＣ１６に取得される。ホストＰＣ１６は、取得した画像を図示しない画像メモリ上に保存する。この画像メモリは通常複数の画像を保存することが可能となっている。
【００２６】
また、電動シャッタ１７は、蛍光光源６から照射される励起光を遮光するためのシャッタで、コントロール部１８によって励起光の遮光を制御できるものとなっている。
対物レンズ１０（１０ａ，１０ｂ）は、電動レボルバ１９に装着されている。電動レボルバ１９は、コントロール部１８からの信号により任意の対物レンズ１０ａまたは対物レンズ１０ｂを光路内に挿入する機能を有している。
【００２７】
また、この電動レボルバ１９はピエゾ素子２１を介して焦準用モータ２２よって駆動させる架台２３に固定させており、コントロール部１８からの制御されるモータ制御部２４によって光軸方向（Ｚ方向）に移動させることで、標本２と対物レンズ１０ａの距離を相対的に駆動することが可能になっている。
【００２８】
一方、ピエゾ素子２１は、電動レボルバ１９と架台２３との間に配置させており、コントロール部１８から制御されるピエゾ駆動部２５によって電気的にピエゾ素子２１の光軸方向の厚みを変えることで、連動レボルバ１９に装着された対物レンズ１０ａの位置を光軸方向に移動させる構造のもので、同じく標本２と対物レンズ１０ａとの距離を相対的に駆動することが可能になっている。ピエゾ素子２１は、焦準用モータ２２よりも駆動範囲は短くなっている反面、高速、高分解能という特徴を持っている素子である。
【００２９】
コントロール部１８はホストＰＣ１６に接続させており、倒立顕微鏡システム１の各種制御を行うものである。また、コントロール部１８には電動レボルバ１９の駆動をユーザが指示入力するためのジョグエンコーダ３８、パルスカウンタ３９、およびその他の各種指示を入力するための操作部４０が接続されている。
【００３０】
一方、合焦を行うための測定光源には可視外波長領域である赤外光半導体レーザー２６が対応している。赤外光半導体レーザー２６は、コントロール部１８に接続させたレーザー制御部２７によって制御されている。
【００３１】
半導体レーザー２６から出射されたレーザー光は、平行光を保つ為のコリメートレンズ２８を通り、光束径の半分を投光側ストッパ２９によりカットされる。その後、ＰＢＳ（偏光ビームスプリッタ：Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒ）３０でＰ偏光成分のみが反射され、標本２側に導かれる。
【００３２】
そして、集光レンズ群３１により一旦集光された光束は、色収差補正レンズ群３２を通過する。色収差補正レンズ群３２を通過した光は、λ／４板３３で４５°偏光され、ダイクロイックミラー３４に入射する。ここで、ダイクロイックミラー３４では、赤外域のみ反射される為、反射された光束は、対物レンズ１０ａによりスライドガラス３ａまたはカバーガラス３ｂの表面にスポット形状の像を形成する。
【００３３】
そして、スライドガラス３ａまたはカバーガラス３ｂにより反射された光束は、今度は逆に対物レンズ１０ａ、ダイクロイックミラー３４を介し、λ／４板３３にてさらに４５°偏光され、Ｓ偏光成分に切り換わる。
【００３４】
さらに、色収差補正レンズ群３２および集光レンズ群３１を戻り、ＰＢＳ３０へ入射される。すると、光束はＳ偏光成分になっているのでそのままＰＢＳ３０を透過し、集光レンズ群３５を通過した後に受光センサ３６に結像される。
【００３５】
受光センサ３６は、光軸を中心に設置された２分割（Ａ領域とＢ領域）のフォトダイオードとなっている。そして、標本２がピント位置にある場合は、図２（ｂ）に示す様に受光センサ３６に結像されたスポットが狭く強度の高い信号となっており、標本２がピント位置からＺ方向の上側（後ピン位置）にある場合は、図２（ｃ）に示す様にＢ領域の範囲に偏った信号強度分布となっており、標本２がピント位置からＺ方向の下側（前ピン位置）にある場合は、図２（ａ）に示す様にＡ領域の範囲に偏った信号強度分布となっており、それぞれセンサ信号に変換される。
【００３６】
そして、Ａ領域とＢ領域の範囲に分割、変換された検出信号は合焦判別部３７に出力される。合焦判別部３７は、その入力された検出信号に基づいて、それぞれの範囲における強度の総和を算出する。すなわち、図３（ａ）に示す様に、横軸を電動レボルバ１９のＺ方向、縦軸をそれぞれの受光センサ３６に入射する光強度とすると、ピント位置を挟んで左右対称なＡ範囲信号およびＢ範囲信号の２つのカーブが検出できる。
【００３７】
次に、このＡ範囲信号およびＢ範囲信号から、図３（ｂ）に示すようなＡ＋Ｂの算出、および図３（ｃ）に示すような（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）の算出を行う。特に図３（ｃ）のような特性はＳ字カーブと呼ばれ、その値は評価関数値（以下、Ｅｆ値と略す）と呼ばれる。
【００３８】
コントロール部１８は合焦判別部３７よりのＥｆ値の符号により合焦位置方向を判定する。例えば、図３（ｃ）中「１」の位置からＡＦ（オートフォーカス）を開始した場合には、コントロール部１８は、Ｅｆ値の符号が負のため電動レボルバ１９を上昇させる制御を行う。また、例えば、図３（ｃ）中「２」の位置からＡＦを開始した場合には、コントロール部１８は、Ｅｆ値の符号が正のため電動レボルバ１９を下降させる制御を行う。コントロール部１８はこのような制御を行って、最終的にＥｆ値が０となるように、モータ制御部２４にて対物レンズ１０ａとスライドガラス３の表面の距離を光軸方向に相対的に駆動させて合焦動作を行う。なお、スライドガラス３のように表面と背面２つの反射面をもつ場合のものは、２つの座標位置関係から自動的にスライドガラス３の表面に合焦を合わせる機能も有している。
【００３９】
このように、レーザー光が点灯制御され、観察試料に投影したレーザー光束の反射光を検出することで、アクティブ型のＡＦ光学系が実現される。
図４は、コントロール部１８の内部構成の一例を示す。ＲＯＭ（リードオンリーメモリ）１８ｂには、システムを制御するためのプログラムが格納されている。ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）１８ｃは、制御に必要なデータが格納され揮発性メモリ等である。
【００４０】
ＣＰＵ（中央演算装置）１８ａは、ＲＯＭ１８ｂに記憶されている予め設定されたプログラムを読み出して各種制御を実行する。入出力（Ｉ／Ｏ）ポート１８ｄは、顕微鏡１の各種駆動部や、各種制御部、判定部等とデータのやり取りを行うための入出力インターフェースである。また、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）１８ｅは、操作部４０やＰＣ等の
外部の機器と通信可能にするための通信インターフェースである。
【００４１】
図５は、本発明におけるスライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出する概要を示すフローである。図６は、電動ステージ４上に載置したスライドガラス３ａを示す。以下では、図６を参照しながら、図５のフローを説明する。
【００４２】
まず、スライドガラス３ａに標本２を載置し、その標本２の上をカバーガラス３ｂで覆って、顕微鏡観察用のスライドガラス３ａを作成する。そして、図６（ａ）に示すように、この作成したスライドガラス３ａを電動ステージ４に置いて、クレンメル４ａで押さえて、スライドガラス３ａを電動ステージ４に固定する（ステップ１。以下、ステップを「Ｓ」と称する）。
【００４３】
次に、電動ステージ４を１次元方向または２次元方向に移動させることにより、スライドガラス３ａの所定の位置から一定方向に赤外光半導体レーザー２６をスキャンする（Ｓ２）。例えば、図６（ｂ）に示すように、電動ステージ４のＺ位置（例えば、光強度の大きさが最も大きくなる位置（ＡＦをかけた位置）など）及びＹ位置を所定の位置で固定した状態で、スライドガラス３ａのＸ方向に対して、赤外光半導体レーザー２６をスキャンする。スキャン時のアクティブＡＦの光強度値を、その光強度値が検出されたＸ座標と共にＲＡＭ１８ｃに保持する。なお、対物レンズの倍率は固定しておく。
【００４４】
このとき、後述するように、カバーガラス３ｂの位置を検出する場合に、最初にスキャンした位置がスライドガラスかカバーガラスかを識別するために、予めスライドガラスの光強度を基準値Ｐstdとして取得しておく。取得方法としては、例えば、スライドガラス上の規定位置をスキャンしてもよいし、ユーザが任意にスライドガラス上の所定の位置を指定してもよい。
【００４５】
次に、Ｓ２で取得した光強度値のうち、所定の閾値より大きい光強度値のデータを抽出する（Ｓ３）。これにより、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を認識することができる。なぜなら、図６（ｂ）に示すように、カバーガラス３ｂの無い部分（光強度値Ｐ１）とカバーガラス３ｂのある部分（光強度値Ｐ２）とでは屈折率の相違により、それぞれで反射された反射光の光強度値が異なるからである。これについて、図７を用いて詳述する。
【００４６】
図７は、本発明の原理を説明するための図である。図７（ａ）は、スライドガラス３ａが載置された電動ステージ４をＸ方向に移動させることにより、赤外光半導体レーザー２６から照射されたレーザー光が対物レンズ１０からスライドガラス３ａに照射されて、スライドガラス３ａのＸ方向にスキャンしている様子を示す。角度θは、スライドガラスの傾斜角度を示す。角度θは任意であり、０°（傾斜していない）であってもよく、傾斜していてもよい。
【００４７】
図７（ｂ）は、図７（ａ）でスキャンされた走査線上のサンプリング点にある、ａ点、ｂ点、ｃ点、ｄ点、ｅ点、ｆ点で検出された光強度値を示す。図７（ｂ）中のａ１〜ｆ１はそれぞれ、図７（ａ）のａ点〜ｆ点におけるＡ＋Ｂの算出結果を示す（Ａ＋Ｂについては、図３（ｂ）で説明した。）。ａ２〜ｆ２はそれぞれ、ａ点〜ｃ点における（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）の算出結果を示す（（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）については、図３（ｃ）で説明した。）。
【００４８】
図７では、スライドガラス３ａは電動ステージ４の載置面に対して角度θ傾斜している場合を例に説明する。この場合、角度θ傾斜しているスライドガラス３ａの表面に対応するＺ位置をプロットした直線を破線Ｚ１で表し、角度θ傾斜しているカバーガラス３ｂの表面に対応するＺ位置をプロットした直線を破線Ｚ２で表す。Ｗは、スキャン方向におけるカバーガラス３ｂの幅を示す。
【００４９】
ａ１、ｂ１では、所定のＺ位置にピークＰ１が存在する。ａ２、ｂ２においても、このピーク値Ｐ１のあるＺ位置に対応する評価関数値Ｅｆをα、βとして確認できる。
ｃ１、ｄ１では、ａ１及びｂ１で着目していたＺ位置にあったピークＰ１がピークＰ２に減少し、この着目していたＺ位置とは異なるＺ位置に新たにピークが生じている。Ｃ２では、その減少後のピーク値Ｐ２及び新たに生じたピーク値のあるＺ位置に対応する評価関数値Ｅｆをそれぞれ、γ及ぶδとして確認できる。なお、ｄ１の評価関数値Ｅｆは、ｃ２とほぼ同様なので省略している。
【００５０】
ｅ１、ｆ１では、ｃ１、ｄ１で生じたピークが消滅し、ａ１及びｂ１で着目していたＺ位置にあったピークＰ２が増加して再びＰ１に回復している。なお、ｅ１、ｆ１の評価関数値Ｅｆは、ａ２、ｂ２とほぼ同様なので省略している。
【００５１】
このように、カバーガラス３ｂがセットされたスライドガラス３ａに対してレーザー光を一定方向にスキャンして、スライドガラス３ａ部分及びカバーガラス３ｂ部分に関するＡ＋Ｂ、及び／又は（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）を算出することにより、光強度の差異及び／または変化点を検出することができる。よって、この検出された光強度の差異及び／または変化点に対応するスライドガラス３ａ上の位置を検出することにより、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出することができる。
【００５２】
このようにスライドガラス３ａとカバーガラス３ｂとの屈折率の相違により合焦位置が変わることを利用して、スライドガラス３ａ上のスライドガラス３ａの位置を検出することができる。それでは、本発明の実施形態の詳細を説明する。
【００５３】
＜第１の実施形態＞
本実施形態では、スライドガラスに対してレーザー光を相対的に１次元方向に走査する場合について説明する。
【００５４】
図８は、本実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。同図において、スライドガラス３ａ上には、ｎ個のカバーガラス３（３ｂ−１，３ｂ−２，・・・３ｂ−ｎ）がセットされている。スライドガラス３ａの短手方向（Ｙ方向）の幅の任意の位置のＹ座標をＹcで表す。
【００５５】
スライドガラス３ａのＹ座標＝Ｙc上にある各カバーガラス３ｂの端部は、３ｂ−１についてはＸＳ１（Ｘ11，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘ12，Ｙc）で表され、３ｂ−２についてはＸＳ１（Ｘ21，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘ22，Ｙc）で表され、・・・、３ｂ−ｎについてはＸＳ１（Ｘn1，Ｙc）、ＸＳ２（Ｘn2，Ｙc）で表される。
【００５６】
図９は、本実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。まず、ユーザは、所望の標本２をスライドガラス３ａに載置して、その標本２をカバーガラス３ｂで覆う。これを繰り返して、図８のように、スライドガラス３ａ上に複数のカバーガラス３ｂ（３ｂ−１，３ｂ−２，・・・３ｂ−ｎ）を載置する。
【００５７】
それから、ユーザは、そのスライドガラス３ａを電動ステージ４に置いてクレンメル４ａで押さえる（Ｓ１１）。なお、本実施形態では電動ステージ４に対してスライドガラス３ａは傾斜角度θ＝０°であるとする。
【００５８】
次に、ユーザが操作部４０にある「カバーガラス位置認識」ボタン（不図示）を押下すると、カバーガラス位置認識指示信号が発信する。コントロール部１８は、そのカバーガラス位置認識指示信号を受信すると、スライドガラス３ａ上のＹc位置についてＸ方向へ向かってレーザー光をスキャンさせる（Ｓ１２）。コントロール部１８は、スライドガラス３ａ上の所定のＹ位置（Ｙc位置）を予め内部に保持している。なお、本実施形態では、スキャン時は電動ステージのＺ位置及びＹ位置は固定である。
【００５９】
具体的には、ＣＰＵ１８ａは、ＲＯＭ１８ｂに格納されているＹ位置（Ｙc）を読み出して、ステージ制御部５に送信する。ステージ制御部５は、対物レンズ１０の先端（光軸）がそのＹｃの垂線上に位置するように電動ステージ４を移動させる。なお、対物レンズの倍率は固定しておく。
【００６０】
このとき、Ｙcに対応するＸ座標は任意であるが、通常はスライドガラス３ａの端部付近となるように、予め設定されている（例えば、ＲＯＭ１８ｂにＹcに対応するＸ座標が格納されていてもよい）。本実施形態では、図８に示すように、スライドガラス上の座標（Ｘ0，Ｙc）をスキャンの開始位置Ｑとする。
【００６１】
ステージ制御部５の制御により、電動ステージ４上のスライドガラス３ａのスキャン開始位置Ｑが対物レンズ１０の先端から照射されるレーザー光の光軸上に到達する。そうすると、コントロール部１８はレーザー駆動部２７を駆動させて赤外光半導体レーザー２６を照射させると共に、コントロール部１８はステージ駆動部５を駆動させて電動ステージ４をＸ方向に移動させる。
【００６２】
コントロール部１８は、Ｓ１２におけるＸ方向へのスキャンに伴い、各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＸ（Ｘ）をＲＡＭ１８ｃに保持する（Ｓ１３）。
【００６３】
具体的には、コントロール部１８は、受光センサ３６により検出した各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のレーザー反射光強度を合焦判定部３７を介して取り込み、上述したようにＡ＋Ｂを算出して、光強度値のピーク値ＰＸ（Ｘ）を取得する。
【００６４】
なお、サンプリング頻度は可変であってよく、例えば、スライドガラス３ａ上のＸ方向の全座標についてピーク値ＰＸ（ｘ）を保持してもよいし、座標を飛ばしてピーク値ＰＸ（Ｘ）を保持してもよい。
【００６５】
なお、本実施形態では、カバーガラス３ｂからの反射光の光強度とスライドガラス３ａからの反射光の光強度との相違（変化率）を検出するので、必ずしもＡＦを行う必要はない。しかしながら、ＡＦを行うことにより、カバーガラス３ｂからの反射光の光強度とスライドガラス３ａからの反射光の光強度との変化率がより大きくなるので、カバーガラス３ｂかスライドガラス３ａかの判別がより容易になる。
【００６６】
次に、コントロール部１８は、Ｓ１３で取得した各ＰＸ（Ｘ）値を比較し、カバーガラス３ｂの存在する位置座標（カバーガラス始点位置をＸＳ１で表し、カバーガラス終点位置をＸＳ２で表す。）を認識する（Ｓ１４）。このＳ１４の処理については図１１で詳述する。
【００６７】
図１０は、本実施形態における、スキャン開始位置Ｑにカバーガラスが無い場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。図１０は、図９のＳ１３で保持された各Ｘ座標Ｘ（Ｘ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＸ（Ｘ）を概念的なグラフにしたものである。
【００６８】
図１０（ａ）は、カバーガラスが載置されたスライドガラスの上面図である。
図１０（ｂ）は、カバーガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。カバーガラスにフォーカスを合わせているので、カバーガラスのあるＸＳ１−ＸＳ２区間は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００６９】
図１０（ｃ）は、スライドガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。スライドガラスにフォーカスを合わせているので、スライドガラス表面が露出しているＸＳ１−ＸＳ２区間及びＸＳ２以降の区間（すなわち、カバーガラスで覆われていない区間）は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００７０】
Ｐstdは、予め取得しているスライドガラス上の規定位置の光強度を示す。「ＷＳ」はスキャン方向時の、ノイズ成分を除去するための閾値であり、例えば、カバーガラスとして利用される最小の幅が設定されている。また、「ＷＰt」はＡＦ山位置の閾値であり、ノイズ成分を除去するための閾値である。また、「Ｃ」は、カバーガラス幅を計測するカウンタである。また、Ｐ（１）＋ＷＰtの値をＷＰで表すとする。
【００７１】
スキャン開始位置ＱからＸＳ1までは、光強度値Ｐstd（Ｐstdには、Ｐstd＋σ（σ：誤差範囲）も含む。以下、同様である。）である。ＸＳ１からＸＳ２までは、図１０（ｂ）の場合には光強度値Ｐ（Ｎ）＜Ｐstd−ＷＰt、図１０（ｃ）の場合にはＰ（Ｎ）＞Ｐstd＋ＷＰtである（Ｎは、後述するように、スライドガラス上の位置を示す変数である。）。ＸＳ２以降は、再び光強度値Ｐstdである。
【００７２】
図１１は、本実施形態におけるスキャン結果に基づいて、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置及び個数を認識するフロー（予めスライドガラスにフォーカスを合わせている場合）を示す。本フローは、コントロール部１８により実行される図９のＳ１４の詳細なフローである。図１０で説明した変数を用いて本フローについて説明する。
【００７３】
まず、変数の初期化が行われる（Ｓ２１）。例えば、スライドガラス上の座標を計測するためのカウンタ変数（スライドガラス用座標カウンタ）ＮをＮ＝１とし、カバーガラスの幅を計測するためのカウンタ変数（カバーガラス幅カウンタ）ＣをＣ＝１とし、認識されたカバーガラスの数（カバーガラス認識数）ｎをｎ＝０とする。
【００７４】
次に、予め取得しているスライドガラス３ａ上の規定位置の光強度ＰstdがＮ＝１での光強度Ｐ（Ｎ＝１）以上か否かを判断する（Ｓ２２）。スキャン開始位置Ｑで既にカバーガラスが存在している場合には、スライドガラス３ａ表面にフォーカスがあっていないため光強度Ｐ（１）は低下するので、Ｐ（１）がＰstd以上となることはない。したがって、スキャン開始位置Ｑで既にカバーガラス３ｂが存在している場合には、「Ｎｏ」へ進む。一方、スキャン開始位置Ｑでカバーガラスが存在なく、スライドガラス３ａ表面が露出している場合には、Ｐ（１）は低下しないので、「Ｙｅｓ」へ進む。
【００７５】
Ｎ＝１でスライドガラス３ａが露出している場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」へ進んだ場合）、光強度値ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）であるか否かが判定される（Ｓ２３）。ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の場合とは、スライドガラス３ａからカバーガラス３ｂ上にスキャン位置が移動した場合である。ＷＰ≦Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の場合とは、スライドガラス表面をスキャンしている場合である。但し、Ｓ２３の処理を行うのが最初である場合、すわなちＮ＝１のときはＳ２３で「Ｎｏ」へ進む。この例では、Ｎ＝１であるからＳ２３で「Ｎｏ」へ進む。
【００７６】
次に、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされる（Ｓ３５）。Ｓ３５の処理後、スライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅より小さいか否かが判定される（Ｓ３３）。本実施形態では、スライドガラス３ａの幅＝７５０に設定しているがこれに限定されない。
【００７７】
Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）が成立するまで、Ｓ２３→Ｓ３５→Ｓ３３→Ｓ３４→Ｓ２３→・・・が繰り返される。
【００７８】
ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）が成立（カバーガラス３ｂがある部分）すると（Ｓ２３で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」であるか否かが判定される（Ｓ２４）。当該カバーガラス３ｂについての最初の処理ならばＣ＝１であるのでＳ２５へ進むが、２回目以降の処理ならばＣ＞１なのでＳ２８に進む。
【００７９】
カバーガラス幅カウンタＣが「１」の場合（Ｓ２４で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス認識数ｎが「０」であるか否かが判定される（Ｓ２５）。当該スライドガラス３ａにおいて、当該カバーガラス３ｂが最初に認識されたものであるならばｎ＝０であるのでＳ２６の処理へ進むが、そうでないならばｎ＞０なのでＳ２７の処理へ進む。ｎ＝０の場合（Ｓ２５で「Ｙｅｓ」へ進む）、ｎ＝１とし（Ｓ２６）、Ｓ２７の処理へ進む。
【００８０】
次に、スライドガラス用座標カウンタＮをカバーガラス始点位置ＸＳ１（ｎ）に代入する（Ｓ２７）。
次に、カバーガラス幅カウンタＣが閾値ＷＳより大きいか否かが判定される（Ｓ２８）。カバーガラス幅カウンタＣ≦閾値ＷＳの場合（Ｓ２８で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣと閾値ＷＳが等しいか否かが判定される（Ｓ２９）。
【００８１】
カバーガラス幅カウンタＣ＜閾値ＷＳの場合（Ｓ２９で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣをインクリメントし（Ｓ３２）、Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。その後、カバーガラス幅カウンタＣ＝閾値ＷＳ（Ｓ２９）が成立するまで、Ｓ２３〜Ｓ３４→・・・が繰り返される。
【００８２】
カバーガラス幅カウンタＣ＝閾値ＷＳが成立すると（Ｓ２９で「Ｙｅｓ」へ進む）、カバーガラス認識数ｎをインクリメントし（Ｓ３０）、スライドガラス用座標カウンタＮをカバーガラス終点位置ＸＳ２（ｎ−１）に代入する（Ｓ３１）。
【００８３】
その後、カバーガラス幅カウンタＣをインクリメントし（Ｓ３２）、Ｎ＜「７５０」なので（Ｓ３３で「Ｙｅｓ」へ進む）、Ｎをインクリメントする（Ｓ３４）。
Ｓ２３の処理において、ＷＰ＜Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）の間（すなわち、当該カバーガラスについて処理されている間）、Ｃはインクリメントされ続けて（Ｓ３２）、カバーガラス終点位置ＸＳ２（ｎ−１）は更新され続ける（Ｓ３１）。
【００８４】
それから、カバーガラスが無くなると、ＷＰ≧Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）となるので（Ｓ２３で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされ（Ｓ３５）、Ｎ＜「７５０」の間Ｓ２３〜Ｓ３５が繰り返される。
【００８５】
Ｎ＝７５０なると、すなわちスライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅と等しくなると（Ｓ３３で「Ｎｏ」へ進む）、本フローは終了する。
【００８６】
このようにして、スライドガラス３ａ上に存在するカバーガラス３ｂの数（カバーガラス認識数ｎ）、及びその認識したそれぞれのカバーガラスの位置（ＸＳ１，ＸＳ２）を検出することができる。
【００８７】
次に、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスである場合のカバーガラスの検出について説明する。
図１２は、本実施形態における、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスがある場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。図１２は、図１０のカバーガラスの開始位置ＸＳ１をスキャン開始位置Ｑに重ねた場合に相当する。
【００８８】
図１２（ａ）は、カバーガラスがスキャン開始位置に載置されたスライドガラスの上面図である。
図１２（ｂ）は、カバーガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。カバーガラスにフォーカスを合わせているので、カバーガラスのあるＱ（＝ＸＳ１）−ＸＳ２区間は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００８９】
図１２（ｃ）は、スライドガラスにフォーカスを合わせている場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。スライドガラスにフォーカスを合わせているので、スライドガラス表面が露出しているＱ（＝ＸＳ１）−ＸＳ２区間及びＸＳ２以降の区間（すなわち、カバーガラスで覆われていない区間）は、それ以外の区間に比べて、光強度が強くなっている。
【００９０】
スキャン開始位置Ｑ（＝ＸＳ１）からＸＳ２までは、カバーガラス上をスキャンしているので、図１２（ｂ）の場合には光強度値Ｐ（Ｎ）＜Ｐstd−ＷＰt、図１２（ｃ）の場合にはＰ（Ｎ）＞Ｐstd＋ＷＰtである（Ｎは、後述するように、スライドガラス上の位置を示す変数である。）。ＸＳ２以降は、光強度値Ｐstdである。
【００９１】
図１１のフローにおいて、スキャン開始位置に既にカバーガラス３ｂが存在すると、Ｓ２２で「Ｎｏ」へ進む。それ以降は、上述したように、当該カバーガラスがなくなるまでＳ２３〜Ｓ３４を行い、当該カバーガラスが無くなると、ＷＰ≧Ｐ（Ｎ−１）−Ｐ（Ｎ）となるので（Ｓ２３で「Ｎｏ」へ進む）、カバーガラス幅カウンタＣが「１」でリセットされ（Ｓ３５）、Ｎ＜「７５０」の間Ｓ２３〜Ｓ３５が繰り返される。
【００９２】
Ｎ＝７５０なると、すなわちスライドガラス用座標カウンタＮがスキャン方向におけるスライドガラス３ａの幅と等しくなると（Ｓ３３で「Ｎｏ」へ進む）、本フローは終了する。
【００９３】
このようにして、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスである場合でも、スライドガラス３ａ上に存在するカバーガラス３ｂの数（カバーガラス認識数ｎ）、及びその認識したそれぞれのカバーガラスの位置（ＸＳ１，ＸＳ２）を検出することができる。
【００９４】
本実施形態によれば、スライドガラス上の標本（カバーガラス）をスクリーニングする際に、スライドガラス全体ではなく所定の方向に１ラインまたは複数ラインのみスキャンするので、標本だけを短時間で効率よくスクリーニングすることができる。そのスクリーニング作業により、短時間で標本のあるスライドガラス上のカバーガラスの位置を検出することができる。また、カバーガラスの位置を検出することにより、スライドガラス上の標本の位置もおおよそ分かるため、効率よい顕微鏡観察を行うことができる。
【００９５】
また、カバーガラスの検出に際し、撮像処理を行わないので、標本に照明光を照射する必要がなく、したがって標本に対する光毒性がない。また、標本の位置を認識する際に画像処理を用いる必要がないので、透明な標本についても適用することができる。
【００９６】
なお、本実施形態では、図１１を用いて、予めスライドガラスにフォーカスを合わせているケースについて説明したが、本実施形態は予めカバーガラスにフォーカスを合わせている場合についても同様に適用できる。
【００９７】
＜第２の実施形態＞
本実施形態では、スライドガラスに対してレーザー光を相対的に２次元方向に走査する場合について説明する。本実施形態では、第１の実施形態の処理を行うことによりＸ方向についてのカバーガラス位置を認識した後、その認識した各カバーガラスについてＹ方向へのスキャンを実行し、Ｙ方向の位置を認識する。
【００９８】
図１３は、本実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。図８で説明したように、第１の実施形態により各カバーガラスのＸ座標（カバーガラス始点位置ＸＳ１，カバーガラス終点位置ＸＳ２）が得られるので、ＸＳ１とＸＳ２の中心座標ＸＳＣを算出して、その中心座標ＸＳＣからＹ方向へレーザーのスキャンを行う。
【００９９】
図１４は、本実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。第１の実施形態と同様にＳ１１〜Ｓ１４を実行して、Ｘ方向についてのカバーガラス位置を認識する。
【０１００】
次に、コントロール部１８は、Ｓ１４で認識された各カバーガラスについて、カバーガラスのある座標位置ＸＳ１−ＸＳ２の中心座標ＸＳＣを算出し、その中心座標ＸＳＣからＹ方向へスキャンを実行する（Ｓ４１）。Ｓ４１は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１２と同様である。
【０１０１】
次に、コントロール部１８は、Ｓ４１におけるＹ方向へのスキャンに伴い、各Ｙ座標：Ｙ（Ｙ）毎のＡＦ山位置（光強度のピーク値）の値ＰＹ（Ｙ）をＲＡＭ１８ｃに保持する（Ｓ４２）。Ｓ４２は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１３と同様である。
【０１０２】
次に、コントロール部１８は、Ｓ４２で取得した各ＰＹ（Ｙ）値を比較し、Ｙ方向におけるカバーガラス３ｂがある位置座標（カバーガラス始点位置をＹＳ１で表し、カバーガラス終点位置をＹＳ２で表す。）を認識する（Ｓ４３）。Ｓ４３は、スキャン方向が異なる以外は、Ｓ１４（及び図１１）と同様である。
【０１０３】
図１５は、第１及び第２の実施形態の変形例の一例を示す。第１の実施形態では、Ｚ位置及びＹ位置を固定してＸ方向に１回スキャンしたが、図１５（ａ）に示すように、Ｙ位置を変えてＸ方向に複数回スキャンしてもよい。さらに、図１５（ｂ）に示すように、各カバーガラスの位置座標（ＸＳ１−ＸＳ２）間を複数回Ｙ方向にスキャンしてもよい。
【０１０４】
また、カバーガラスの形状は正方形に限定されず、長方形や多角形であってもよく、図１５（ｃ）に示すように円形状であってもよいし、楕円状でもよい。
また、スライドガラス上のカバーガラスは１次元状に配列されたものに限定されず、図１５（ｄ）に示すように２次元状に配列されていてもよいし、放射状や同心円状に配列されていてもよい。
【０１０５】
このように、スライドガラス上の標本（カバーガラス）をスクリーニングする際に、スライドガラス全体ではなく所定の方向（１次元方向または２次元方向）に１ラインまたは複数ラインのみスキャンするので、標本だけを短時間で自動的に効率よくスクリーニングすることができる。
【０１０６】
本実施形態によれば、第１の実施形態の効果に加えてさらに、２次元方向へのスキャンを行うことができるので、スライドガラス上にカバーガラスが２次元上に配列されていても、スライドガラス上の標本位置（カバーガラスの位置）を自動検出し、スクリーニング作業の省力化を図ることができる。
【０１０７】
なお、上記において、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上述した各実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良・変更が可能である。
【０１０８】
また、本発明の実施形態において、標本スキャナ装置は、顕微鏡と一体になったものを例に説明したが、これに限定されない。例えば本実施形態の標本スキャナ装置は、顕微鏡と別体、例えば、走査制御手段と、光強度検出手段と、標本保持部材認識手段とを構成要素とするものであってもよい。
【０１０９】
以上、本発明によれば、透明標本を用いる場合でも、スクリーニング時に標本位置（カバーガラス位置）を特定し、観察することができる。また、蛍光標本に対し褪色させることなく標本位置（カバーガラス位置）を検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明にかかる標本スキャナ装置を適用した顕微鏡システムの構成例を示す。
【図２】受光センサとピント位置との関係を説明するための図である。
【図３】デフォーカスと入射光強度との関係を説明するための図である。
【図４】コントロール部１８の内部構成の一例を示す。
【図５】本発明におけるスライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置を検出する概要を示すフローである。
【図６】電動ステージ４上に載置したスライドガラス３ａを示す。
【図７】本発明の原理を説明するための図である。
【図８】第１の実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。
【図９】第１の実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。
【図１０】第１の実施形態における、スキャン開始位置Ｑにカバーガラスが無い場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。
【図１１】第１の実施形態におけるスキャン結果に基づいて、スライドガラス３ａ上にあるカバーガラス３ｂの位置及び個数を認識するフローを示す。
【図１２】本実施形態における、スキャン開始位置Ｑに既にカバーガラスがある場合のスキャン方向に対する光強度値のグラフを示す。
【図１３】第２の実施形態におけるスキャン方向を説明するためのスライドガラスの上面図である。
【図１４】第２の実施形態におけるスライドガラス上にあるカバーガラスの位置を認識するフローを示す。
【図１５】第１及び第２の実施形態の変形例の一例を示す。
【符号の説明】
【０１１１】
１ 倒立顕微鏡システム
２ 標本
３ａ スライドガラス
３ｂ カバーガラス
４ 電動ステージ
５ ステージ制御部
６ 蛍光光源
７ コレクタレンズ
８ 励起フィルタ
９ ダイクロックミラー
１０（１０ａ，１０ｂ） 対物レンズ
１１ 吸収フィルタ
１２ 光路切換え部
１３ 接眼レンズ
１４ ＣＣＤカメラユニット
１５ ビデオキャプチャボード
１６ ホストＰＣ
１７ 電動シャッタ
１８ コントロール部
１９ 電動レボルバ
２１ ピエゾ素子
２２ 準焦部モータ
２３ 架台
２４ モータ制御部
２５ ピエゾ制御部
２６ 赤外光半導体レーザー
２７ レーザー制御部
２８ コリメートレンズ
２９ 投光側ストッパ
３０ ＰＢＳ
３１ 集光レンズ群
３２ 色収差補正レンズ群
３３ λ／４板
３４ ダイクロイックミラー
３５ 集光レンズ群
３６ 受光センサ
３７ 合焦判別部
３８ ジョグエンコーダ
３９ パルスカウンタ
４０ 操作部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置において、
前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、
前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、
前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、
を備えることを特徴とする標本スキャナ装置。
【請求項２】
前記走査制御手段は、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項３】
前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させる
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項４】
前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項５】
前記標本スキャナ装置は、さらに、
前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するＺ座標位置検出手段
を備えることを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項６】
前記Ｚ座標位置検出手段は、アクティブオートフォーカス機構である
ことを特徴とする請求項５に記載の標本スキャナ装置。
【請求項７】
請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の標本スキャナ装置を備えた顕微鏡。
【請求項８】
スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置による標本位置検出方法において、
前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させ、
前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出し、
前記走査された前記スライドガラス上の位置と、該スライドガラス上の位置に対応する前記検出された反射光の光強度と、に基づいて、該スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する、
ことを特徴とする標本位置検出方法。
【請求項１】
スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置において、
前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させる走査制御手段と、
前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出する光強度検出手段と、
前記走査制御手段により走査された前記スライドガラス上の位置と、前記光強度検出手段により検出された該位置に対応する前記反射光の光強度と、に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する標本保持部材認識手段と、
を備えることを特徴とする標本スキャナ装置。
【請求項２】
前記走査制御手段は、前記スライドガラスが載置されたステージを前記レーザー光の光軸に対して垂直方向に移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項３】
前記走査制御手段は、前記ステージに載置された前記スライドガラスに対して前記レーザー光を相対的に１次元方向または２次元方向に走査させる
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項４】
前記標本保持部材認識手段は、所定の閾値よりも大きい前記反射光の光強度を抽出し、該抽出した光強度に対応する前記スライドガラス上の位置に基づいて、前記スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する
ことを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項５】
前記標本スキャナ装置は、さらに、
前記光強度検出手段による検出結果に基づいて、前記光軸方向における前記スライドガラスまたは前記標本保護部材の位置を検出するＺ座標位置検出手段
を備えることを特徴とする請求項１に記載の標本スキャナ装置。
【請求項６】
前記Ｚ座標位置検出手段は、アクティブオートフォーカス機構である
ことを特徴とする請求項５に記載の標本スキャナ装置。
【請求項７】
請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の標本スキャナ装置を備えた顕微鏡。
【請求項８】
スライドガラスに標本を載置し、該標本を保護する標本保護部材で該標本を覆った該スライドガラスをステージに載置して、該標本を観察する顕微鏡に用いられる標本スキャナ装置による標本位置検出方法において、
前記スライドガラスに対して所定のレーザー光を相対的に走査させ、
前記走査されたレーザー光の反射光の光強度を検出し、
前記走査された前記スライドガラス上の位置と、該スライドガラス上の位置に対応する前記検出された反射光の光強度と、に基づいて、該スライドガラス上の前記標本保持部材の位置を認識する、
ことを特徴とする標本位置検出方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図７】
【公開番号】特開２００８−２６２１００（Ｐ２００８−２６２１００Ａ）
【公開日】平成２０年１０月３０日（２００８．１０．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１０５９４３（Ｐ２００７−１０５９４３）
【出願日】平成１９年４月１３日（２００７．４．１３）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１０月３０日（２００８．１０．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月１３日（２００７．４．１３）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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