樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法及び液晶素子
【課題】樹脂層付アクティブマトリクス基板への樹脂層形成時の不良率を低減する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
【数１】
【解決手段】アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
【数１】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板への樹脂層の形成方法に関する。更に詳しくは、多人数で見る携帯情報端末、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、アミューズメント機器、テレビジョン装置などの平面ディスプレイ、シャッタ効果を利用した表示板、窓、扉、壁などに用いることができる液晶素子に用いられる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法とこの方法で得られた樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いる液晶素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶素子は、従来、アクティブマトリクス基板とカラーフィルター付ガラス基板の間に液晶を封入して作成されてきたが、近年、高精細化時の開口率ＵＰ等の要求から、ガラス基板側に付与されていたカラーフィルターである着色層や透明層の一部または全て（本発明では樹脂層と呼ぶ事にする）をアクティブマトリクス基板側に形成しようとする試みが行われている。
例えば、有色有機フイルムを用いてアクティブマトリクス基板にカラーフィルターを形成している（例えば、特許文献１参照）。
このアクティブマトリクス基板側に形成された樹脂層上には透明電極が形成され、該樹脂層に形成されたコンタクトホールと呼ばれる穴を介して透明電極と下部の配線と接続される。しかし、該コンタクトホールでは接続不良が発生しやすいことがわかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２０６８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の第１の目的は、樹脂層が形成されたアクティブマトリクス基板のコンタクトホールの接続不良を低減することができる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、前記の方法で得られた樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いた液晶素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記した本発明の目的を達成するための樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法は
＜１＞ アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
＜２＞ 感光性樹脂の光学濃度（ＯＤ）が０．８〜３であることを特徴とする前記＜１＞に記載の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
上記した本発明の目的を達成するための液晶素子は、
＜３＞ 前記＜１＞または前記＜２＞に記載の製造方法で製造された樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いたことを特徴とする液晶素子である。
【０００６】
感光性樹脂層に形成されるコンタクトホールにおいて接続不良が生じる理由は、コンタクトホールの内周面で画素電極の切れが生じるものと考えられる。感光性樹脂層の光学濃度（ＯＤ）と、パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層との距離とを、それぞれ所定の範囲に設定することで、感光性樹脂は、パターン露光と現像の後であっても該感光性樹脂層の少なくとも一部は該加熱温度において流動性を有し、しかるに所望の角度のテーパー状に形成され、画素電極の切れが生じにくくなるものと思われる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の樹脂層付きアクティブマトリクス基板の製造方法によれば、コンタクトホールの接続不良を低減することができる。
また、本発明の液晶素子によると、樹脂層付きアクティブマトリクス基板におけるコンタクトホールの接続不良が低減される結果、液晶素子としての表示品質の低下を防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。
（アクティブマトリクス基板）
本発明において「アクティブマトリクス基板」を「薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、単結晶シリコントランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、ダイオード等が形成されている、液晶素子の基板」と定義する。
【０００９】
（液晶素子）
液晶素子では、アクティブマトリクス基板とこのアクティブマトリクス基板に対向配置された対向基板と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶層が形成されており、アクティブマトリクス基板上に制御信号を伝送する各ゲート信号線と映像信号を伝送する各ソース信号線を公差させて形成し、これらの信号線の公差部位に各スイッチング素子が形成される。
本発明の液晶素子としては、これらの信号線及びスイッチング素子上に感光性樹脂層が形成されたものが好ましい。この感光性樹脂層は、各原色のフィルム層からなるカラーフィルターでもよく、透明な感光性樹脂層からなる層間絶縁膜として機能させるものであってもよく、ブラックマトリックスでもよく、またカラーフィルターと透明な層間絶縁膜の両方をこの順に重ねたものでもよい。
このような液晶素子においては、各ソース信号線、各ゲート信号線、及び各画素電極間に感光性樹脂層が介在されるため、各信号線と各画素電極をオーバーラップさせることができ、画素の開口率を向上させることができる。
【００１０】
（感光性樹脂層を形成する工程）
本発明において、アクティブマトリクス基板に感光性樹脂層を形成する方法は、染色法、電着法、及び顔料分散法等が挙げられるが、染色法、電着法では、カラーフィルターの耐候性に問題があり、顔料分散法では、スピンコート法による成膜時において、顔料の選択や顔料によるアクティブマトリクス基板の汚染等が問題が生じやすいので、ラミネート方式による感光性樹脂層の形成方法が最も好ましい。
【００１１】
前記のラミネート方式による感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、感光性樹脂層は特開平５−７２７２４号公報に記述されている感光性転写材料、すなわち一体型となったフイルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フイルムの構成の一例は支持体／熱可塑性樹脂層／酸素遮断膜／感光性樹脂層／保護フイルムである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報を参照）
【００１２】
＜感光性樹脂層＞
本発明における感光性樹脂層は、光学濃度（ＯＤ）が０．５〜４であることが必要であり、好ましくは０．８〜４、より好ましくは０．８〜３、さらに好ましくは１．０〜２．５である。
本発明における光学濃度（ＯＤ）は、感光性樹脂層の被測定部分に入射する波長３６５ｎｍの光の強度をＩ0 とし、感光性樹脂の被測定部分を透過して出射した波長３６５ｎｍの光の強度をＩとしたとき、下記の式で表される。
【００１３】
【数１】
【００１４】
感光性樹脂層は、感光性樹脂層組成物における光重合開始剤、ＵＶ吸収剤等の配合量を調整することによっての光学濃度（ＯＤ）を調整することができる。
本発明において、感光性樹脂層のＯＤが０．５より小さいと、コンタクトホールの形成が不充分でコンタクトホールの接続不良が生じやすく、一方、感光性樹脂層のＯＤが４、特に５を超えると、感光性樹脂層組成物の性状が好ましくなく、所定の感光性樹脂層の形成が困難となる。
【００１５】
感光性を付与するための光重合系は表面硬化性のものが好ましい。表面硬化性を得るに酸素遮断膜を付与する、不活性ガス中や真空中で露光する、化学増幅系など酸素障害の無い重合系を用いる。
感光性樹脂組成物としては、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂組成物、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合開始剤、光重合性モノマーおよびバインダーを基本構成要素として含む感光性樹脂である。
本発明の感光性樹脂層の素材としては公知の、例えば特願平２−８２２６２に記載されている感光性樹脂がすべて使用できる。
該感光性樹脂層には、アルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【００１６】
該感光性樹脂層には、特開平１１−１３３６００号公報記載の「重合性化合物Ｂ」「重合開始剤Ｃ」「界面活性剤」「接着助剤」や、その他の組成物が利用できる。
【００１７】
該感光性樹脂層には、染料、顔料、紫外線吸収剤を必要により添加する。該顔料は感光性樹脂層中に均一に分散されており、好ましくは５μｍ以下の粒径、特に好ましくは１μｍ以下の粒径を有していなければならない。
好ましい染料ないし顔料の例は次の通りである。ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン。
さらに、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４を挙げることができる。
【００１８】
好ましい紫外線吸収剤は、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【００１９】
＜酸素遮断膜＞
本発明では感光性樹脂層の上にさらに酸素遮断膜を形成して露光することが好ましい。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組み合わせである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報参照。）
【００２０】
（感光性樹脂層をパターン露光する工程）
＜パターン露光＞
本発明において、パターン露光とは、画像パターンが形成されたシャドウマスクを介して感光性樹脂層にパターン化された光を照射することである。このパターン露光時において、パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が１６〜３００μｍであることが必要であり、本発明においては２０〜２００μｍとする。該距離の最も好ましくは３０〜１００μｍである。
【００２１】
前記の距離とは、厳密には露光マスクの感光性樹脂層に対面する面と、感光性樹脂層表面との距離を言い、この距離が１６μｍ未満及び３００μｍを超える範囲では、コンタクトホールにおける画素電極の接続不良が生じやすい。
【００２２】
パターン露光における露光量は、（Ｎ段目の透過率％）＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１程度からクリア段＝８／ベタ段＝５が好ましい。
【００２３】
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程においては、ラミネート方式により感光性樹脂層を形成する際に、それぞれの色の感光性樹脂層の光学濃度（ＯＤ）を前記範囲に調整し、それぞれの感光性樹脂層のパターン露光を前記した条件で行なうことが望ましい。
【００２４】
（感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程）
感光性樹脂層の未硬化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。該現像処理の後に蒸留水、イオン交換水、超純水等による水洗工程を入れることが好ましい。
【００２５】
この工程で使用される現像液は、特に制約はなく、公知の現像液を使用することができるが、現像液は感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましい。現像液としては、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含む現像液が好ましいが、さらに水と混和性を有す有機溶剤を少量添加しても良い。現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。水と混和性を有する有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等がある。該有機溶剤の濃度は０．１重量％〜３０重量％である。さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜１０重量％が好ましい。現像方式は、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。
【００２６】
これらの現像によって感光性樹脂層にコンタクトホールが形成されるが、このコンタクトホールは、テーパー面（側面）の角度が基板に対し、３０°〜６０°の角度に形成されていることが好ましい。本発明では、コンタクト部形成後、透明電極形成前にアッシングやエッチングを実施し、コンタクト部の配線上を洗浄することが望ましい。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
［一体型フイルムの作成］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体に下記の処方Ｈ１、Ｂ１から成る塗布液を塗り付け、さらに下記感光性樹脂層溶液Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓを塗り付け乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断膜と各種乾燥膜厚（Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂは２μｍ、Ｓは２．８μｍ）の感光層を設け、保護フイルムでカバーした。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜と感光層が一体となったフイルムを作成し、それぞれのサンプル名を、使用した感光性樹脂層溶液の記号Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓとした。
【００２８】
＜熱可塑性樹脂層処方Ｈ１＞
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ３００重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体 ８０重量部
・フタル酸ジブチル ８０重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００２９】
＜酸素遮断膜処方Ｂ１＞
・ ポリビニルアルコール ２００重量部
（水を適宜添加）
【００３０】
＜感光性樹脂層溶液Ｋ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ６０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部
・ミヒラーズケトン ３重量部
・２-（ｏ-クロロフェニル）-４，５-ジフェニルアミダジール二量体
３重量部
・カーボンブラック ６重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３１】
＜感光性樹脂層溶液Ｒ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３２重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３１重量部
・光重合開始剤 ２．５重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・ＵＶ吸収剤 １２重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
・フェノチアジン ０．１重量部
・ＰＲ２５４ ９．６重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３２】
＜感光性樹脂層溶液Ｇ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３０重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２９重量部
・光重合開始剤 １．５重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・ＵＶ吸収剤 ９．８重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
・ＰＹ１３８ １０．１重量部
・ＰＧ３６ ２０重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３３】
＜感光性樹脂層溶液Ｂ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ４２重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３２重量部
・光重合開始剤 １．６重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・フェノチアジン ０．２重量部
・ＰＢ１５：６ ２４重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３４】
＜感光性樹脂層溶液Ｓ＞
・ポリマー ２４重量部
スチレン／マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物（共重合比６８／３２）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２０重量部
・光重合開始剤 ＩＲＧ１８４（CAS947-19-3） １重量部
・ＵＶ吸収剤 １２重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３５】
［実施例１］コンタクトホール接続性の模擬テスト
アクティブマトリクス基板の配線部分の材料であるアルミニウムの板材を用いた模擬テストについて記述する。
【００３６】
＜基板の洗浄＞
縦３２０ｍｍ横４００ｍｍのアルミニウム基板を、室温の超純水中で超音波洗浄１分後、エアーブローで水切り後、乾燥した。
＜樹脂層の形成＞
前記一体型フイルムＲ（感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでのＯＤは１．５）の保護フイルムを剥離後、ラミネートした。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機で、露光マスク下面と該感光性フイルムの間の距離（本実施例ではこの距離を「プロキシ量」と呼ぶ事にする）を６０μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光後、下記組成の現像液Ｐ１にて３８℃３５秒シャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
現像液Ｐ１の組成
・ 超純水 ９７重量部
・トリエタノールアミン ３重量部
（アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ）
【００３７】
引き続き下記組成の現像液Ｃ１で３３℃２６秒シャワー現像し感光性樹脂層を現像し、パターン画像を得た。
現像液Ｃ１
・モノエタノールアミン ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
・界面活性剤 ５ｇ／Ｌ
【００３８】
引き続き、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で１００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、温風循環型クリーンオーブンで２２０℃１３０分熱処理した。このサンプルを「実施例１Ａ品」とした。
同様の方法で「実施例１Ｂ品」〜「実施例１Ｇ品」を作製した。但しこの場合は、プロキシ量を変化させた。
【００３９】
［比較例］
実施例１と同様にプロキシ量を変えてサンプル作成した（但しプロキシ量０は、プロジェクション型露光機で感光性樹脂層面に焦点を結ぶ事で実施した）。
［評価例１］
ＩＴＯターゲットを設置したスパッタ装置にサンプルを入れ、真空度５×１０-1Ｐａ、温度１８０℃で９０分予備加熱後、アルゴン８０ 酸素６の割合の混合ガスを流しながら２０分間スパッタし０．２μｍのＩＴＯ膜を形成した。
サンプルを冷却後、コンタクトホール部の導通テストを行い、不良率を求めた。
プロキシ量（μm） 不良率
実施例１Ａ ６０ ０
実施例１Ｂ ３０ １
実施例１Ｃ １００ ２
実施例１Ｄ ２０ ４
実施例１Ｅ ２００ ７
実施例１Ｆ １６ ８
比較例１Ｃ ３００ １０
比較例１Ａ ５００ ４３
比較例１Ｂ ０ ３１
（不良率は１００個のコンタクトホール中のＮＧ数）
【００４０】
［実施例２］
実施例１と同様にプロキシ量６０でパターン露光して、サンプルを作製した。但し、感光性樹脂層の３６５ｎｍのＯＤを光重合開始剤とＵＶ吸収剤の量で調整した。
【００４１】
［比較例２］
実施例１と同様にプロキシ量６０でパターン露光して、サンプルを作製した。但し、感光性樹脂層の３６５ｎｍのＯＤを光重合開始剤とＵＶ吸収剤の量で調整した。
［測定例２］
感光性樹脂層ＯＤ 不良率
実施例２Ａ １．５ ０
実施例２Ｂ １．０ ３
実施例２Ｃ ４ ２
実施例２Ｄ ０．８ ７
比較例２Ｃ ０．５ ９
比較例２Ａ ０．１ １８
比較例２Ｂ （ＯＤ５のサンプルは作成途中で膜が脱落してＮＧ）
（不良率は１００個のコンタクトホール中のＮＧ数）
【００４２】
［実施例３］
上記一体型フイルムＲ、Ｇ、Ｂ、Ｋ（ＯＤはそれぞれ１．５，３，２．５，４である。）を用い、プロキシ量を６０μmとし、上記の現像液を用いた他は、特開平１０−２０６，８８８号公報の記述に従って、カラーフィルター付きアクティブマトリスク基板を作製した。このカラーフィルター付きアクティブマトリスク基板は、コンタクトホールの接続不良はほとんど認められなかった。
【００４３】
［実施例４］
上記一体型フイルムＳ（ＯＤ＝２）を用いた他は、実施例３と同様の条件で、層間絶縁膜付きアクティブマトリクス基板を作製することができた。この層間絶縁膜付きアクティブマトリクス基板は、コンタクトホールの接続不良は、ほとんど認められなかった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板への樹脂層の形成方法に関する。更に詳しくは、多人数で見る携帯情報端末、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、アミューズメント機器、テレビジョン装置などの平面ディスプレイ、シャッタ効果を利用した表示板、窓、扉、壁などに用いることができる液晶素子に用いられる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法とこの方法で得られた樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いる液晶素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶素子は、従来、アクティブマトリクス基板とカラーフィルター付ガラス基板の間に液晶を封入して作成されてきたが、近年、高精細化時の開口率ＵＰ等の要求から、ガラス基板側に付与されていたカラーフィルターである着色層や透明層の一部または全て（本発明では樹脂層と呼ぶ事にする）をアクティブマトリクス基板側に形成しようとする試みが行われている。
例えば、有色有機フイルムを用いてアクティブマトリクス基板にカラーフィルターを形成している（例えば、特許文献１参照）。
このアクティブマトリクス基板側に形成された樹脂層上には透明電極が形成され、該樹脂層に形成されたコンタクトホールと呼ばれる穴を介して透明電極と下部の配線と接続される。しかし、該コンタクトホールでは接続不良が発生しやすいことがわかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２０６８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の第１の目的は、樹脂層が形成されたアクティブマトリクス基板のコンタクトホールの接続不良を低減することができる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、前記の方法で得られた樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いた液晶素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記した本発明の目的を達成するための樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法は
＜１＞ アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
＜２＞ 感光性樹脂の光学濃度（ＯＤ）が０．８〜３であることを特徴とする前記＜１＞に記載の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
上記した本発明の目的を達成するための液晶素子は、
＜３＞ 前記＜１＞または前記＜２＞に記載の製造方法で製造された樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いたことを特徴とする液晶素子である。
【０００６】
感光性樹脂層に形成されるコンタクトホールにおいて接続不良が生じる理由は、コンタクトホールの内周面で画素電極の切れが生じるものと考えられる。感光性樹脂層の光学濃度（ＯＤ）と、パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層との距離とを、それぞれ所定の範囲に設定することで、感光性樹脂は、パターン露光と現像の後であっても該感光性樹脂層の少なくとも一部は該加熱温度において流動性を有し、しかるに所望の角度のテーパー状に形成され、画素電極の切れが生じにくくなるものと思われる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の樹脂層付きアクティブマトリクス基板の製造方法によれば、コンタクトホールの接続不良を低減することができる。
また、本発明の液晶素子によると、樹脂層付きアクティブマトリクス基板におけるコンタクトホールの接続不良が低減される結果、液晶素子としての表示品質の低下を防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。
（アクティブマトリクス基板）
本発明において「アクティブマトリクス基板」を「薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、単結晶シリコントランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、ダイオード等が形成されている、液晶素子の基板」と定義する。
【０００９】
（液晶素子）
液晶素子では、アクティブマトリクス基板とこのアクティブマトリクス基板に対向配置された対向基板と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶層が形成されており、アクティブマトリクス基板上に制御信号を伝送する各ゲート信号線と映像信号を伝送する各ソース信号線を公差させて形成し、これらの信号線の公差部位に各スイッチング素子が形成される。
本発明の液晶素子としては、これらの信号線及びスイッチング素子上に感光性樹脂層が形成されたものが好ましい。この感光性樹脂層は、各原色のフィルム層からなるカラーフィルターでもよく、透明な感光性樹脂層からなる層間絶縁膜として機能させるものであってもよく、ブラックマトリックスでもよく、またカラーフィルターと透明な層間絶縁膜の両方をこの順に重ねたものでもよい。
このような液晶素子においては、各ソース信号線、各ゲート信号線、及び各画素電極間に感光性樹脂層が介在されるため、各信号線と各画素電極をオーバーラップさせることができ、画素の開口率を向上させることができる。
【００１０】
（感光性樹脂層を形成する工程）
本発明において、アクティブマトリクス基板に感光性樹脂層を形成する方法は、染色法、電着法、及び顔料分散法等が挙げられるが、染色法、電着法では、カラーフィルターの耐候性に問題があり、顔料分散法では、スピンコート法による成膜時において、顔料の選択や顔料によるアクティブマトリクス基板の汚染等が問題が生じやすいので、ラミネート方式による感光性樹脂層の形成方法が最も好ましい。
【００１１】
前記のラミネート方式による感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、感光性樹脂層は特開平５−７２７２４号公報に記述されている感光性転写材料、すなわち一体型となったフイルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フイルムの構成の一例は支持体／熱可塑性樹脂層／酸素遮断膜／感光性樹脂層／保護フイルムである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報を参照）
【００１２】
＜感光性樹脂層＞
本発明における感光性樹脂層は、光学濃度（ＯＤ）が０．５〜４であることが必要であり、好ましくは０．８〜４、より好ましくは０．８〜３、さらに好ましくは１．０〜２．５である。
本発明における光学濃度（ＯＤ）は、感光性樹脂層の被測定部分に入射する波長３６５ｎｍの光の強度をＩ0 とし、感光性樹脂の被測定部分を透過して出射した波長３６５ｎｍの光の強度をＩとしたとき、下記の式で表される。
【００１３】
【数１】
【００１４】
感光性樹脂層は、感光性樹脂層組成物における光重合開始剤、ＵＶ吸収剤等の配合量を調整することによっての光学濃度（ＯＤ）を調整することができる。
本発明において、感光性樹脂層のＯＤが０．５より小さいと、コンタクトホールの形成が不充分でコンタクトホールの接続不良が生じやすく、一方、感光性樹脂層のＯＤが４、特に５を超えると、感光性樹脂層組成物の性状が好ましくなく、所定の感光性樹脂層の形成が困難となる。
【００１５】
感光性を付与するための光重合系は表面硬化性のものが好ましい。表面硬化性を得るに酸素遮断膜を付与する、不活性ガス中や真空中で露光する、化学増幅系など酸素障害の無い重合系を用いる。
感光性樹脂組成物としては、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂組成物、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合開始剤、光重合性モノマーおよびバインダーを基本構成要素として含む感光性樹脂である。
本発明の感光性樹脂層の素材としては公知の、例えば特願平２−８２２６２に記載されている感光性樹脂がすべて使用できる。
該感光性樹脂層には、アルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【００１６】
該感光性樹脂層には、特開平１１−１３３６００号公報記載の「重合性化合物Ｂ」「重合開始剤Ｃ」「界面活性剤」「接着助剤」や、その他の組成物が利用できる。
【００１７】
該感光性樹脂層には、染料、顔料、紫外線吸収剤を必要により添加する。該顔料は感光性樹脂層中に均一に分散されており、好ましくは５μｍ以下の粒径、特に好ましくは１μｍ以下の粒径を有していなければならない。
好ましい染料ないし顔料の例は次の通りである。ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン。
さらに、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４を挙げることができる。
【００１８】
好ましい紫外線吸収剤は、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【００１９】
＜酸素遮断膜＞
本発明では感光性樹脂層の上にさらに酸素遮断膜を形成して露光することが好ましい。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組み合わせである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報参照。）
【００２０】
（感光性樹脂層をパターン露光する工程）
＜パターン露光＞
本発明において、パターン露光とは、画像パターンが形成されたシャドウマスクを介して感光性樹脂層にパターン化された光を照射することである。このパターン露光時において、パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が１６〜３００μｍであることが必要であり、本発明においては２０〜２００μｍとする。該距離の最も好ましくは３０〜１００μｍである。
【００２１】
前記の距離とは、厳密には露光マスクの感光性樹脂層に対面する面と、感光性樹脂層表面との距離を言い、この距離が１６μｍ未満及び３００μｍを超える範囲では、コンタクトホールにおける画素電極の接続不良が生じやすい。
【００２２】
パターン露光における露光量は、（Ｎ段目の透過率％）＝１００／（（１．４１４）∧（Ｎ−１））となるように形成されたステップウェッジ付露光マスクで評価した際に、クリア段（感光性樹脂層がすべて除去できた段のうちの最小段）＝２／ベタ段（感光性樹脂層が完全に残っている段のうちの最大段）＝１程度からクリア段＝８／ベタ段＝５が好ましい。
【００２３】
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程においては、ラミネート方式により感光性樹脂層を形成する際に、それぞれの色の感光性樹脂層の光学濃度（ＯＤ）を前記範囲に調整し、それぞれの感光性樹脂層のパターン露光を前記した条件で行なうことが望ましい。
【００２４】
（感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程）
感光性樹脂層の未硬化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。該現像処理の後に蒸留水、イオン交換水、超純水等による水洗工程を入れることが好ましい。
【００２５】
この工程で使用される現像液は、特に制約はなく、公知の現像液を使用することができるが、現像液は感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましい。現像液としては、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含む現像液が好ましいが、さらに水と混和性を有す有機溶剤を少量添加しても良い。現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。水と混和性を有する有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等がある。該有機溶剤の濃度は０．１重量％〜３０重量％である。さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜１０重量％が好ましい。現像方式は、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。
【００２６】
これらの現像によって感光性樹脂層にコンタクトホールが形成されるが、このコンタクトホールは、テーパー面（側面）の角度が基板に対し、３０°〜６０°の角度に形成されていることが好ましい。本発明では、コンタクト部形成後、透明電極形成前にアッシングやエッチングを実施し、コンタクト部の配線上を洗浄することが望ましい。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
［一体型フイルムの作成］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体に下記の処方Ｈ１、Ｂ１から成る塗布液を塗り付け、さらに下記感光性樹脂層溶液Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓを塗り付け乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断膜と各種乾燥膜厚（Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂは２μｍ、Ｓは２．８μｍ）の感光層を設け、保護フイルムでカバーした。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜と感光層が一体となったフイルムを作成し、それぞれのサンプル名を、使用した感光性樹脂層溶液の記号Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｓとした。
【００２８】
＜熱可塑性樹脂層処方Ｈ１＞
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ３００重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体 ８０重量部
・フタル酸ジブチル ８０重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００２９】
＜酸素遮断膜処方Ｂ１＞
・ ポリビニルアルコール ２００重量部
（水を適宜添加）
【００３０】
＜感光性樹脂層溶液Ｋ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ６０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部
・ミヒラーズケトン ３重量部
・２-（ｏ-クロロフェニル）-４，５-ジフェニルアミダジール二量体
３重量部
・カーボンブラック ６重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３１】
＜感光性樹脂層溶液Ｒ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３２重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３１重量部
・光重合開始剤 ２．５重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・ＵＶ吸収剤 １２重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
・フェノチアジン ０．１重量部
・ＰＲ２５４ ９．６重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３２】
＜感光性樹脂層溶液Ｇ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３０重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２９重量部
・光重合開始剤 １．５重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・ＵＶ吸収剤 ９．８重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
・ＰＹ１３８ １０．１重量部
・ＰＧ３６ ２０重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３３】
＜感光性樹脂層溶液Ｂ＞
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ４２重量部
・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３２重量部
・光重合開始剤 １．６重量部
２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−
１，３，４−オキサジアゾール
・フェノチアジン ０．２重量部
・ＰＢ１５：６ ２４重量部
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３４】
＜感光性樹脂層溶液Ｓ＞
・ポリマー ２４重量部
スチレン／マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物（共重合比６８／３２）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２０重量部
・光重合開始剤 ＩＲＧ１８４（CAS947-19-3） １重量部
・ＵＶ吸収剤 １２重量部
７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−
ジエチルアミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン
（メチルエチルケトンを適宜添加）
【００３５】
［実施例１］コンタクトホール接続性の模擬テスト
アクティブマトリクス基板の配線部分の材料であるアルミニウムの板材を用いた模擬テストについて記述する。
【００３６】
＜基板の洗浄＞
縦３２０ｍｍ横４００ｍｍのアルミニウム基板を、室温の超純水中で超音波洗浄１分後、エアーブローで水切り後、乾燥した。
＜樹脂層の形成＞
前記一体型フイルムＲ（感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでのＯＤは１．５）の保護フイルムを剥離後、ラミネートした。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機で、露光マスク下面と該感光性フイルムの間の距離（本実施例ではこの距離を「プロキシ量」と呼ぶ事にする）を６０μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光後、下記組成の現像液Ｐ１にて３８℃３５秒シャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
現像液Ｐ１の組成
・ 超純水 ９７重量部
・トリエタノールアミン ３重量部
（アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ）
【００３７】
引き続き下記組成の現像液Ｃ１で３３℃２６秒シャワー現像し感光性樹脂層を現像し、パターン画像を得た。
現像液Ｃ１
・モノエタノールアミン ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
・界面活性剤 ５ｇ／Ｌ
【００３８】
引き続き、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で１００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、温風循環型クリーンオーブンで２２０℃１３０分熱処理した。このサンプルを「実施例１Ａ品」とした。
同様の方法で「実施例１Ｂ品」〜「実施例１Ｇ品」を作製した。但しこの場合は、プロキシ量を変化させた。
【００３９】
［比較例］
実施例１と同様にプロキシ量を変えてサンプル作成した（但しプロキシ量０は、プロジェクション型露光機で感光性樹脂層面に焦点を結ぶ事で実施した）。
［評価例１］
ＩＴＯターゲットを設置したスパッタ装置にサンプルを入れ、真空度５×１０-1Ｐａ、温度１８０℃で９０分予備加熱後、アルゴン８０ 酸素６の割合の混合ガスを流しながら２０分間スパッタし０．２μｍのＩＴＯ膜を形成した。
サンプルを冷却後、コンタクトホール部の導通テストを行い、不良率を求めた。
プロキシ量（μm） 不良率
実施例１Ａ ６０ ０
実施例１Ｂ ３０ １
実施例１Ｃ １００ ２
実施例１Ｄ ２０ ４
実施例１Ｅ ２００ ７
実施例１Ｆ １６ ８
比較例１Ｃ ３００ １０
比較例１Ａ ５００ ４３
比較例１Ｂ ０ ３１
（不良率は１００個のコンタクトホール中のＮＧ数）
【００４０】
［実施例２］
実施例１と同様にプロキシ量６０でパターン露光して、サンプルを作製した。但し、感光性樹脂層の３６５ｎｍのＯＤを光重合開始剤とＵＶ吸収剤の量で調整した。
【００４１】
［比較例２］
実施例１と同様にプロキシ量６０でパターン露光して、サンプルを作製した。但し、感光性樹脂層の３６５ｎｍのＯＤを光重合開始剤とＵＶ吸収剤の量で調整した。
［測定例２］
感光性樹脂層ＯＤ 不良率
実施例２Ａ １．５ ０
実施例２Ｂ １．０ ３
実施例２Ｃ ４ ２
実施例２Ｄ ０．８ ７
比較例２Ｃ ０．５ ９
比較例２Ａ ０．１ １８
比較例２Ｂ （ＯＤ５のサンプルは作成途中で膜が脱落してＮＧ）
（不良率は１００個のコンタクトホール中のＮＧ数）
【００４２】
［実施例３］
上記一体型フイルムＲ、Ｇ、Ｂ、Ｋ（ＯＤはそれぞれ１．５，３，２．５，４である。）を用い、プロキシ量を６０μmとし、上記の現像液を用いた他は、特開平１０−２０６，８８８号公報の記述に従って、カラーフィルター付きアクティブマトリスク基板を作製した。このカラーフィルター付きアクティブマトリスク基板は、コンタクトホールの接続不良はほとんど認められなかった。
【００４３】
［実施例４］
上記一体型フイルムＳ（ＯＤ＝２）を用いた他は、実施例３と同様の条件で、層間絶縁膜付きアクティブマトリクス基板を作製することができた。この層間絶縁膜付きアクティブマトリクス基板は、コンタクトホールの接続不良は、ほとんど認められなかった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製造方法で製造された樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いた液晶素子。
【請求項１】
アクティブマトリクス基板上に、光重合開始剤、光重合性モノマー、バインダー、及び紫外線吸収剤を含む感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該感光性樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有し、該感光性樹脂層の波長３６５ｎｍでの光学濃度（ＯＤ）が０．８〜４であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が２０〜２００μｍである樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製造方法で製造された樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いた液晶素子。
【公開番号】特開２０１１−７６１１６（Ｐ２０１１−７６１１６Ａ）
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２９４０１５（Ｐ２０１０−２９４０１５）
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【分割の表示】特願２０００−１０１４５６（Ｐ２０００−１０１４５６）の分割
【原出願日】平成１２年４月３日（２０００．４．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【分割の表示】特願２０００−１０１４５６（Ｐ２０００−１０１４５６）の分割
【原出願日】平成１２年４月３日（２０００．４．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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