絶縁物品およびその製造方法
【課題】表面延設方向における電気絶縁性を示す絶縁物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部２と、基部２の表面の上に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３とを有する。網目状クラックによりクロム膜３の膜延設方向（Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。
【解決手段】絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部２と、基部２の表面の上に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３とを有する。網目状クラックによりクロム膜３の膜延設方向（Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は絶縁物品およびその製造方法に関する。絶縁物品としては、例えば、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は装飾クロムめっき製品およびその製造方法を開示する。このものによれば、樹脂製の基部、下地銅めっき膜、ニッケルめっき膜、電気めっき等で形成されたクロムめっき膜、不導態膜の順に積層されてクロムめっき製品が形成されている。このものによれば、製造後において、クロムめっき膜にマイクロクラックが自然発生し、耐食性を低下させることに着目している。電気めっきで形成されたクロムめっき膜は、高い電着応力を残留させていたためマイクロクラックを自然発生させるおそれがある。そしてこのものでは、製造段階で、マイクロクラックを予めクロムめっき膜に形成しておき、その後、クロムめっき膜を不導態化処理させることによりクロムめっき膜の上に不導態膜を形成させることにしている。不導態膜はマイクロクラックの底まで形成されているため、高い耐食性を示すことができる。これにより装飾クロムめっき製品の耐食性を改善させている。
【０００３】
特許文献２は、アンテナ部を搭載したドアハンドルへ被着させる被膜として、金属微粒子を堆積させた金属膜を用いるドアハンドル装置を開示する。このものによれば、金属膜により金属光沢を発揮させて意匠性を高めている。このものによれば、金属微粒子で成膜された金属膜は微視的には不連続部分を有するため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。
【０００４】
特許文献３は、アンテナ部を内蔵するドアハンドルにスパッタリングにより金属薄膜を形成するアンテナ内蔵装置を開示する。スパッタリングにより形成された金属薄膜は、厚みが薄いため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−５０６５６号公報
【特許文献２】特開２００５−１１３４７５号公報
【特許文献３】特開２００７−１４２７８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に係る技術は、装飾クロムめっき製品を対象とするものであるため、電気絶縁性および導電性を問うものではない。しかしながらクロムめっき膜の下地としてニッケルめっき膜がこれの表面延設方向に沿って広く延設されているため、ニッケルめっき膜は二次元的に広く延設されており、ニッケルめっき膜はこれの二次元方向（膜延設方向）における良好な導電性を示してしまう。結果として、特許文献１に係る技術は、電気絶縁性を必要とする分野には適用することはできない。
【０００７】
特許文献２に係る技術は、金属微粒子で成膜された金属塗装膜は微視的には金属の不連続部分を有するが、膜延設方向の電気絶縁性は必ずしも満足できるものではない。特許文献３に係る技術は、一般的なスパッタリングにより形成された膜であるため膜延設方向には連続膜であり、膜延設方向の電気絶縁性は得られない。結果として、特許文献２，３に係る技術は、膜延設方向の電気絶縁性を必要とする分野には適用するには限界がある。
【０００８】
本発明は上記した実情に鑑みてなされたものであり、金属光沢性を示すと共に表面延設方向における良好な電気絶縁性を示す絶縁物品およびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）様相１の本発明に係る絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部と、基部の表面に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成され且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜とを具備する。
【００１０】
基部は、絶縁物品のベースとなる部位である。基部は、基部本体と、基部本体に積層された中間膜とを有する構成にできるが、中間膜を積層していない場合も含む。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クラック溝を形成する網目状クラックがクロム膜に形成されている。網目状クラックのクラック溝は、網目状クラックで包囲され互いに隣設する島状部同士の導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向の電気絶縁性を高めることができる。このため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。膜延設方向とは、クロム膜の厚みを無視するとき、クロム膜の膜表面が延設されている方向を意味する。ここで、絶縁物品として、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。ハンドルとしてはドアハンドルが例示される。ドアハンドルとしては、自動車、トラック等の車両等に代表される可動物体用、建築物用等が挙げられる。
【００１１】
（２）様相２の本発明に係る絶縁物品によれば、上記様相において、クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、クロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する。クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、保護膜と反対側に位置しつつクロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する。このセンサ部は、保護膜と反対側に位置しつつ、膜延設方向に電気絶縁性を示すクロム膜で覆われているため、タッチセンサ部の付近の電気絶縁性が確保され、静電容量型タッチセンサ部のセンサ機能を良好に発揮できる。
【００１２】
（３）様相３の本発明に係る絶縁物品によれば、上記様相において、クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、クロム膜の外方から伝搬される電波を受信すると共に、クロム膜で覆われたアンテナ部を有する。一般に、クロム膜等の金属膜はこれの厚み方向の電波を遮蔽する作用がある。しかしクロム膜に網目状クラックが形成されており、網目状クラックの部分はクロム成分（金属成分）ではないため、クロム膜は厚み方向において電波透過性を示すことができる。従って、クロム膜の裏側にアンテナ部が設けられているときであっても、クロム膜の外方から伝搬される電波をクロム膜の網目状クラックに透過させ、その電波をアンテナ部に受信させることができる。
【００１３】
（４）様相４の本発明に係る絶縁物品は、上記様相において、基部はドアハンドル本体である。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜においてこれの膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。
【００１４】
（５）様相５の本発明に係る絶縁物品の製造方法は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜を形成するクロム膜形成工程を備えている。成膜工程では、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施す。これにより、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得る金属光沢をもつクロム膜を、基部に積層させる。成膜処理としては、物理的成膜処理、化学的成膜処理が挙げられる。物理的成膜処理としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。成膜処理によれば、成膜速度等の成膜条件によっては、網目状クラックをもつクロム膜が形成されることがある。
【００１５】
（６）様相６の本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、クロム膜形成工程は、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得るクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。
【００１６】
成膜工程後において、少なくともクロム膜を加熱処理する。これにより、成膜時に網目状クラックが形成されていないクロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱温度としては６０℃以上、８０℃以上とすることができ、温度範囲としては５０〜２００℃の範囲内、６０〜１５０℃の範囲内が例示される。
【００１７】
好ましくは、加熱処理後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させることができる。これにより網目状クラックを備えるクロム膜を保護させることができる。保護膜は透明または半透明であるため、クロム膜の光沢を保護膜の外方に発揮させることができる。ここで、クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラックがクロム膜に形成されているため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。また一般に、網目状クラックを備えていないクロム膜等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性（電波減衰性）がある。しかし網目状クラックを持つクロム膜は、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００１８】
（７）様相７の本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、上記した請求項において、基部はドアハンドル本体である。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る絶縁物品によれば、クロム膜により金属光沢を発揮させつつも、絶縁物品の表面延設方向における良好な電気絶縁性を確保している。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】実施形態１に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図２】（ａ）（ｂ）は実施形態２に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図３】実施形態３に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図４】実施形態４に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図５】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図６のＶ−Ｖ線に沿った断面図）である。
【図６】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す正面図である。
【図７】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図）である。
【図８】網目状クラック無し（加熱処理なし）と網目状クラック有り（加熱処理有り）について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：０．６ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。
【図９】加熱処理前と加熱処理後について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：２ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。
【図１０】試験例３に係り、試験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
基部は、少なくとも表面が電気絶縁性を有する。好ましくは、基部は、基部本体と、基部本体に積層された電気絶縁性を持つ材料で形成された中間膜とを有する構成にできる。あるいは、基部全体を、電気絶縁性をもつ材料で形成しても良い。クロム膜は質量比でクロムを６０％以上含有する膜をいう。クロム膜は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。他の成分としては、バナジウム、ニッケル、モリブデン、鉄のうちの少なくとも１種が挙げられ、クロム膜の全体を１００％とするとき、質量比で、２０％以下、１０％以下、５％以下で含有されていても良い。クロム膜の厚みとしては特に限定されるものではないが、１０〜５００ナノメ−トル、１０〜３００ナノメ−トル、１０〜２００ナノメ−トルが例示される。クロム膜の厚みが厚くなりすぎると、コスト高となり、更に電波透過性が低下する恐れがある。クロム膜は物理的成膜方法または化学的成膜方法で成膜できる。場合によっては電気めっきでも良い。物理的成膜処理としてはドライプロセスが好ましい。具体的には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。場合によっては電気めっき等のウェットプロセスでも良い。クロム膜には網目状クラックが形成されている。クロム膜の全域に網目状クラックが形成されていることが好ましい。場合によっては、クロム膜のうち電気絶縁性を要請される一部のみに、網目状クラックが形成されていても良い。網目状クラックで包囲された島状部については、隣設する島状部が互いに接触しなければ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が確保される。電気絶縁性を考慮すると、網目状クラックのクラック溝幅は大きい方が好ましい。すなわち、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が大きいと、網目状クラックで区画される島状部が互いに接触しにくくなるため、クロム膜の電気絶縁性を効果的に高くできるが、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が小さいと、網目状クラックで区画される島状部が接触する確率がある。一方、網目状クラックのクラック溝幅が大きくなりすぎると、クラックが目視でわかるようになるなど金属光沢性が低下するおそれがある。かかる点を考慮し、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅としては、網目状クラックのサイズ、クロム膜の厚み等にもよるが、１〜５００ナノメートルの範囲、５〜４００ナノメートルの範囲、１０〜３００ナノメートルの範囲、５〜２００ナノメートルの範囲にできる。 ５０〜１０００ナノメートルの範囲にできる。
【００２２】
本発明に係る絶縁物品の製造方法の一態様としては、次を採用できる。すなわち、（ｉ）電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜に網目状クラックを形成し、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を実施する。
【００２３】
更に、他の態様として、（ｉ）少なくとも表面が電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を順に実施する。加熱工程において網目状クラックを形成したり、クラック溝幅を増加したりできるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱後にクロム膜が常温に戻っても、クラック溝幅は増加したままであることが確認されている。クロム膜の厚みを示す断面において、島状部の周縁が基部から離間するように反っているためと考えられる。加熱工程は、電気炉による加熱に限定されず、ビーム径を拡大させて単位面積あたりのエネルギ密度を低下させたレーザビームによる加熱、マイクロ波による加熱、クロム膜の内部に高周波の誘導電流を通電させる誘導加熱等を採用しても良い。
【００２４】
（実施形態１）
図１は実施形態１の概念を示す。図１はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図１に示すように、絶縁物品は、（ｉ）基部２と、（ｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められた金属膜として機能するクロム膜３と、（ｉｉｉ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。
【００２５】
基部２は、電気絶縁性をもつ樹脂を基材とする基部本体２ａと、基部本体２ａの表面２ｓに積層された電気絶縁性をもつ材料である樹脂を塗装等で積層して形成された中間膜２ｃ（例えば下塗り塗装膜）とを有する。基部本体２ａを形成する樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれでも良く、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ＡＢＳ（ポリプロピレン・アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合合成）樹脂、変成ＰＰＥ樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）樹脂、ＰＥＫＫ（ポリエーテルケトンケトン）樹脂、ＰＫＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂等の１種または２種以上が例示される。よってアロイ樹脂としても良い。例えば、ＰＣ／ＰＢＴ樹脂、ＰＣ／ＡＢＳ樹脂としても良い。中間膜２ｃは平滑性を得るのに有効であり、塗装膜で形成できる。
【００２６】
一般に、樹脂成型品の表面は相当の表面粗さがあり、５００nm以下の薄い金属膜を成膜した場合、金属膜表面も樹脂の表面粗さを反映した凹凸が残る。この場合、乱反射により、金属調ではあるが、鏡面のような光沢は得られ難い。そのため、中間膜２ｃにより平滑性を確保することで、鏡面状の金属光沢が実現できる。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としては、スプレー等でクリア上塗り塗装膜にでき、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキド樹脂等が例示される。但しこれらに限定されるものではない。熱乾燥により保護膜４を硬化させ得る。中間膜２ｃの厚みｔｍは例えば５〜１００マイクロメートル、特に１０〜４０マイクロメートルにできる。クロム膜３の厚みｔｃｒは金属光沢性絶縁物品の種類によって相違するものの、例えば、１０〜１０００ナノメートル、１０〜５００ナノメートル、２０〜５００ナノメートル、２０〜３００ナノメートルにできる。クロム膜３の厚みが厚くなり過ぎると電波透過性が低下する恐れがあるため、膜厚は５００ナノメートル以下が望ましい。また、クロム膜３の厚みが１０ナノメートル以下になると基材が透けて見える恐れがあるため、１０ナノメートル以上が好ましい。保護膜４の厚みｔｐは例えば２〜２００マイクロメートル、特に１０〜５０マイクロメートルにできる。保護膜４は、５００ナノメートル以下の薄いクロム膜３に傷やはがれが生じることを保護する効果を持つ。平滑性のある中間膜２ｃの上に成膜したクロム膜３はクロムを母材とすると共に、鏡面状の金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。クロム膜３は、スパッタリング等の成膜手段によりその膜の面内方向に引っ張り方向の内部応力が残留し得るような条件で成膜され、成膜中あるいはその後の熱処理により、網目状クラック３ｃが生成している。このため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品は、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における良好な電気絶縁性を確保している。クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めるためには、網目状クラック３ｃの底側は中間膜２ｃに到達していることが好ましい。更に、クロム膜３の厚み方向（矢印Ｔ方向）においても、クロム膜３の下地に形成されている中間膜２ｃは樹脂で形成されており、電気絶縁性を示すため、絶縁部品は厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３は、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００２７】
なお、クロム膜３、保護層４のシート抵抗については、１×１０3Ω／□以上が好ましく、特に、１×１０4Ω／□以上、１×１０5Ω／□以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。また、基部２の体積抵抗としては、１×１０5Ω・cm以上が好ましく、１×１０6Ω・cm以上、１×１０7Ω・cm以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。
【００２８】
上記した絶縁物品の製造方法は次のようである。まず、電気絶縁性をもつ樹脂材料を母材として形成された中間膜２ｃが積層された基部本体２ａを用いる。次に、基部本体２ａの中間膜２ｃに成膜処理を施すことにより、クロム膜３を中間膜２ｃに積層させる成膜工程を実行させる。成膜処理としては、スパッタリングを採用できる。クロム膜３は、金属光沢をもち且つクロムを母材とする。クロム膜３の純度としては高くできる。
【００２９】
成膜速度等の成膜条件によっては、クロム膜３に網目状クラック３ｃが成膜中に形成されたり、形成されなかったりする。成膜時の引張応力が影響しているものと推察される。本発明者が行った試験によれば、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。その理由としては、成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪みが大きくなるためと推察される。
【００３０】
次に、中間膜２ｃを介して積層されているクロム膜３をもつ基部本体２ａを、所定温度に保持した電気炉の炉室に装入し、クロム膜３を基部２と共に所定温度（６０〜１５０℃の範囲の任意値）に所定時間（１〜６０分間の範囲内の任意値）に加熱させ、その後、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行させる。所定温度および所定時間は、絶縁物品の種類、クロム膜３の厚み、クロム膜３の純度等によって適宜選択される。冷却は自然冷却とすることができる。場合によっては、水、ミスト、気体等の冷媒によって、クロム膜３を強制的に冷却させても良い。上記した加熱処理により、基部本体２ａに積層されているクロム膜３（成膜時に網目状クラックが形成されなかったクロム膜３）において網目状クラック３ｃを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げ、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高める。クロム膜３は薄膜であるため、網目状クラックはクロム膜３の厚み方向の全体に形成されているものと考えられる。
【００３１】
このように成膜処理後においてクロム膜３を基部本体２ａと共に加熱処理することにより、クロム膜３において網目状クラック３ｃを形成するか、または、形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めることができる。その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に塗装等で積層させる。これによりクロム膜３を保護膜４で保護させる。保護膜４は透明または半透明であるため、クロム膜３の光沢を保護膜４の外方に視認させることができる。場合によってはクロム膜３の耐久性が確保される場合には、保護膜４を廃止することもできる。
【００３２】
本実施形態によれば、クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラック３ｃがクロム膜３に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。網目状クラック３ｃのクラック溝幅が広いと、網目状クラック３ｃで区画される島状部が互いに離間し、クラック溝の溝幅が広がり、クロム膜３の電気絶縁性を高くできる。かかる点を考慮し、網目状クラック３ｃのクラック溝幅としては、５０〜１０００ナノメートルの範囲、１０〜５００ナノメートルの範囲、２０〜４００ナノメートルの範囲、３０〜３００ナノメートルの範囲、４０〜２００ナノメートルの範囲にできる。但しこれらに限定されない。従って、絶縁部品はクロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を確保している。更に、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃについても、高い絶縁性をもつ樹脂を母材として形成されているため、膜延設方向（矢印Ａ１方向）においても、厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を更に高めることができる。
【００３３】
以上説明したように本実施形態に係る絶縁物品によれば、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、基部２の表面延設方向（クロム膜３の膜延設方向）における電気絶縁性を確保している。クロム膜３のクロムは不働態化するため、腐食の進行が抑制される。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００３４】
なお、特許文献１（特開２００８−５０６５６号公報）では、クロム膜３の下地となる中間膜はニッケル膜であるため、ニッケルとクロムとの電位差に起因する腐食が発生するおそれがある。この点本実施形態によれば、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃは樹脂を母材とするため、腐食の不具合が抑制されている。クロム膜３は、樹脂を母材する中間膜２ｃおよび保護膜４で挟持されているため、電位差に起因する腐食が抑制されている。上記したニッケル膜は導電性を有すること、電波透過性が悪いこと、静電容量型タッチセンサの誤動作につながるおそれがある。
【００３５】
（実施形態２）
図２（ａ）（ｂ）は実施形態２の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図２（ａ）（ｂ）はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図２（ａ）では、クロム膜３と基部２の表面との間に、中間膜は形成されていない。樹脂を母材とする基部２の表面にクロム膜３が直接積層されており、クロム膜３は網目状クラックを備えている。網目状クラック３ｃの底側は基部２に到達していることが好ましい。この場合、基部２の母材はクロム膜３との密着性が良いものとされている。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３６】
図２（ｂ）では、クロム膜３と樹脂製の基部本体２ａとの間に、中間膜２ｃは塗装膜等で形成されている。クロム膜３と基部本体２ａとの接合性を高める等の理由により、中間膜２ｃは複膜であり、樹脂を母材とする第１中間膜２ｃａと、第１中間膜２ｃａと異なる樹脂を母材とする第２中間膜２ｃｂとで形成されている。第１中間膜２ｃａおよび第２中間膜２ｃｂにより、クロム膜３と基部本体２ａとの間における熱膨張係数の差を調整することができる。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３７】
（実施形態３）
図３は実施形態３の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図３に示すように、基部本体２ａには、クロム膜３の裏側にセンサ部５が搭載されている。センサ部５は保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。従って図３に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、センサ部５がこの順に配置されている。センサ部５としては、静電容量センサ、渦電流センサ等が例示される。上記したようにセンサ部５は、クロム膜３の表面に沿って延設されている膜延設方向（矢印Ａ１方向）において電気絶縁性を示すクロム膜３で覆われている。このためクロム膜３は良好な金属光沢性を示しつつも、センサ部５を配置する環境の電気絶縁性が良好に確保され、センサ部５はセンサ機能を良好に発揮できる。このように金属光沢性をもつクロム膜３がセンサ部５を包囲しているものの、センサ部５のセンシング性能に影響を与えない。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３８】
（実施形態４）
図４は実施形態４の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図４に示すように、基部本体２ａには、保護膜４の外方から伝搬される電波を受信すると共にクロム膜３の裏側に位置するようにアンテナ部５７が搭載されている。アンテナ部５７の全域は、クロム膜３の裏側においてつまり保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。図４に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、アンテナ部５７がこの順に配置されている。
【００３９】
一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向の電波透過性を示さない。しかしクロム膜３の全域には網目状クラック３ｃが形成されている。網目状クラック３ｃの部分はクロム成分ではなく隙間であるため、クロム膜３はこれの厚み方向において電波透過性を高めることができる。従って、保護膜４およびクロム膜３の裏側にアンテナ部５７が設けられているときであっても、保護膜４の外方から伝搬される電波をクロム膜３の網目状クラック３ｃに透過させ、その電波をアンテナ部５７に受信させることができる。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００４０】
（実施形態５）
図５〜図７は本発明を車両または建築物のドアハンドル６に適用した実施形態５の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図５は、ドア６００のドアパネル６１０に取り付けられているドアハンドル６の断面を示す。ドアハンドル６は、ユーザが携帯するスマートキーの接近または離間に基づいてドアロックの施錠および解錠を行うスマートキーシステムに使用される。図５に示すように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）電気絶縁性をもつ材料である樹脂を母材とするように塗装された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を塗装等して形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。
【００４１】
図５に示すように、ドアハンドル本体７は、第１突起７１を有する一端部７２と、第２突起７３を有する他端部７４と、一端部７２および他端部７４を繋ぐ掴み用の連設部７５ともつ。ドアハンドル本体７は、ドアパネル６１０の凹状の壁６１０ｃとの間に、指挿入用の空間６２０を形成する。図５に示すように、連設部７５を含むドアハンドル本体７の表面の成膜面には、中間膜２ｃ、クロム膜３および保護膜４がこの順に積層されている。ドアハンドル本体７を形成する樹脂としてはＰＣおよびＰＢＴの混合樹脂が例示される。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリルウレタン系樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としてアクリルウレタン系樹脂が例示される。但しこれらに限定されるものではない。
【００４２】
クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。網目状クラック３ｃがクロム膜３のほぼ全域に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性が高められている。従って、クロム膜３は、金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。従って、発信器を搭載するキーなどの部材を保持するユーザが接近するとき、発信器が発生させる電波をアンテナ部５７が受信し、図略の制御部は、ドアのロックを解除させる信号をドアロック装置に出力させ、ドアを自動解錠させることができる。
【００４３】
図５に示すように、基部本体２ａの空洞部１ｘには、クロム膜３の裏側に位置するように、センサ部として機能する第１タッチセンサ部５１（ロックセンサ）および第２タッチセンサ部５２（アンロックセンサ）、アンテナ部５７、検出回路をもつ回路基板５９が内蔵されている。外方からドアハンドル６の内部を連設部５３の仮想的な法線Ｗ１に沿って矢印Ｗ２方向（図７参照）に投影するとき、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はクロム膜３で覆われている。第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はそれぞれ静電容量型のタッチセンサで形成されている。静電容量型のタッチセンサは、ユーザの指先等の接触または接近を対向電極間の静電量変化量として検出するセンサである。第１タッチセンサ部５１はユーザの施錠（ロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御部に入力させ、制御部によりドアをロックさせるためのロックセンサを形成する。第２タッチセンサ部５２はユーザの解錠（アンロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御に入力させ、制御部によりドアをアンロックさせるためのロックセンサを形成する。第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２とは互いに電気的に導通しないように構成されている。この構成で各センサが正しく機能するためにはクロム膜３は膜延設方向（矢印Ａ４方向）において電気絶縁性をもつことが必要である。
【００４４】
仮に、クロム膜等の金属膜が網目状クラックを有せず、膜延設方向において連続しており導電性を示す場合には、ロックするためにユーザが指を第１タッチセンサ部５１に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第２タッチセンサ部５２の静電容量が変化するおそれがある。逆にアンロックするためにユーザが指を第２タッチセンサ部５２に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第１タッチセンサ部５１の静電容量が変化するおそれがある。すなわち、金属膜とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こり易いため、施錠用、解錠用のいずれのセンサも、ユーザの指先等が施錠・動作すべきところでない場所に近づいた際に、動作してしまう可能性が発生し、タッチセンサ部５１，５２の誤動作の原因となり得る。
【００４５】
そこで本実施形態によれば、クロム膜３が延びている膜延設方向（矢印Ａ４方向等）における電気絶縁性が確保されている。ここで、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２は、金属光沢を示すクロム膜３で覆われているものの、クロム膜３は網目状クラック３ｃを備えているため、これの膜延設方向（矢印Ａ４方向等）において高い電気絶縁性を示す。このため、金属光沢性を発揮させるものの網目状クラック３ｃにより膜延設方向において良好な電気絶縁性を示すクロム膜３により、ユーザの意思と異なるタッチセンサ部の静電容量変化を抑制できる。金属層であるクロム膜３とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こることが抑制される。従って、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はセンシング機能を良好に発揮でき、誤作動が抑えられる。図６において矢印Ｕ方向は上方を示し、矢印Ｄ方向は下方を示す。
【００４６】
（試験例１）
本試験例では平板試験片で行った。製造された平板試験片を模式的に示す断面は、図１に相当する。平板試験片は平板状（５０ミリメートル×５０ミリメートル）をなしており、図１に示すように、（ｉ）樹脂を母材とする基部本体２ａと、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。平板試験片のシート抵抗値を測定するときには、保護膜４は積層しなかった。ここで、基部本体２ａを形成する樹脂としてはＰＣ/ＰＢＴ（ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート）樹脂とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。
【００４７】
上記した平板試験片の製造方法は次のようにした。まず、基部本体２aにＵＶ硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、ＵＶ硬化炉で硬化させることによって基部本体２ａに中間膜２ｃを積層させた。その後、マグネトロンスパッタリング装置を用い、スパッタリング方法により、クロムを母材とするクロム膜３を基部本体２ａの中間膜２ｃの上に積層させた。成膜ガスとしてアルゴンガスを導入し、０．３Ｐａとなるようにした後、所定のプラズマ電力を投入させ、ターゲット付近にプラズマを発生させた。これによりアルゴンガスをターゲットに衝突させ、叩き出されたクロム成分を中間膜２ｃに堆積させてクロム膜３を積層させた。ここで、上記したプラズマ電力は成膜速度および膜厚に影響を与え、ひいては網目状クラックの性状に影響を与える。成膜速度や成膜厚み等の条件によっては、クロム膜３に網目状クラックが形成されたり、あるいは、クロム膜３に網目状クラックが形成されなかったりすることがある。本発明者が行った試験によれば、一般的には、プラズマ電力が大きいほど、クロム膜３の成膜速度が速かった。また、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。クロム膜３の成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪み（残留引張応力等）が大きくなり、網目状クラックが形成され易くなるためと推察される。なお、成膜時の成膜ガス圧力は０．３Ｐａとしたが、これに限定されない。好ましくは、成膜ガス圧力は０．２〜０．７Ｐａがよい。
【００４８】
次に、基部本体２ａに積層されているクロム膜３を、所定温度（１００℃）の温度に設定されている電気炉内で所定時間（３０分間）加熱させ、その後、電気炉から取り出して自然冷却させ、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行した。上記した加熱処理により次の効果が得られた。クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されていない場合には、加熱処理によりクロム膜３に網目状クラックを形成することができる。または、クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されている場合には、加熱処理により網目状クラックのクラック溝幅を拡げることができる。このように網目状クラックのクラック溝幅を拡げれば、網目状クラックで包囲される島状部の間隔を増大できるため、島状部同士の独立性を高めることができ、ひいては隣設する島状部同士の非接触性を高めることができ、従って、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を更に高めることができる。その後、熱硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、加熱炉で加熱することによって、透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に積層させた。但し保護膜４を形成する前に、クロム膜３における網目状クラックの状況を撮影したり、シート抵抗値を測定した。ここで、本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。本試験例によれば、上記したようにクロム膜３の成膜速度を変更させたため、クロム膜３の厚みを３０ナノメートル、５０ナノメートル、８０ナノメートルの３種類とした。
【００４９】
(平板試験片の撮影写真)
図８，図９は、保護膜４を形成する前にクロム膜３を光学顕微鏡で撮影した試験結果を示す。図８は、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理なしの状態および加熱処理有りの状態を撮影した試験結果を示す。撮影した部位は、平板試験片の中央部とした。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。ここで、図８から理解できるように、加熱処理前ではクロム膜にクラックはほとんど認められないのに対し、加熱処理後では亀甲状をなす網目状クラックがクロム膜に認められた。加熱処理後の島状部のサイズは最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、網目状クラックのクラック溝幅は平均として２００〜３００ナノメートルであった。
【００５０】
図９は、クロム膜３の成膜速度を２．０ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理前の状態および加熱処理後の状態を撮影した試験結果を示す。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。図９から理解できるように、加熱処理前であっても、写真では識別しにくいものの、クロム膜３に網目状クラックは認められた。この場合、クラックの網目形状、網目状クラックで包囲された島状部のサイズは、加熱前後において余り変化がなかった。加熱処理後の島状部のサイズは、クロム膜３の厚み３０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜２００マイクロメール程度、クロム膜３の厚み５０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、クロム膜３の厚み８０ナノメートルの場合には最長距離で２０〜６０マイクロメール程度であった。このように成膜速度が同一であっても、クロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックで包囲される島状部のサイズは小さかった。なお、図９に示す場合には、加熱処理後において、網目状クラックのクラック溝幅は平均で２００〜３００ナノメートルであった。
【００５１】
上記した試験結果を総合的に比較すれば、クロム膜３の成膜速度が速い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。またクロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。
【００５２】
(平板試験片のシート抵抗値)
上記したように製造した成膜直後の平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３について、シート抵抗を測定した。同様に、成膜後に加熱処理した平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３についても同じ場所のシート抵抗を測定した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。測定装置はシート抵抗測定装置（１×１０８Ω／□以上の場合は製造会社：三菱化学アナリテック製、型式:ハイレスタUP MCP−HT450、１×１０８Ω／□より低い場合は三菱化学製 ロレスタGP MCP-T600）とした。加熱処理前におけるシート抵抗の測定結果を表１に示す。加熱処理後におけるシート抵抗値の測定結果を表２に示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】
【表２】
表１に示すように、加熱処理前では、成膜速度（成膜レート）に拘わらず、クロム膜３のシート抵抗は１００〜５００Ω/□といった低いシート抵抗値であった。これに対して、表２に示すように、成膜速度に拘わらず、加熱処理によってクロム膜３のシート抵抗は１．４×１０７〜２．４×１０１３Ω／□といった高いシート抵抗となり、クロム膜３について高い電気絶縁性が得られたことが確認された。
【００５５】
（試験例２）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は図５〜図７に相当する。図５〜図７から理解できるように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。ここで、基部本体２ａとしてのドアハンドル６を形成する樹脂としてはＰＣ／ＰＢＴ樹脂（絶縁体）とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂（絶縁体）とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。成膜処理としては、試験例１と同様のスパッタリング法とした。本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。クロム膜３の厚みを５０ナノメートルで統一した。クロム膜３の加熱については、電気炉を用い１００℃×３０分間とし、加熱後にドアハンドル６を電気炉から取り出し、自然冷却させた。その後、前述同様にドアハンドル６のクロム膜３についてシート抵抗を測定した。測定装置はシート抵抗測定装置（製造会社：三菱化学製、型式:ロレスタGP MCP-T600）を使用した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。シート抵抗の測定結果を表３に示す。
【００５６】
【表３】
表３に示すように、成膜速度（成膜レート）を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃとした場合であっても、シート抵抗は９．９×１０８Ω／□以上と高く、高い電気絶縁性が得られていた。従って、クロム膜３は金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における高い電気絶縁性をもつことが確認された。
【００５７】
このドアハンドルのＣｒ膜の光学顕微鏡観察を実施したところ、島状部のサイズは、成膜速度が０．６ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、成膜速度が１．４ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、成膜速度が２．０ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で２０〜５０マイクロメール程度であった。また、ドアハンドル６の外観について肉眼で評価した。網目状のクラックは目視では全くわからず、めっきクロム膜とほとんど同等の金属光沢性を示した。
【００５８】
（試験例３）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は試験例２と同様に、図５〜図７に相当する。試験結果を図１０に示す。図１０に示すように、本試験例では成膜速度は２ナノメートル／ｓとし、クロム膜の厚みを５０ナノメートルとし、加熱処理は試験例２の場合と同様に１００℃×３０分間とした。本試験例によれば、光学顕微鏡により観察したところ、網目状クラックがクロム膜のほぼ全域に形成されていた。シート抵抗は９．９×１０７Ω/□よりも大きく、膜延設方向において高い電気絶縁性を示した。ドアハンドル性能について確認したところ、アンテナ部５７、第１タッチセンサ部５１、第２タッチセンサ部５２のいずれについても良好に機能した。上記したように金属光沢を示すクロム膜のシート抵抗が十分に高いため、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２ともにセンサの感知部位以外を触れた場合であっても誤動作することはなく、また感知部位付近に触れた場合には、ロック動作、アンロック動作のいずれも正常に動作した。
【００５９】
これに対して、クロム膜３についての加熱処理を実施しなかった比較例では、図１０に示すように、網目状クラックがクロム膜に形成されていなかった。クロム膜３のシート抵抗は５０Ω／□であり、クロム膜は導電性を示し、電気絶縁性を示さなかった。このような比較例では、ドアハンドル性能については、アンテナ部５７について影響が認められ、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２については誤作動した。
【００６０】
（試験例４）
バナジウム含有のクロム膜についても試験した。本試験例は、クロム膜に他の元素を添加した場合の効果を確認する目的で、バナジウムを添加したクロム膜を５０ｍｍ角のPC/PBTの平板テストピース上に成膜して実施したものである。バナジウムの添加は、スパッタ装置のクロムターゲット上でターゲット材料がスパッタリングにより放出される領域であるエロージョン領域の上に、面積比でバナジウム薄片が５%および２０%相当の面積となるように均等に複数個並べることにより行った。テストピース上に成膜されたクロム膜中におけるバナジウムの含有量（体積％）はほぼエロージョン領域でのクロムとバナジウムの面積比と一致していると考えられる。この２水準のバナジウム含有量の試料を、他の試験例と平板試験片と同様に、１００℃の炉内に挿入・保持し、３０分間、加熱処理した。加熱処理後の試料表面を観察したところ、純クロムの膜と全く同様の網目状クラックが形成されていた。またシート抵抗を測定したところ、どちらも1×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。
【００６１】
（試験例５）
本試験例は、スパッタ装置のターゲットと成膜するPC/PBTの樹脂平板試験片との間の距離を１５０mmおよび２００mmとしたときの評価結果である。評価結果を表４に示す。表４に示すように、これらの試料では、熱処理前はシート抵抗が１０Ω/□以下と低いものもあったが、いずれも加熱処理により１×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。なお、成膜速度が０．０６７nm/秒、クロム膜の膜厚が４０nmのときは、成膜直後の加熱処理前の時点で、網目状のクラックが発生し、１×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。このように、成膜条件によっては、加熱処理を行わなくても金属光沢性のある絶縁性のクロム膜を得ることができる。更に加熱処理すれば、加熱処理により、それらは確実に絶縁化されることが確認された。
【００６２】
【表４】
【符号の説明】
【００６３】
１は基部、２は中間膜、３はクロム膜、３ｃは網目状クラック、４は保護膜、５はセンサ部、５１は第１タッチセンサ部、５２は第２タッチセンサ部、５７はアンテナ部、６はドアハンドル、７はドアハンドル本体を示す。
【技術分野】
【０００１】
本発明は絶縁物品およびその製造方法に関する。絶縁物品としては、例えば、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は装飾クロムめっき製品およびその製造方法を開示する。このものによれば、樹脂製の基部、下地銅めっき膜、ニッケルめっき膜、電気めっき等で形成されたクロムめっき膜、不導態膜の順に積層されてクロムめっき製品が形成されている。このものによれば、製造後において、クロムめっき膜にマイクロクラックが自然発生し、耐食性を低下させることに着目している。電気めっきで形成されたクロムめっき膜は、高い電着応力を残留させていたためマイクロクラックを自然発生させるおそれがある。そしてこのものでは、製造段階で、マイクロクラックを予めクロムめっき膜に形成しておき、その後、クロムめっき膜を不導態化処理させることによりクロムめっき膜の上に不導態膜を形成させることにしている。不導態膜はマイクロクラックの底まで形成されているため、高い耐食性を示すことができる。これにより装飾クロムめっき製品の耐食性を改善させている。
【０００３】
特許文献２は、アンテナ部を搭載したドアハンドルへ被着させる被膜として、金属微粒子を堆積させた金属膜を用いるドアハンドル装置を開示する。このものによれば、金属膜により金属光沢を発揮させて意匠性を高めている。このものによれば、金属微粒子で成膜された金属膜は微視的には不連続部分を有するため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。
【０００４】
特許文献３は、アンテナ部を内蔵するドアハンドルにスパッタリングにより金属薄膜を形成するアンテナ内蔵装置を開示する。スパッタリングにより形成された金属薄膜は、厚みが薄いため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−５０６５６号公報
【特許文献２】特開２００５−１１３４７５号公報
【特許文献３】特開２００７−１４２７８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に係る技術は、装飾クロムめっき製品を対象とするものであるため、電気絶縁性および導電性を問うものではない。しかしながらクロムめっき膜の下地としてニッケルめっき膜がこれの表面延設方向に沿って広く延設されているため、ニッケルめっき膜は二次元的に広く延設されており、ニッケルめっき膜はこれの二次元方向（膜延設方向）における良好な導電性を示してしまう。結果として、特許文献１に係る技術は、電気絶縁性を必要とする分野には適用することはできない。
【０００７】
特許文献２に係る技術は、金属微粒子で成膜された金属塗装膜は微視的には金属の不連続部分を有するが、膜延設方向の電気絶縁性は必ずしも満足できるものではない。特許文献３に係る技術は、一般的なスパッタリングにより形成された膜であるため膜延設方向には連続膜であり、膜延設方向の電気絶縁性は得られない。結果として、特許文献２，３に係る技術は、膜延設方向の電気絶縁性を必要とする分野には適用するには限界がある。
【０００８】
本発明は上記した実情に鑑みてなされたものであり、金属光沢性を示すと共に表面延設方向における良好な電気絶縁性を示す絶縁物品およびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）様相１の本発明に係る絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部と、基部の表面に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成され且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜とを具備する。
【００１０】
基部は、絶縁物品のベースとなる部位である。基部は、基部本体と、基部本体に積層された中間膜とを有する構成にできるが、中間膜を積層していない場合も含む。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クラック溝を形成する網目状クラックがクロム膜に形成されている。網目状クラックのクラック溝は、網目状クラックで包囲され互いに隣設する島状部同士の導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向の電気絶縁性を高めることができる。このため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。膜延設方向とは、クロム膜の厚みを無視するとき、クロム膜の膜表面が延設されている方向を意味する。ここで、絶縁物品として、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。ハンドルとしてはドアハンドルが例示される。ドアハンドルとしては、自動車、トラック等の車両等に代表される可動物体用、建築物用等が挙げられる。
【００１１】
（２）様相２の本発明に係る絶縁物品によれば、上記様相において、クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、クロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する。クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、保護膜と反対側に位置しつつクロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する。このセンサ部は、保護膜と反対側に位置しつつ、膜延設方向に電気絶縁性を示すクロム膜で覆われているため、タッチセンサ部の付近の電気絶縁性が確保され、静電容量型タッチセンサ部のセンサ機能を良好に発揮できる。
【００１２】
（３）様相３の本発明に係る絶縁物品によれば、上記様相において、クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、クロム膜の外方から伝搬される電波を受信すると共に、クロム膜で覆われたアンテナ部を有する。一般に、クロム膜等の金属膜はこれの厚み方向の電波を遮蔽する作用がある。しかしクロム膜に網目状クラックが形成されており、網目状クラックの部分はクロム成分（金属成分）ではないため、クロム膜は厚み方向において電波透過性を示すことができる。従って、クロム膜の裏側にアンテナ部が設けられているときであっても、クロム膜の外方から伝搬される電波をクロム膜の網目状クラックに透過させ、その電波をアンテナ部に受信させることができる。
【００１３】
（４）様相４の本発明に係る絶縁物品は、上記様相において、基部はドアハンドル本体である。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜においてこれの膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。
【００１４】
（５）様相５の本発明に係る絶縁物品の製造方法は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜を形成するクロム膜形成工程を備えている。成膜工程では、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施す。これにより、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得る金属光沢をもつクロム膜を、基部に積層させる。成膜処理としては、物理的成膜処理、化学的成膜処理が挙げられる。物理的成膜処理としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。成膜処理によれば、成膜速度等の成膜条件によっては、網目状クラックをもつクロム膜が形成されることがある。
【００１５】
（６）様相６の本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、クロム膜形成工程は、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得るクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。
【００１６】
成膜工程後において、少なくともクロム膜を加熱処理する。これにより、成膜時に網目状クラックが形成されていないクロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱温度としては６０℃以上、８０℃以上とすることができ、温度範囲としては５０〜２００℃の範囲内、６０〜１５０℃の範囲内が例示される。
【００１７】
好ましくは、加熱処理後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させることができる。これにより網目状クラックを備えるクロム膜を保護させることができる。保護膜は透明または半透明であるため、クロム膜の光沢を保護膜の外方に発揮させることができる。ここで、クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラックがクロム膜に形成されているため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。また一般に、網目状クラックを備えていないクロム膜等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性（電波減衰性）がある。しかし網目状クラックを持つクロム膜は、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００１８】
（７）様相７の本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、上記した請求項において、基部はドアハンドル本体である。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る絶縁物品によれば、クロム膜により金属光沢を発揮させつつも、絶縁物品の表面延設方向における良好な電気絶縁性を確保している。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】実施形態１に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図２】（ａ）（ｂ）は実施形態２に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図３】実施形態３に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図４】実施形態４に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。
【図５】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図６のＶ−Ｖ線に沿った断面図）である。
【図６】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す正面図である。
【図７】実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図）である。
【図８】網目状クラック無し（加熱処理なし）と網目状クラック有り（加熱処理有り）について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：０．６ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。
【図９】加熱処理前と加熱処理後について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：２ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。
【図１０】試験例３に係り、試験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
基部は、少なくとも表面が電気絶縁性を有する。好ましくは、基部は、基部本体と、基部本体に積層された電気絶縁性を持つ材料で形成された中間膜とを有する構成にできる。あるいは、基部全体を、電気絶縁性をもつ材料で形成しても良い。クロム膜は質量比でクロムを６０％以上含有する膜をいう。クロム膜は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。他の成分としては、バナジウム、ニッケル、モリブデン、鉄のうちの少なくとも１種が挙げられ、クロム膜の全体を１００％とするとき、質量比で、２０％以下、１０％以下、５％以下で含有されていても良い。クロム膜の厚みとしては特に限定されるものではないが、１０〜５００ナノメ−トル、１０〜３００ナノメ−トル、１０〜２００ナノメ−トルが例示される。クロム膜の厚みが厚くなりすぎると、コスト高となり、更に電波透過性が低下する恐れがある。クロム膜は物理的成膜方法または化学的成膜方法で成膜できる。場合によっては電気めっきでも良い。物理的成膜処理としてはドライプロセスが好ましい。具体的には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。場合によっては電気めっき等のウェットプロセスでも良い。クロム膜には網目状クラックが形成されている。クロム膜の全域に網目状クラックが形成されていることが好ましい。場合によっては、クロム膜のうち電気絶縁性を要請される一部のみに、網目状クラックが形成されていても良い。網目状クラックで包囲された島状部については、隣設する島状部が互いに接触しなければ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が確保される。電気絶縁性を考慮すると、網目状クラックのクラック溝幅は大きい方が好ましい。すなわち、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が大きいと、網目状クラックで区画される島状部が互いに接触しにくくなるため、クロム膜の電気絶縁性を効果的に高くできるが、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が小さいと、網目状クラックで区画される島状部が接触する確率がある。一方、網目状クラックのクラック溝幅が大きくなりすぎると、クラックが目視でわかるようになるなど金属光沢性が低下するおそれがある。かかる点を考慮し、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅としては、網目状クラックのサイズ、クロム膜の厚み等にもよるが、１〜５００ナノメートルの範囲、５〜４００ナノメートルの範囲、１０〜３００ナノメートルの範囲、５〜２００ナノメートルの範囲にできる。 ５０〜１０００ナノメートルの範囲にできる。
【００２２】
本発明に係る絶縁物品の製造方法の一態様としては、次を採用できる。すなわち、（ｉ）電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜に網目状クラックを形成し、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を実施する。
【００２３】
更に、他の態様として、（ｉ）少なくとも表面が電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を順に実施する。加熱工程において網目状クラックを形成したり、クラック溝幅を増加したりできるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱後にクロム膜が常温に戻っても、クラック溝幅は増加したままであることが確認されている。クロム膜の厚みを示す断面において、島状部の周縁が基部から離間するように反っているためと考えられる。加熱工程は、電気炉による加熱に限定されず、ビーム径を拡大させて単位面積あたりのエネルギ密度を低下させたレーザビームによる加熱、マイクロ波による加熱、クロム膜の内部に高周波の誘導電流を通電させる誘導加熱等を採用しても良い。
【００２４】
（実施形態１）
図１は実施形態１の概念を示す。図１はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図１に示すように、絶縁物品は、（ｉ）基部２と、（ｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められた金属膜として機能するクロム膜３と、（ｉｉｉ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。
【００２５】
基部２は、電気絶縁性をもつ樹脂を基材とする基部本体２ａと、基部本体２ａの表面２ｓに積層された電気絶縁性をもつ材料である樹脂を塗装等で積層して形成された中間膜２ｃ（例えば下塗り塗装膜）とを有する。基部本体２ａを形成する樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれでも良く、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ＡＢＳ（ポリプロピレン・アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合合成）樹脂、変成ＰＰＥ樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）樹脂、ＰＥＫＫ（ポリエーテルケトンケトン）樹脂、ＰＫＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂等の１種または２種以上が例示される。よってアロイ樹脂としても良い。例えば、ＰＣ／ＰＢＴ樹脂、ＰＣ／ＡＢＳ樹脂としても良い。中間膜２ｃは平滑性を得るのに有効であり、塗装膜で形成できる。
【００２６】
一般に、樹脂成型品の表面は相当の表面粗さがあり、５００nm以下の薄い金属膜を成膜した場合、金属膜表面も樹脂の表面粗さを反映した凹凸が残る。この場合、乱反射により、金属調ではあるが、鏡面のような光沢は得られ難い。そのため、中間膜２ｃにより平滑性を確保することで、鏡面状の金属光沢が実現できる。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としては、スプレー等でクリア上塗り塗装膜にでき、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキド樹脂等が例示される。但しこれらに限定されるものではない。熱乾燥により保護膜４を硬化させ得る。中間膜２ｃの厚みｔｍは例えば５〜１００マイクロメートル、特に１０〜４０マイクロメートルにできる。クロム膜３の厚みｔｃｒは金属光沢性絶縁物品の種類によって相違するものの、例えば、１０〜１０００ナノメートル、１０〜５００ナノメートル、２０〜５００ナノメートル、２０〜３００ナノメートルにできる。クロム膜３の厚みが厚くなり過ぎると電波透過性が低下する恐れがあるため、膜厚は５００ナノメートル以下が望ましい。また、クロム膜３の厚みが１０ナノメートル以下になると基材が透けて見える恐れがあるため、１０ナノメートル以上が好ましい。保護膜４の厚みｔｐは例えば２〜２００マイクロメートル、特に１０〜５０マイクロメートルにできる。保護膜４は、５００ナノメートル以下の薄いクロム膜３に傷やはがれが生じることを保護する効果を持つ。平滑性のある中間膜２ｃの上に成膜したクロム膜３はクロムを母材とすると共に、鏡面状の金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。クロム膜３は、スパッタリング等の成膜手段によりその膜の面内方向に引っ張り方向の内部応力が残留し得るような条件で成膜され、成膜中あるいはその後の熱処理により、網目状クラック３ｃが生成している。このため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品は、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における良好な電気絶縁性を確保している。クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めるためには、網目状クラック３ｃの底側は中間膜２ｃに到達していることが好ましい。更に、クロム膜３の厚み方向（矢印Ｔ方向）においても、クロム膜３の下地に形成されている中間膜２ｃは樹脂で形成されており、電気絶縁性を示すため、絶縁部品は厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３は、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００２７】
なお、クロム膜３、保護層４のシート抵抗については、１×１０3Ω／□以上が好ましく、特に、１×１０4Ω／□以上、１×１０5Ω／□以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。また、基部２の体積抵抗としては、１×１０5Ω・cm以上が好ましく、１×１０6Ω・cm以上、１×１０7Ω・cm以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。
【００２８】
上記した絶縁物品の製造方法は次のようである。まず、電気絶縁性をもつ樹脂材料を母材として形成された中間膜２ｃが積層された基部本体２ａを用いる。次に、基部本体２ａの中間膜２ｃに成膜処理を施すことにより、クロム膜３を中間膜２ｃに積層させる成膜工程を実行させる。成膜処理としては、スパッタリングを採用できる。クロム膜３は、金属光沢をもち且つクロムを母材とする。クロム膜３の純度としては高くできる。
【００２９】
成膜速度等の成膜条件によっては、クロム膜３に網目状クラック３ｃが成膜中に形成されたり、形成されなかったりする。成膜時の引張応力が影響しているものと推察される。本発明者が行った試験によれば、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。その理由としては、成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪みが大きくなるためと推察される。
【００３０】
次に、中間膜２ｃを介して積層されているクロム膜３をもつ基部本体２ａを、所定温度に保持した電気炉の炉室に装入し、クロム膜３を基部２と共に所定温度（６０〜１５０℃の範囲の任意値）に所定時間（１〜６０分間の範囲内の任意値）に加熱させ、その後、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行させる。所定温度および所定時間は、絶縁物品の種類、クロム膜３の厚み、クロム膜３の純度等によって適宜選択される。冷却は自然冷却とすることができる。場合によっては、水、ミスト、気体等の冷媒によって、クロム膜３を強制的に冷却させても良い。上記した加熱処理により、基部本体２ａに積層されているクロム膜３（成膜時に網目状クラックが形成されなかったクロム膜３）において網目状クラック３ｃを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げ、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高める。クロム膜３は薄膜であるため、網目状クラックはクロム膜３の厚み方向の全体に形成されているものと考えられる。
【００３１】
このように成膜処理後においてクロム膜３を基部本体２ａと共に加熱処理することにより、クロム膜３において網目状クラック３ｃを形成するか、または、形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めることができる。その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に塗装等で積層させる。これによりクロム膜３を保護膜４で保護させる。保護膜４は透明または半透明であるため、クロム膜３の光沢を保護膜４の外方に視認させることができる。場合によってはクロム膜３の耐久性が確保される場合には、保護膜４を廃止することもできる。
【００３２】
本実施形態によれば、クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラック３ｃがクロム膜３に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。網目状クラック３ｃのクラック溝幅が広いと、網目状クラック３ｃで区画される島状部が互いに離間し、クラック溝の溝幅が広がり、クロム膜３の電気絶縁性を高くできる。かかる点を考慮し、網目状クラック３ｃのクラック溝幅としては、５０〜１０００ナノメートルの範囲、１０〜５００ナノメートルの範囲、２０〜４００ナノメートルの範囲、３０〜３００ナノメートルの範囲、４０〜２００ナノメートルの範囲にできる。但しこれらに限定されない。従って、絶縁部品はクロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を確保している。更に、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃについても、高い絶縁性をもつ樹脂を母材として形成されているため、膜延設方向（矢印Ａ１方向）においても、厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を更に高めることができる。
【００３３】
以上説明したように本実施形態に係る絶縁物品によれば、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、基部２の表面延設方向（クロム膜３の膜延設方向）における電気絶縁性を確保している。クロム膜３のクロムは不働態化するため、腐食の進行が抑制される。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。
【００３４】
なお、特許文献１（特開２００８−５０６５６号公報）では、クロム膜３の下地となる中間膜はニッケル膜であるため、ニッケルとクロムとの電位差に起因する腐食が発生するおそれがある。この点本実施形態によれば、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃは樹脂を母材とするため、腐食の不具合が抑制されている。クロム膜３は、樹脂を母材する中間膜２ｃおよび保護膜４で挟持されているため、電位差に起因する腐食が抑制されている。上記したニッケル膜は導電性を有すること、電波透過性が悪いこと、静電容量型タッチセンサの誤動作につながるおそれがある。
【００３５】
（実施形態２）
図２（ａ）（ｂ）は実施形態２の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図２（ａ）（ｂ）はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図２（ａ）では、クロム膜３と基部２の表面との間に、中間膜は形成されていない。樹脂を母材とする基部２の表面にクロム膜３が直接積層されており、クロム膜３は網目状クラックを備えている。網目状クラック３ｃの底側は基部２に到達していることが好ましい。この場合、基部２の母材はクロム膜３との密着性が良いものとされている。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３６】
図２（ｂ）では、クロム膜３と樹脂製の基部本体２ａとの間に、中間膜２ｃは塗装膜等で形成されている。クロム膜３と基部本体２ａとの接合性を高める等の理由により、中間膜２ｃは複膜であり、樹脂を母材とする第１中間膜２ｃａと、第１中間膜２ｃａと異なる樹脂を母材とする第２中間膜２ｃｂとで形成されている。第１中間膜２ｃａおよび第２中間膜２ｃｂにより、クロム膜３と基部本体２ａとの間における熱膨張係数の差を調整することができる。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３７】
（実施形態３）
図３は実施形態３の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図３に示すように、基部本体２ａには、クロム膜３の裏側にセンサ部５が搭載されている。センサ部５は保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。従って図３に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、センサ部５がこの順に配置されている。センサ部５としては、静電容量センサ、渦電流センサ等が例示される。上記したようにセンサ部５は、クロム膜３の表面に沿って延設されている膜延設方向（矢印Ａ１方向）において電気絶縁性を示すクロム膜３で覆われている。このためクロム膜３は良好な金属光沢性を示しつつも、センサ部５を配置する環境の電気絶縁性が良好に確保され、センサ部５はセンサ機能を良好に発揮できる。このように金属光沢性をもつクロム膜３がセンサ部５を包囲しているものの、センサ部５のセンシング性能に影響を与えない。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００３８】
（実施形態４）
図４は実施形態４の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図４に示すように、基部本体２ａには、保護膜４の外方から伝搬される電波を受信すると共にクロム膜３の裏側に位置するようにアンテナ部５７が搭載されている。アンテナ部５７の全域は、クロム膜３の裏側においてつまり保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。図４に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、アンテナ部５７がこの順に配置されている。
【００３９】
一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向の電波透過性を示さない。しかしクロム膜３の全域には網目状クラック３ｃが形成されている。網目状クラック３ｃの部分はクロム成分ではなく隙間であるため、クロム膜３はこれの厚み方向において電波透過性を高めることができる。従って、保護膜４およびクロム膜３の裏側にアンテナ部５７が設けられているときであっても、保護膜４の外方から伝搬される電波をクロム膜３の網目状クラック３ｃに透過させ、その電波をアンテナ部５７に受信させることができる。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。
【００４０】
（実施形態５）
図５〜図７は本発明を車両または建築物のドアハンドル６に適用した実施形態５の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図５は、ドア６００のドアパネル６１０に取り付けられているドアハンドル６の断面を示す。ドアハンドル６は、ユーザが携帯するスマートキーの接近または離間に基づいてドアロックの施錠および解錠を行うスマートキーシステムに使用される。図５に示すように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）電気絶縁性をもつ材料である樹脂を母材とするように塗装された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を塗装等して形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。
【００４１】
図５に示すように、ドアハンドル本体７は、第１突起７１を有する一端部７２と、第２突起７３を有する他端部７４と、一端部７２および他端部７４を繋ぐ掴み用の連設部７５ともつ。ドアハンドル本体７は、ドアパネル６１０の凹状の壁６１０ｃとの間に、指挿入用の空間６２０を形成する。図５に示すように、連設部７５を含むドアハンドル本体７の表面の成膜面には、中間膜２ｃ、クロム膜３および保護膜４がこの順に積層されている。ドアハンドル本体７を形成する樹脂としてはＰＣおよびＰＢＴの混合樹脂が例示される。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリルウレタン系樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としてアクリルウレタン系樹脂が例示される。但しこれらに限定されるものではない。
【００４２】
クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。網目状クラック３ｃがクロム膜３のほぼ全域に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性が高められている。従って、クロム膜３は、金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。従って、発信器を搭載するキーなどの部材を保持するユーザが接近するとき、発信器が発生させる電波をアンテナ部５７が受信し、図略の制御部は、ドアのロックを解除させる信号をドアロック装置に出力させ、ドアを自動解錠させることができる。
【００４３】
図５に示すように、基部本体２ａの空洞部１ｘには、クロム膜３の裏側に位置するように、センサ部として機能する第１タッチセンサ部５１（ロックセンサ）および第２タッチセンサ部５２（アンロックセンサ）、アンテナ部５７、検出回路をもつ回路基板５９が内蔵されている。外方からドアハンドル６の内部を連設部５３の仮想的な法線Ｗ１に沿って矢印Ｗ２方向（図７参照）に投影するとき、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はクロム膜３で覆われている。第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はそれぞれ静電容量型のタッチセンサで形成されている。静電容量型のタッチセンサは、ユーザの指先等の接触または接近を対向電極間の静電量変化量として検出するセンサである。第１タッチセンサ部５１はユーザの施錠（ロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御部に入力させ、制御部によりドアをロックさせるためのロックセンサを形成する。第２タッチセンサ部５２はユーザの解錠（アンロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御に入力させ、制御部によりドアをアンロックさせるためのロックセンサを形成する。第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２とは互いに電気的に導通しないように構成されている。この構成で各センサが正しく機能するためにはクロム膜３は膜延設方向（矢印Ａ４方向）において電気絶縁性をもつことが必要である。
【００４４】
仮に、クロム膜等の金属膜が網目状クラックを有せず、膜延設方向において連続しており導電性を示す場合には、ロックするためにユーザが指を第１タッチセンサ部５１に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第２タッチセンサ部５２の静電容量が変化するおそれがある。逆にアンロックするためにユーザが指を第２タッチセンサ部５２に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第１タッチセンサ部５１の静電容量が変化するおそれがある。すなわち、金属膜とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こり易いため、施錠用、解錠用のいずれのセンサも、ユーザの指先等が施錠・動作すべきところでない場所に近づいた際に、動作してしまう可能性が発生し、タッチセンサ部５１，５２の誤動作の原因となり得る。
【００４５】
そこで本実施形態によれば、クロム膜３が延びている膜延設方向（矢印Ａ４方向等）における電気絶縁性が確保されている。ここで、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２は、金属光沢を示すクロム膜３で覆われているものの、クロム膜３は網目状クラック３ｃを備えているため、これの膜延設方向（矢印Ａ４方向等）において高い電気絶縁性を示す。このため、金属光沢性を発揮させるものの網目状クラック３ｃにより膜延設方向において良好な電気絶縁性を示すクロム膜３により、ユーザの意思と異なるタッチセンサ部の静電容量変化を抑制できる。金属層であるクロム膜３とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こることが抑制される。従って、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はセンシング機能を良好に発揮でき、誤作動が抑えられる。図６において矢印Ｕ方向は上方を示し、矢印Ｄ方向は下方を示す。
【００４６】
（試験例１）
本試験例では平板試験片で行った。製造された平板試験片を模式的に示す断面は、図１に相当する。平板試験片は平板状（５０ミリメートル×５０ミリメートル）をなしており、図１に示すように、（ｉ）樹脂を母材とする基部本体２ａと、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。平板試験片のシート抵抗値を測定するときには、保護膜４は積層しなかった。ここで、基部本体２ａを形成する樹脂としてはＰＣ/ＰＢＴ（ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート）樹脂とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。
【００４７】
上記した平板試験片の製造方法は次のようにした。まず、基部本体２aにＵＶ硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、ＵＶ硬化炉で硬化させることによって基部本体２ａに中間膜２ｃを積層させた。その後、マグネトロンスパッタリング装置を用い、スパッタリング方法により、クロムを母材とするクロム膜３を基部本体２ａの中間膜２ｃの上に積層させた。成膜ガスとしてアルゴンガスを導入し、０．３Ｐａとなるようにした後、所定のプラズマ電力を投入させ、ターゲット付近にプラズマを発生させた。これによりアルゴンガスをターゲットに衝突させ、叩き出されたクロム成分を中間膜２ｃに堆積させてクロム膜３を積層させた。ここで、上記したプラズマ電力は成膜速度および膜厚に影響を与え、ひいては網目状クラックの性状に影響を与える。成膜速度や成膜厚み等の条件によっては、クロム膜３に網目状クラックが形成されたり、あるいは、クロム膜３に網目状クラックが形成されなかったりすることがある。本発明者が行った試験によれば、一般的には、プラズマ電力が大きいほど、クロム膜３の成膜速度が速かった。また、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。クロム膜３の成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪み（残留引張応力等）が大きくなり、網目状クラックが形成され易くなるためと推察される。なお、成膜時の成膜ガス圧力は０．３Ｐａとしたが、これに限定されない。好ましくは、成膜ガス圧力は０．２〜０．７Ｐａがよい。
【００４８】
次に、基部本体２ａに積層されているクロム膜３を、所定温度（１００℃）の温度に設定されている電気炉内で所定時間（３０分間）加熱させ、その後、電気炉から取り出して自然冷却させ、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行した。上記した加熱処理により次の効果が得られた。クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されていない場合には、加熱処理によりクロム膜３に網目状クラックを形成することができる。または、クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されている場合には、加熱処理により網目状クラックのクラック溝幅を拡げることができる。このように網目状クラックのクラック溝幅を拡げれば、網目状クラックで包囲される島状部の間隔を増大できるため、島状部同士の独立性を高めることができ、ひいては隣設する島状部同士の非接触性を高めることができ、従って、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を更に高めることができる。その後、熱硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、加熱炉で加熱することによって、透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に積層させた。但し保護膜４を形成する前に、クロム膜３における網目状クラックの状況を撮影したり、シート抵抗値を測定した。ここで、本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。本試験例によれば、上記したようにクロム膜３の成膜速度を変更させたため、クロム膜３の厚みを３０ナノメートル、５０ナノメートル、８０ナノメートルの３種類とした。
【００４９】
(平板試験片の撮影写真)
図８，図９は、保護膜４を形成する前にクロム膜３を光学顕微鏡で撮影した試験結果を示す。図８は、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理なしの状態および加熱処理有りの状態を撮影した試験結果を示す。撮影した部位は、平板試験片の中央部とした。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。ここで、図８から理解できるように、加熱処理前ではクロム膜にクラックはほとんど認められないのに対し、加熱処理後では亀甲状をなす網目状クラックがクロム膜に認められた。加熱処理後の島状部のサイズは最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、網目状クラックのクラック溝幅は平均として２００〜３００ナノメートルであった。
【００５０】
図９は、クロム膜３の成膜速度を２．０ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理前の状態および加熱処理後の状態を撮影した試験結果を示す。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。図９から理解できるように、加熱処理前であっても、写真では識別しにくいものの、クロム膜３に網目状クラックは認められた。この場合、クラックの網目形状、網目状クラックで包囲された島状部のサイズは、加熱前後において余り変化がなかった。加熱処理後の島状部のサイズは、クロム膜３の厚み３０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜２００マイクロメール程度、クロム膜３の厚み５０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、クロム膜３の厚み８０ナノメートルの場合には最長距離で２０〜６０マイクロメール程度であった。このように成膜速度が同一であっても、クロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックで包囲される島状部のサイズは小さかった。なお、図９に示す場合には、加熱処理後において、網目状クラックのクラック溝幅は平均で２００〜３００ナノメートルであった。
【００５１】
上記した試験結果を総合的に比較すれば、クロム膜３の成膜速度が速い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。またクロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。
【００５２】
(平板試験片のシート抵抗値)
上記したように製造した成膜直後の平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３について、シート抵抗を測定した。同様に、成膜後に加熱処理した平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３についても同じ場所のシート抵抗を測定した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。測定装置はシート抵抗測定装置（１×１０８Ω／□以上の場合は製造会社：三菱化学アナリテック製、型式:ハイレスタUP MCP−HT450、１×１０８Ω／□より低い場合は三菱化学製 ロレスタGP MCP-T600）とした。加熱処理前におけるシート抵抗の測定結果を表１に示す。加熱処理後におけるシート抵抗値の測定結果を表２に示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】
【表２】
表１に示すように、加熱処理前では、成膜速度（成膜レート）に拘わらず、クロム膜３のシート抵抗は１００〜５００Ω/□といった低いシート抵抗値であった。これに対して、表２に示すように、成膜速度に拘わらず、加熱処理によってクロム膜３のシート抵抗は１．４×１０７〜２．４×１０１３Ω／□といった高いシート抵抗となり、クロム膜３について高い電気絶縁性が得られたことが確認された。
【００５５】
（試験例２）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は図５〜図７に相当する。図５〜図７から理解できるように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。ここで、基部本体２ａとしてのドアハンドル６を形成する樹脂としてはＰＣ／ＰＢＴ樹脂（絶縁体）とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂（絶縁体）とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。成膜処理としては、試験例１と同様のスパッタリング法とした。本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。クロム膜３の厚みを５０ナノメートルで統一した。クロム膜３の加熱については、電気炉を用い１００℃×３０分間とし、加熱後にドアハンドル６を電気炉から取り出し、自然冷却させた。その後、前述同様にドアハンドル６のクロム膜３についてシート抵抗を測定した。測定装置はシート抵抗測定装置（製造会社：三菱化学製、型式:ロレスタGP MCP-T600）を使用した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。シート抵抗の測定結果を表３に示す。
【００５６】
【表３】
表３に示すように、成膜速度（成膜レート）を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃとした場合であっても、シート抵抗は９．９×１０８Ω／□以上と高く、高い電気絶縁性が得られていた。従って、クロム膜３は金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における高い電気絶縁性をもつことが確認された。
【００５７】
このドアハンドルのＣｒ膜の光学顕微鏡観察を実施したところ、島状部のサイズは、成膜速度が０．６ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、成膜速度が１．４ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、成膜速度が２．０ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で２０〜５０マイクロメール程度であった。また、ドアハンドル６の外観について肉眼で評価した。網目状のクラックは目視では全くわからず、めっきクロム膜とほとんど同等の金属光沢性を示した。
【００５８】
（試験例３）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は試験例２と同様に、図５〜図７に相当する。試験結果を図１０に示す。図１０に示すように、本試験例では成膜速度は２ナノメートル／ｓとし、クロム膜の厚みを５０ナノメートルとし、加熱処理は試験例２の場合と同様に１００℃×３０分間とした。本試験例によれば、光学顕微鏡により観察したところ、網目状クラックがクロム膜のほぼ全域に形成されていた。シート抵抗は９．９×１０７Ω/□よりも大きく、膜延設方向において高い電気絶縁性を示した。ドアハンドル性能について確認したところ、アンテナ部５７、第１タッチセンサ部５１、第２タッチセンサ部５２のいずれについても良好に機能した。上記したように金属光沢を示すクロム膜のシート抵抗が十分に高いため、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２ともにセンサの感知部位以外を触れた場合であっても誤動作することはなく、また感知部位付近に触れた場合には、ロック動作、アンロック動作のいずれも正常に動作した。
【００５９】
これに対して、クロム膜３についての加熱処理を実施しなかった比較例では、図１０に示すように、網目状クラックがクロム膜に形成されていなかった。クロム膜３のシート抵抗は５０Ω／□であり、クロム膜は導電性を示し、電気絶縁性を示さなかった。このような比較例では、ドアハンドル性能については、アンテナ部５７について影響が認められ、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２については誤作動した。
【００６０】
（試験例４）
バナジウム含有のクロム膜についても試験した。本試験例は、クロム膜に他の元素を添加した場合の効果を確認する目的で、バナジウムを添加したクロム膜を５０ｍｍ角のPC/PBTの平板テストピース上に成膜して実施したものである。バナジウムの添加は、スパッタ装置のクロムターゲット上でターゲット材料がスパッタリングにより放出される領域であるエロージョン領域の上に、面積比でバナジウム薄片が５%および２０%相当の面積となるように均等に複数個並べることにより行った。テストピース上に成膜されたクロム膜中におけるバナジウムの含有量（体積％）はほぼエロージョン領域でのクロムとバナジウムの面積比と一致していると考えられる。この２水準のバナジウム含有量の試料を、他の試験例と平板試験片と同様に、１００℃の炉内に挿入・保持し、３０分間、加熱処理した。加熱処理後の試料表面を観察したところ、純クロムの膜と全く同様の網目状クラックが形成されていた。またシート抵抗を測定したところ、どちらも1×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。
【００６１】
（試験例５）
本試験例は、スパッタ装置のターゲットと成膜するPC/PBTの樹脂平板試験片との間の距離を１５０mmおよび２００mmとしたときの評価結果である。評価結果を表４に示す。表４に示すように、これらの試料では、熱処理前はシート抵抗が１０Ω/□以下と低いものもあったが、いずれも加熱処理により１×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。なお、成膜速度が０．０６７nm/秒、クロム膜の膜厚が４０nmのときは、成膜直後の加熱処理前の時点で、網目状のクラックが発生し、１×１０8Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。このように、成膜条件によっては、加熱処理を行わなくても金属光沢性のある絶縁性のクロム膜を得ることができる。更に加熱処理すれば、加熱処理により、それらは確実に絶縁化されることが確認された。
【００６２】
【表４】
【符号の説明】
【００６３】
１は基部、２は中間膜、３はクロム膜、３ｃは網目状クラック、４は保護膜、５はセンサ部、５１は第１タッチセンサ部、５２は第２タッチセンサ部、５７はアンテナ部、６はドアハンドル、７はドアハンドル本体を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁性をもつ材料で形成された基部と、
前記基部の表面に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成され且つ前記網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜とを具備する絶縁物品。
【請求項２】
請求項１において、前記クロム膜の厚みを示す断面において、前記基部は、前記クロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する絶縁物品。
【請求項３】
請求項１において、前記クロム膜の厚みを示す断面において、前記基部は、前記クロム膜の外方から伝搬される電波を受信すると共に、前記クロム膜で覆われたアンテナ部を有する絶縁物品。
【請求項４】
請求項１〜３のうちの一項において、前記クロム膜の上に積層され透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜とを具備する絶縁物品。
【請求項５】
請求項１〜３のうちの一項において、前記基部はドアハンドル本体である絶縁物品。
【請求項６】
電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、前記基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜を形成するクロム膜形成工程を備えている絶縁物品の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、前記クロム膜形成工程は、
網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得るクロムを母材とするクロム膜を前記基部の表面に積層させる成膜工程と、
少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、前記クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する絶縁物品の製造方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜を前記クロム膜に積層させる工程を実施する絶縁物品の製造方法。
【請求項９】
請求項６〜８のうちの一項において、前記基部はドアハンドル本体である絶縁物品の製造方法。
【請求項１】
電気絶縁性をもつ材料で形成された基部と、
前記基部の表面に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成され且つ前記網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜とを具備する絶縁物品。
【請求項２】
請求項１において、前記クロム膜の厚みを示す断面において、前記基部は、前記クロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する絶縁物品。
【請求項３】
請求項１において、前記クロム膜の厚みを示す断面において、前記基部は、前記クロム膜の外方から伝搬される電波を受信すると共に、前記クロム膜で覆われたアンテナ部を有する絶縁物品。
【請求項４】
請求項１〜３のうちの一項において、前記クロム膜の上に積層され透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜とを具備する絶縁物品。
【請求項５】
請求項１〜３のうちの一項において、前記基部はドアハンドル本体である絶縁物品。
【請求項６】
電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、前記基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜を形成するクロム膜形成工程を備えている絶縁物品の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、前記クロム膜形成工程は、
網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得るクロムを母材とするクロム膜を前記基部の表面に積層させる成膜工程と、
少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、前記クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する絶縁物品の製造方法。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜を前記クロム膜に積層させる工程を実施する絶縁物品の製造方法。
【請求項９】
請求項６〜８のうちの一項において、前記基部はドアハンドル本体である絶縁物品の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−１５３９１０（Ｐ２０１２−１５３９１０Ａ）
【公開日】平成２４年８月１６日（２０１２．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１０８５（Ｐ２０１１−１１０８５）
【出願日】平成２３年１月２１日（２０１１．１．２１）
【出願人】（０００００００１１）アイシン精機株式会社 (5,421)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月１６日（２０１２．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１月２１日（２０１１．１．２１）
【出願人】（０００００００１１）アイシン精機株式会社 (5,421)
【Ｆターム（参考）】
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