非金属プレートを持つ調理装置
本発明は、それぞれが非金属圧板、ならびに一体または結合された薄膜素子を有する、２つの非金属プレートを含む調理装置を対象とする。非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られる。各プレートは、互いに対向する非金属圧板とともに、下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレーム内に取り付けられる。薄膜素子への電流を制御するための制御手段もあり、プレートは、エネルギ効率を提供する一方で食料品の調理さえ提供するために、３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調理装置、特に食品調理用ホットプレートグリルに関するものである。本発明は、排他的ではないが特定の、家庭用および商業業務用の用途を有する。本明細書におけるコンタクトグリルへの参照は例示としてのみであり、本発明はこの例示に限定されない。
【背景技術】
【０００２】
コンタクトグリルは、カジュアルな食事、ならびに、速さおよび調理された食料品の品質の一貫性が重要であるファーストフードの販路において用いられる。コンタクトグリルは他の調理形態と比べて比較的効率がよい一方で、金属のホットプレートを熱してその温度を維持するには大量のエネルギを要する。
【０００３】
従来のコンタクトグリルは、下部の厚い金属プレートにヒンジで連結した上部の厚い金属プレートを有する。両方のプレートは、通常、電気素子を介して熱せられる。それらの厚みのために、プレートは、加熱するのに時間がかかり、グリルプレートへの電力を切った後でさえ、余熱を保有する。プレートは、高温に伴う反りを避けるために比較的厚いが、厚いプレートで用いられるエネルギは大量である。
【０００４】
さらにまた、外部が焼けすぎる前に食品片の全体が均一に調理されるので、遠赤外線照射を用いて、３００℃より上の温度である比較的高温が望ましい。高温のホットプレートは、金属プレートの上に、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）およびセラミック材料の組み合わせでプレートをコーティングすることによって開発されてきた（米国特許５７２２３１５）。しかしながら、このコーティングは、摂氏２６０度を超える温度で気化して上へ抜け、およびエネルギの観点からは比較的効率が悪いため、問題を有する。
【０００５】
本発明の目的は、上述の問題の少なくとも部分的に１つ以上を克服する代替調理装置を提供することである。
【発明の概要】
【０００６】
本発明は、プレート内の余熱の蓄積および維持に頼るよりむしろ、低熱量の電気素子から直接ホットプレートを熱することへの代替の取り組みから生じる。また、レンジ台上面のホウケイ酸またはパイレックスガラスは、熱疲労が失透の原因となるために、高い使用温度および変動熱負荷に耐えることができないこと、ならびに薄膜電極は、金属表面に結合することができないこと、ならびに材料科学および電気素子の分野の開発知識の理解のもとに、本発明者は、適切な材料を選択して、改善されたエネルギ効率を有し、比較的高温で調理する調理装置を設計した。
【０００７】
１つの局面において、本発明は、
互いに動作可能につながった２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られるもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置に広く属する。
【０００８】
非金属プレートは、好ましくは、３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができる金属プレートと比べて薄いプレートである。非金属プレートは、好ましくは２〜１２ｍｍの厚みを有する。
【０００９】
ナノセラミックプレートは、好ましくは、こびりつかない表面を提供する黒色ナノ施釉を有する。ナノセラミックプレートは、好ましくは、２〜６ｍｍの厚さである。
【００１０】
パイロセラミックガラスプレートは、好ましくは、２〜６ｍｍの間の厚みを持つ、弱アルカリ性ガラスである。
【００１１】
炭化ケイ素で強化されたセラミックプレート、炭化ケイ素プレート、およびマイカプレートは、好ましくは、４〜６ｍｍの厚さである。
【００１２】
圧板上表面は、リブおよびワッフルパターンを含む任意の適切なデザインを有することができる。
【００１３】
薄膜素子は、好ましくは、非導電性層間に含有されたグラファイトまたは何らかの他の導電性材料である。素子は、母線またはリボン構成によって接続した一連のリブとして位置することができる。薄膜素子は、好ましくは、定位置において平面的である。
【００１４】
１つの実施形態において、薄膜素子は、好ましくは交換可能である。薄膜素子は、好ましくは、新規薄膜素子をプレートの後ろ表面に対して位置させること、および空隙のない圧板との直接接触を確実にするために機械的圧力を用いることによって置き換えられる。好ましくは、薄膜素子および圧板の間には、１つ以上の絶縁層がある。
【００１５】
プレートは、好ましくは、枢動またはヒンジ配置によって、動作可能に互いにつながる。上部プレートは、好ましくは、持ち上がって、その後、枢動して戻る。
【００１６】
フレームは、好ましくは、プレートを取り付けるための凹部を囲む、または部分的に囲む溝またはレールを有する。好ましくは、各部内に凹部がある。
【００１７】
好ましくは、プレートサイズの小さなばらつきに適応してフレームの加熱を防止するために、プレートとフレームとの間には高温ガスケットがある。好ましくは、高温ガスケットはシリコン製である。
【００１８】
１つの好ましい実施形態において、各プレートは交換可能であり、そのため、不良なプレートの置き換えまたは専用プレートの設置を可能にする。プレートは、好ましくは、フレーム内の定位置にスライドさせ、または設置することができる。
【００１９】
別の局面では、本発明は、
互いに枢動可能に取り付けられた２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られ、前記各プレートが交換可能であり、前記各プレートがその周縁部のまわりに溝またはレールを有するもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向し、前記各部が凹部、ならびに、プレートを取り付けるために凹部を囲む、または部分的に囲む補助溝またはレールを有するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置に広く属する。
【００２０】
プレートは、好ましくは、プレートを凸部および溝配置によって定位置にスライドさせ、あるいは、部内で、凹部を囲むまたは部分的に囲むレール上にプレートを位置させることによって取り付けられる。
【００２１】
好ましくは、プレートまたはフレーム凹部の周縁部は、プレートが閉じられるとき、それらの間にキャビティのための空間を形成するシールドを有する。シールドは、好ましくは、熱を反射するため、および／または流体の向きを変えるために機能する。プレート内のシールドは、好ましくは、一体化され、複数の側面のまわりの直立した縁部を形成する。プレート内のシールドは、好ましくは、複数の側面のまわりに伸張し、４ｍｍまでの高さを有する。代替の実施形態では、高温ガスケット、例えばシリコンガスケットは、フレーム凹部の周縁部のまわりに位置し、熱を反射して流体の向きを変えるためのシールドを形成する。
【００２２】
オーブンとして機能することができるキャビティを画定するために、プレート上に、またはそれにつながって設置することができる１つ以上の任意のシールドがあってもよい。こららの任意のシールドは、高さにばらつきがあること、およびキャビティ内の熱を反射する材料製であることができる。好ましくは、プレートの外縁部内にはまり、１００ｍｍから１５０ｍｍの高さを有する長方形の形状を有するステンレス鋼シールドがある。代替として、任意のシールドは、適切なセラミックガラス、または、キャビティ内の食品を調理するよりむしろ暖める低温（より長い放射波長）を反射する、他の赤外線放出材料製であることができる。
【００２３】
調理装置は、洗浄手段を有してもよい。洗浄手段は、好ましくは、プレートの後部、プレートの正面、または一連のプレート間に溝（チャンネル）を、ならびに閉じられた調理装置のプレート上で調理装置の囲まれたキャビティの中に水を噴霧することができるジェット噴霧器を含む。溝は、好ましくは、配管された排水システムと接続する。ジェット噴霧器は、好ましくは、平坦な扇形に噴霧し、水は、プレート表面上で蒸気に変換され、炭化物を取り除いて溝へ排水する前に水に凝縮する。溝は、好ましくは、各プレートの片側のみにある。水は、囲んでいるシールドが空間を囲み、水が隣接する溝に向けられるために、漏れを防止される。好ましくは、最小量の水を要し、圧板は水を蒸気に効率よく変換するために、１２０℃〜１５０℃に熱せられる。
【００２４】
別の好ましい実施形態では、プレートは、好ましくは、各側面に圧板および薄膜加熱素子を有するので、異なる圧板を要するとき、または薄膜素子が不良なときに、プレートを取り除くこと、および裏返すことができる。好ましくは、プレートは、下記の層：圧板、薄膜加熱素子、ならびに、薄膜反射体、薄膜加熱素子、および圧板を用いる鏡像フォーマットの積層絶縁材、を含む。
【００２５】
好ましくは、調理装置は、モジュール式のユニットを形成し、キッチンの要求に適するように異なる構成の他の調理装置と接合することができる。このようにして、調理食品の需要を満たすために、複数の調理装置を接合してもよい。
【００２６】
さらなる局面では、本発明は、好ましくは、キッチンの要求を満たすために、モジュール式の配置で１つ以上の上述のような調理装置を含む調理システムに属する。
【００２７】
本発明をより容易に理解することができるために、ここで、本発明の好ましい実施形態を図示する添付の図面への参照がなされる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】卓上調理装置の模式図である。
【図２】卓上調理装置の模式側面図である。
【図３】開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図４】下部プレートの位置を示す、開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図５Ａ】ワッフルパターンのプレートである。
【図５Ｂ】リブパターンのプレートである。
【図６】部分開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図７】卓上調理装置の模式上面図である
【図８】卓上調理装置の（Ａ−Ａ）断面図である。
【図９】台に設置された２つの調理装置の模式図である。
【図１０】台に設置された２つの調理装置の模式上面図である。
【図１１】台に設置された２つの調理装置の別の模式図である。
【図１２】台に設置された調理装置の（Ｂ−Ｂ）断面図である。
【図１３】台に設置された調理装置の（Ｃ−Ｃ）部分断面図である。
【図１４】リブプレートの模式斜視図である。
【図１５】リブプレートの下面の模式図である。
【図１６】プレート配置の概念図である。
【図１７】オーブンとして用いられる卓上調理装置の写真である。
【図１８】薄膜素子の層の模式図である。
【図１９】卓上調理装置の中で焼いている一斤のパンの写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
図１〜８については、上部プレートフレーム１１、下部プレートフレーム１２、脚１３、調理装置の後面にある排水溝１４、および調理装置１０のいずれかの側面にあって上部プレートフレーム１１を下部プレートフレーム１２と接続するヒンジ１６を有する卓上調理装置１０が示されている。調理装置１０の正面には、上部プレートフレーム１１に取り付けられたハンドル１７がある。調理装置１０の正面に位置する任意の排水溝１８もある。
【００３０】
開放位置では、卓上調理装置１０は、下部プレートフレーム１２および上部プレートフレーム１１内に凹部２０を有する。プレート２３は、凹部２０の周縁部２１の２つ以上の側面を囲んでいるレールの上に載ること、あるいはレールおよび溝配置を通じて定位置に滑り込むことによって、位置することができる。図５Ａはワッフルパターンを持つプレートを示す一方で、図５Ｂはリブパターンを持つプレートを示す。
【００３１】
ヒンジ１６は、オーブンとして機能するために、プレートが対向すること、および互いから離間することを可能にする。ヒンジ１６は、炭火焼グリルまたはコンタクトグリルを形成するために、開閉することもできる。図１７および１９は、パンを焼くためのオーブンとしての調理装置の使用を示す。プレート間は、囲まれた空間内の熱を反射するための、長方形のステンレス鋼シールドである。
【００３２】
凹部２０の周縁部２１は持ち上げられ、プレート２３間の空間を囲むように機能する。
【００３３】
調理の間、いかなるごみも排水溝１４内に集められる。
【００３４】
図９〜１３については、台に設置された調理装置３０が示されている。調理装置３０はモジュール式のユニットであり、台に２つ以上の調理装置３０が設置されてもよい。調理装置３０の制御部３１は、それぞれの調理装置３０に隣接している。調理装置３０は、台の中に設置された下部フレーム３２、および下部フレーム３２にヒンジで連結した上部フレーム３３を有する。各フレーム３２、３３は、プレート３５の配置のための凹部３４を有する。凹部３４のまわりの周縁部３６は持ち上げられて、それらが閉じられたときにプレート３５間に空間を提供する。プレート３５は、図１３に示すように凹部周縁部３６の溝３７内の定位置に保持される。
【００３５】
台に設置された調理装置３０は、上部フレームおよび下部フレームが閉じられているときに動作する自動洗浄システムを有する。自動洗浄システムは１５秒の洗浄あたり１００ｍｌの水を用い、摂氏１２０から１５０度の間の温度を有する熱せられた圧板の上で用いられる。水はジェット噴霧器から平坦な扇形に噴霧され、熱せられた圧板に接触するとすぐに蒸気に変わる。蒸気は炭化したごみを凝縮して取り除き、排水は、隣接する溝を介して配管された排水口へ排水される。
【００３６】
図１４および１５を参照すると、リブ圧板４１、薄膜素子４２、および調理装置のフレームとのスライド係合のためのサイドレール４３を含むプレート４０が示されている。各プレートは、摂氏３００から５００度の間の高温で絶縁体特性を維持するマイカ製である。マイカ板の間に挟まれた薄膜グラファイト素子は、マイカプレートの後面上に積層されるか、その製造の間にマイカプレートと一体化されるかのいずれかである。こびりつかない無害な調理面を提供するナノ施釉した軽量セラミックプレート、非常な高温に耐える利点を有する炭化ケイ素または炭化ケイ素セラミック複合体プレート、ならびに非常に良好な絶縁特性を有するマイカ複合体プレート：を含む、他のタイプの非金属プレートを用いることができる。
【００３７】
図１６を参照すると、異なるタイプの圧板パターンを持つ交換可能なプレートの使用が示されている。炭火焼グリル圧板５０は、肉製品の調理および焼印のための、より厚い持ち上げられたリブを有する。炭火焼グリル圧板５０は高温セラミック製である。ワッフル圧板５１もセラミック材料製であり、高級料理で用いられる。より平坦なグリル５２はナノ施釉したセラミックまたは弱アルカリ性セラミックガラス製である。上部プレート５３は好ましくは透明であり、パイロセラミックガラスまたはマイカ製であることができる。プレートの後部には、排水溝５４も示されている。
【００３８】
図１８は、圧板の後面に隣接し、熱せられた圧板からの熱疲労から薄膜素子を保護するように機能する、一連の絶縁層がある薄膜素子６０の層を示す。熱疲労にともない、薄膜素子は故障して、圧板を熱しなくなる。層６１は６ｍｍのコルクタイルである。層６２は金属化プラスチックである。層６３は６ｍｍのセラミックファイバまたは他の圧縮性絶縁材である。層６４は、５０マイクロメートルのＰＩまたはＰＥＥＫ金属化反射バリアである。層６５は、非常に細かいファイバメッシュであり、層６６はグラファイト素子である。
【００３９】
下記は、選択された材料から作られたプレートの特性および特徴のリストである。
【表１】
【００４０】
［変形例］
もちろん、上記は本発明の説明例として記載された一方で、当業者には明らかな、それ
らについてのすべてのこのような、および他の改変例および変形例は、本明細書に説明されたものとして、本発明の広義の範囲および領域に入るとみなされることが認識される。
【００４１】
本明細書の説明および請求の範囲を通して、用語「含む」、ならびに、「含み」および「含んで」などのその用語の変形例は、他の添加物、構成要素、整数、または構成を除外することを目的としない。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調理装置、特に食品調理用ホットプレートグリルに関するものである。本発明は、排他的ではないが特定の、家庭用および商業業務用の用途を有する。本明細書におけるコンタクトグリルへの参照は例示としてのみであり、本発明はこの例示に限定されない。
【背景技術】
【０００２】
コンタクトグリルは、カジュアルな食事、ならびに、速さおよび調理された食料品の品質の一貫性が重要であるファーストフードの販路において用いられる。コンタクトグリルは他の調理形態と比べて比較的効率がよい一方で、金属のホットプレートを熱してその温度を維持するには大量のエネルギを要する。
【０００３】
従来のコンタクトグリルは、下部の厚い金属プレートにヒンジで連結した上部の厚い金属プレートを有する。両方のプレートは、通常、電気素子を介して熱せられる。それらの厚みのために、プレートは、加熱するのに時間がかかり、グリルプレートへの電力を切った後でさえ、余熱を保有する。プレートは、高温に伴う反りを避けるために比較的厚いが、厚いプレートで用いられるエネルギは大量である。
【０００４】
さらにまた、外部が焼けすぎる前に食品片の全体が均一に調理されるので、遠赤外線照射を用いて、３００℃より上の温度である比較的高温が望ましい。高温のホットプレートは、金属プレートの上に、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）およびセラミック材料の組み合わせでプレートをコーティングすることによって開発されてきた（米国特許５７２２３１５）。しかしながら、このコーティングは、摂氏２６０度を超える温度で気化して上へ抜け、およびエネルギの観点からは比較的効率が悪いため、問題を有する。
【０００５】
本発明の目的は、上述の問題の少なくとも部分的に１つ以上を克服する代替調理装置を提供することである。
【発明の概要】
【０００６】
本発明は、プレート内の余熱の蓄積および維持に頼るよりむしろ、低熱量の電気素子から直接ホットプレートを熱することへの代替の取り組みから生じる。また、レンジ台上面のホウケイ酸またはパイレックスガラスは、熱疲労が失透の原因となるために、高い使用温度および変動熱負荷に耐えることができないこと、ならびに薄膜電極は、金属表面に結合することができないこと、ならびに材料科学および電気素子の分野の開発知識の理解のもとに、本発明者は、適切な材料を選択して、改善されたエネルギ効率を有し、比較的高温で調理する調理装置を設計した。
【０００７】
１つの局面において、本発明は、
互いに動作可能につながった２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られるもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置に広く属する。
【０００８】
非金属プレートは、好ましくは、３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができる金属プレートと比べて薄いプレートである。非金属プレートは、好ましくは２〜１２ｍｍの厚みを有する。
【０００９】
ナノセラミックプレートは、好ましくは、こびりつかない表面を提供する黒色ナノ施釉を有する。ナノセラミックプレートは、好ましくは、２〜６ｍｍの厚さである。
【００１０】
パイロセラミックガラスプレートは、好ましくは、２〜６ｍｍの間の厚みを持つ、弱アルカリ性ガラスである。
【００１１】
炭化ケイ素で強化されたセラミックプレート、炭化ケイ素プレート、およびマイカプレートは、好ましくは、４〜６ｍｍの厚さである。
【００１２】
圧板上表面は、リブおよびワッフルパターンを含む任意の適切なデザインを有することができる。
【００１３】
薄膜素子は、好ましくは、非導電性層間に含有されたグラファイトまたは何らかの他の導電性材料である。素子は、母線またはリボン構成によって接続した一連のリブとして位置することができる。薄膜素子は、好ましくは、定位置において平面的である。
【００１４】
１つの実施形態において、薄膜素子は、好ましくは交換可能である。薄膜素子は、好ましくは、新規薄膜素子をプレートの後ろ表面に対して位置させること、および空隙のない圧板との直接接触を確実にするために機械的圧力を用いることによって置き換えられる。好ましくは、薄膜素子および圧板の間には、１つ以上の絶縁層がある。
【００１５】
プレートは、好ましくは、枢動またはヒンジ配置によって、動作可能に互いにつながる。上部プレートは、好ましくは、持ち上がって、その後、枢動して戻る。
【００１６】
フレームは、好ましくは、プレートを取り付けるための凹部を囲む、または部分的に囲む溝またはレールを有する。好ましくは、各部内に凹部がある。
【００１７】
好ましくは、プレートサイズの小さなばらつきに適応してフレームの加熱を防止するために、プレートとフレームとの間には高温ガスケットがある。好ましくは、高温ガスケットはシリコン製である。
【００１８】
１つの好ましい実施形態において、各プレートは交換可能であり、そのため、不良なプレートの置き換えまたは専用プレートの設置を可能にする。プレートは、好ましくは、フレーム内の定位置にスライドさせ、または設置することができる。
【００１９】
別の局面では、本発明は、
互いに枢動可能に取り付けられた２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られ、前記各プレートが交換可能であり、前記各プレートがその周縁部のまわりに溝またはレールを有するもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向し、前記各部が凹部、ならびに、プレートを取り付けるために凹部を囲む、または部分的に囲む補助溝またはレールを有するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置に広く属する。
【００２０】
プレートは、好ましくは、プレートを凸部および溝配置によって定位置にスライドさせ、あるいは、部内で、凹部を囲むまたは部分的に囲むレール上にプレートを位置させることによって取り付けられる。
【００２１】
好ましくは、プレートまたはフレーム凹部の周縁部は、プレートが閉じられるとき、それらの間にキャビティのための空間を形成するシールドを有する。シールドは、好ましくは、熱を反射するため、および／または流体の向きを変えるために機能する。プレート内のシールドは、好ましくは、一体化され、複数の側面のまわりの直立した縁部を形成する。プレート内のシールドは、好ましくは、複数の側面のまわりに伸張し、４ｍｍまでの高さを有する。代替の実施形態では、高温ガスケット、例えばシリコンガスケットは、フレーム凹部の周縁部のまわりに位置し、熱を反射して流体の向きを変えるためのシールドを形成する。
【００２２】
オーブンとして機能することができるキャビティを画定するために、プレート上に、またはそれにつながって設置することができる１つ以上の任意のシールドがあってもよい。こららの任意のシールドは、高さにばらつきがあること、およびキャビティ内の熱を反射する材料製であることができる。好ましくは、プレートの外縁部内にはまり、１００ｍｍから１５０ｍｍの高さを有する長方形の形状を有するステンレス鋼シールドがある。代替として、任意のシールドは、適切なセラミックガラス、または、キャビティ内の食品を調理するよりむしろ暖める低温（より長い放射波長）を反射する、他の赤外線放出材料製であることができる。
【００２３】
調理装置は、洗浄手段を有してもよい。洗浄手段は、好ましくは、プレートの後部、プレートの正面、または一連のプレート間に溝（チャンネル）を、ならびに閉じられた調理装置のプレート上で調理装置の囲まれたキャビティの中に水を噴霧することができるジェット噴霧器を含む。溝は、好ましくは、配管された排水システムと接続する。ジェット噴霧器は、好ましくは、平坦な扇形に噴霧し、水は、プレート表面上で蒸気に変換され、炭化物を取り除いて溝へ排水する前に水に凝縮する。溝は、好ましくは、各プレートの片側のみにある。水は、囲んでいるシールドが空間を囲み、水が隣接する溝に向けられるために、漏れを防止される。好ましくは、最小量の水を要し、圧板は水を蒸気に効率よく変換するために、１２０℃〜１５０℃に熱せられる。
【００２４】
別の好ましい実施形態では、プレートは、好ましくは、各側面に圧板および薄膜加熱素子を有するので、異なる圧板を要するとき、または薄膜素子が不良なときに、プレートを取り除くこと、および裏返すことができる。好ましくは、プレートは、下記の層：圧板、薄膜加熱素子、ならびに、薄膜反射体、薄膜加熱素子、および圧板を用いる鏡像フォーマットの積層絶縁材、を含む。
【００２５】
好ましくは、調理装置は、モジュール式のユニットを形成し、キッチンの要求に適するように異なる構成の他の調理装置と接合することができる。このようにして、調理食品の需要を満たすために、複数の調理装置を接合してもよい。
【００２６】
さらなる局面では、本発明は、好ましくは、キッチンの要求を満たすために、モジュール式の配置で１つ以上の上述のような調理装置を含む調理システムに属する。
【００２７】
本発明をより容易に理解することができるために、ここで、本発明の好ましい実施形態を図示する添付の図面への参照がなされる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】卓上調理装置の模式図である。
【図２】卓上調理装置の模式側面図である。
【図３】開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図４】下部プレートの位置を示す、開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図５Ａ】ワッフルパターンのプレートである。
【図５Ｂ】リブパターンのプレートである。
【図６】部分開放位置にある卓上調理装置の模式図である。
【図７】卓上調理装置の模式上面図である
【図８】卓上調理装置の（Ａ−Ａ）断面図である。
【図９】台に設置された２つの調理装置の模式図である。
【図１０】台に設置された２つの調理装置の模式上面図である。
【図１１】台に設置された２つの調理装置の別の模式図である。
【図１２】台に設置された調理装置の（Ｂ−Ｂ）断面図である。
【図１３】台に設置された調理装置の（Ｃ−Ｃ）部分断面図である。
【図１４】リブプレートの模式斜視図である。
【図１５】リブプレートの下面の模式図である。
【図１６】プレート配置の概念図である。
【図１７】オーブンとして用いられる卓上調理装置の写真である。
【図１８】薄膜素子の層の模式図である。
【図１９】卓上調理装置の中で焼いている一斤のパンの写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
図１〜８については、上部プレートフレーム１１、下部プレートフレーム１２、脚１３、調理装置の後面にある排水溝１４、および調理装置１０のいずれかの側面にあって上部プレートフレーム１１を下部プレートフレーム１２と接続するヒンジ１６を有する卓上調理装置１０が示されている。調理装置１０の正面には、上部プレートフレーム１１に取り付けられたハンドル１７がある。調理装置１０の正面に位置する任意の排水溝１８もある。
【００３０】
開放位置では、卓上調理装置１０は、下部プレートフレーム１２および上部プレートフレーム１１内に凹部２０を有する。プレート２３は、凹部２０の周縁部２１の２つ以上の側面を囲んでいるレールの上に載ること、あるいはレールおよび溝配置を通じて定位置に滑り込むことによって、位置することができる。図５Ａはワッフルパターンを持つプレートを示す一方で、図５Ｂはリブパターンを持つプレートを示す。
【００３１】
ヒンジ１６は、オーブンとして機能するために、プレートが対向すること、および互いから離間することを可能にする。ヒンジ１６は、炭火焼グリルまたはコンタクトグリルを形成するために、開閉することもできる。図１７および１９は、パンを焼くためのオーブンとしての調理装置の使用を示す。プレート間は、囲まれた空間内の熱を反射するための、長方形のステンレス鋼シールドである。
【００３２】
凹部２０の周縁部２１は持ち上げられ、プレート２３間の空間を囲むように機能する。
【００３３】
調理の間、いかなるごみも排水溝１４内に集められる。
【００３４】
図９〜１３については、台に設置された調理装置３０が示されている。調理装置３０はモジュール式のユニットであり、台に２つ以上の調理装置３０が設置されてもよい。調理装置３０の制御部３１は、それぞれの調理装置３０に隣接している。調理装置３０は、台の中に設置された下部フレーム３２、および下部フレーム３２にヒンジで連結した上部フレーム３３を有する。各フレーム３２、３３は、プレート３５の配置のための凹部３４を有する。凹部３４のまわりの周縁部３６は持ち上げられて、それらが閉じられたときにプレート３５間に空間を提供する。プレート３５は、図１３に示すように凹部周縁部３６の溝３７内の定位置に保持される。
【００３５】
台に設置された調理装置３０は、上部フレームおよび下部フレームが閉じられているときに動作する自動洗浄システムを有する。自動洗浄システムは１５秒の洗浄あたり１００ｍｌの水を用い、摂氏１２０から１５０度の間の温度を有する熱せられた圧板の上で用いられる。水はジェット噴霧器から平坦な扇形に噴霧され、熱せられた圧板に接触するとすぐに蒸気に変わる。蒸気は炭化したごみを凝縮して取り除き、排水は、隣接する溝を介して配管された排水口へ排水される。
【００３６】
図１４および１５を参照すると、リブ圧板４１、薄膜素子４２、および調理装置のフレームとのスライド係合のためのサイドレール４３を含むプレート４０が示されている。各プレートは、摂氏３００から５００度の間の高温で絶縁体特性を維持するマイカ製である。マイカ板の間に挟まれた薄膜グラファイト素子は、マイカプレートの後面上に積層されるか、その製造の間にマイカプレートと一体化されるかのいずれかである。こびりつかない無害な調理面を提供するナノ施釉した軽量セラミックプレート、非常な高温に耐える利点を有する炭化ケイ素または炭化ケイ素セラミック複合体プレート、ならびに非常に良好な絶縁特性を有するマイカ複合体プレート：を含む、他のタイプの非金属プレートを用いることができる。
【００３７】
図１６を参照すると、異なるタイプの圧板パターンを持つ交換可能なプレートの使用が示されている。炭火焼グリル圧板５０は、肉製品の調理および焼印のための、より厚い持ち上げられたリブを有する。炭火焼グリル圧板５０は高温セラミック製である。ワッフル圧板５１もセラミック材料製であり、高級料理で用いられる。より平坦なグリル５２はナノ施釉したセラミックまたは弱アルカリ性セラミックガラス製である。上部プレート５３は好ましくは透明であり、パイロセラミックガラスまたはマイカ製であることができる。プレートの後部には、排水溝５４も示されている。
【００３８】
図１８は、圧板の後面に隣接し、熱せられた圧板からの熱疲労から薄膜素子を保護するように機能する、一連の絶縁層がある薄膜素子６０の層を示す。熱疲労にともない、薄膜素子は故障して、圧板を熱しなくなる。層６１は６ｍｍのコルクタイルである。層６２は金属化プラスチックである。層６３は６ｍｍのセラミックファイバまたは他の圧縮性絶縁材である。層６４は、５０マイクロメートルのＰＩまたはＰＥＥＫ金属化反射バリアである。層６５は、非常に細かいファイバメッシュであり、層６６はグラファイト素子である。
【００３９】
下記は、選択された材料から作られたプレートの特性および特徴のリストである。
【表１】
【００４０】
［変形例］
もちろん、上記は本発明の説明例として記載された一方で、当業者には明らかな、それ
らについてのすべてのこのような、および他の改変例および変形例は、本明細書に説明されたものとして、本発明の広義の範囲および領域に入るとみなされることが認識される。
【００４１】
本明細書の説明および請求の範囲を通して、用語「含む」、ならびに、「含み」および「含んで」などのその用語の変形例は、他の添加物、構成要素、整数、または構成を除外することを目的としない。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに動作可能につながった２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られるもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置。
【請求項２】
非金属プレートが、好ましくは、３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができる金属プレートと比べて薄いプレートである、請求項１記載の調理装置。
【請求項３】
互いに枢動可能に取り付けられた２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られ、前記各プレートが交換可能であり、前記各プレートがその周縁部のまわりに溝またはレールを有するもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向し、前記各部が凹部、ならびに、プレートを取り付けるために凹部を囲む、または部分的に囲む補助溝またはレールを有するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置。
【請求項４】
プレートが、好ましくは、プレートを凸部および溝配置によって定位置に滑り込ませること、あるいは、部内で、凹部を囲むまたは部分的に囲むレール上にプレートを位置させることによって取り付けられる、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項５】
プレートまたはフレーム凹部の周縁部が、プレートが閉じられるとき、それらの間にキャビティのための空間を形成するシールドを有する、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項６】
プレートの後部、プレートの正面、または一連のプレート間に溝を、ならびに閉じられた調理装置のプレート上で調理装置の囲まれたキャビティの中に水を噴霧することができるジェット噴霧器を含む洗浄手段もある、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項７】
オーブンとして機能することができるキャビティを画定するために、プレート上に、またはそれにつながって設けることができる１つ以上の任意のシールドがある、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項８】
プレートが、下記の層：圧板、薄膜加熱素子、ならびに、薄膜反射体、薄膜加熱素子、および圧板を用いる鏡像フォーマットの積層絶縁材、を有するリバーシブルのプレートである、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項９】
調理装置が、モジュール式のユニットを形成し、キッチンの要求に適するように異なる構成の他の調理装置と接合することができる、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項１】
互いに動作可能につながった２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られるもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置。
【請求項２】
非金属プレートが、好ましくは、３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができる金属プレートと比べて薄いプレートである、請求項１記載の調理装置。
【請求項３】
互いに枢動可能に取り付けられた２つの非金属プレートであって、各非金属プレートが、非金属圧板ならびに一体または結合された薄膜素子を有し、非金属圧板は、ナノセラミック、パイロセラミックガラス、炭化ケイ素で強化されたセラミック、炭化ケイ素、またはマイカ複合体から選択される材料から作られ、前記各プレートが交換可能であり、前記各プレートがその周縁部のまわりに溝またはレールを有するもの、
下部に枢動可能に取り付けられた上部を有するフレームであって、前記各部が、前記非金属プレートのうち１つを支持するものであって、使用中は非金属圧板が互いに対向し、前記各部が凹部、ならびに、プレートを取り付けるために凹部を囲む、または部分的に囲む補助溝またはレールを有するもの、および
薄膜素子への電流を制御するための制御手段であって、プレートが３００℃から４５０℃の間の温度に熱することができるもの
を含む、調理装置。
【請求項４】
プレートが、好ましくは、プレートを凸部および溝配置によって定位置に滑り込ませること、あるいは、部内で、凹部を囲むまたは部分的に囲むレール上にプレートを位置させることによって取り付けられる、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項５】
プレートまたはフレーム凹部の周縁部が、プレートが閉じられるとき、それらの間にキャビティのための空間を形成するシールドを有する、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項６】
プレートの後部、プレートの正面、または一連のプレート間に溝を、ならびに閉じられた調理装置のプレート上で調理装置の囲まれたキャビティの中に水を噴霧することができるジェット噴霧器を含む洗浄手段もある、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項７】
オーブンとして機能することができるキャビティを画定するために、プレート上に、またはそれにつながって設けることができる１つ以上の任意のシールドがある、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項８】
プレートが、下記の層：圧板、薄膜加熱素子、ならびに、薄膜反射体、薄膜加熱素子、および圧板を用いる鏡像フォーマットの積層絶縁材、を有するリバーシブルのプレートである、請求項１または３記載の調理装置。
【請求項９】
調理装置が、モジュール式のユニットを形成し、キッチンの要求に適するように異なる構成の他の調理装置と接合することができる、請求項１または３記載の調理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１９】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１９】
【図１８】
【公表番号】特表２０１２−５０８５９８（Ｐ２０１２−５０８５９８Ａ）
【公表日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５３５８４０（Ｐ２０１１−５３５８４０）
【出願日】平成２１年１１月１６日（２００９．１１．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＡＵ２００９／００１４９０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５４４４３
【国際公開日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．パイレックス
【出願人】（５１１１１７１９６）クイックアイアール・キュイジーヌ・ピーティーワイ・リミテッド (1)
【氏名又は名称原語表記】ＱＵＩＣＫＩＲ ＣＵＩＳＩＮＥ ＰＴＹ ＬＴＤ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１１月１６日（２００９．１１．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＡＵ２００９／００１４９０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５４４４３
【国際公開日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．パイレックス
【出願人】（５１１１１７１９６）クイックアイアール・キュイジーヌ・ピーティーワイ・リミテッド (1)
【氏名又は名称原語表記】ＱＵＩＣＫＩＲ ＣＵＩＳＩＮＥ ＰＴＹ ＬＴＤ
【Ｆターム（参考）】
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