【課題】計測対象に対する撮像装置の相対的な位置や姿勢を一定に保つことが容易な、あるいは、計測対象に対する相対的な位置や姿勢を容易に調整できる変位／ひずみ計測装置を提供する。
【解決手段】撮像装置２と画像解析装置から構成されて、撮像装置２で計測対象物を撮像した画像を画像解析装置で解析して、当該計測対象物の変位又はひずみを算出する変位／ひずみ計測装置において、撮像装置２に、１個の固定当接部材１３と、２個のマイクロメータ１４を取り付けて、固定当接部材１３とマイクロメータ１４のスピンドル１４ｂの先端を計測対象物に当接させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】トナーパターンのトナー濃度や位置を、より高精度に検出できる反射型光学センサを提供する。
【解決手段】発光部Ｅ１〜Ｅ９を配列した照明系と、受光部Ｄ１〜Ｄ９を配列された受光系と、共に平凸形状の照射用マイクロレンズアレイＬＥ１〜ＬＥ９および受光用マイクロレンズアレイＬＤ１〜ＬＤ９とを有し、照射用マイクロレンズの光軸は、対応する発光部Ｅ１〜Ｅ９の中心を通り発光部に垂直な発光部軸に平行で、この発光部軸に対して受光系側へ所定距離ずれ、各受光用マイクロレンズＬＤ１〜ＬＤ９の光軸は、対応する受光部の中心を通り受光部に垂直な受光部軸に対して平行で、受光部軸に対して、照明系に近づく側もしくは遠ざかる側にずれており、照射用マイクロレンズと受光用マイクロレンズとは、レンズ面積、レンズ面曲率半径、レンズ肉厚が、何れも互いに異なり、受光用マイクロレンズのレンズ面積が照射用マイクロレンズのレンズ面積より大きい。 （もっと読む）

【課題】回転体の位置を高精度に測定する。
【解決手段】回転体６の回転軸に垂直な平面に対して傾斜角度θで反射ミラー８を回転体６に取り付けて、干渉測長手段である光学ユニット１０から回転体６の回転軸に沿って照射される入射光２０ａを反射ミラー８によって反射させて干渉縞を得る。入射光２０ａの光路を回転軸から径方向にずらした距離Ｒと、入射光２０ａの波長λと、傾斜角度θとの関係が、０．４λ＜２Ｒｓｉｎθを満たすように設定することで、サイクリックエラーによる測長誤差を低減する。 （もっと読む）

【課題】外乱光が存在する測定環境においても、測定対象物におけるレーザ反射光の抽出を高速且つ高精度に実行可能な距離測定装置を提供する。
【解決手段】照射方向を変化させながら、測定対象物Ｗにスリット状のレーザ光を照射する照射装置２と、撮影方向を変化させながら、測定対象物Ｗで反射したレーザ光の反射光を撮影画像として取り込む撮像装置３と、照射装置２及び撮像装置３の動きを制御する制御装置４と、撮影画像に２値化処理及びラベリング処理を施した処理画像を作成する画像処理部５と、処理画像に含まれる反射光と外乱光とを区別するために用いられる所定の物理量を、ラベリングされた領域ごとに演算する物理量演算部６と、少なくとも２枚の処理画像を比較して、対応する領域の物理量の変化量を算出し、変化量が予め設定した閾値を超過している領域のデータを消去する外乱光消去部７と、を備えた距離測定装置１。 （もっと読む）

【課題】検出対象物の位置の検出精度の低下を抑制する。
【解決手段】光学式位置検出装置は、物体表面の少なくとも一部で構成される基準面２００Ｐの上方位置に設定された検出空間Ｓに配置される検出対象物３００を光学的に検出するもので、位置検出光Ｌ２を出射して検出空間に基準面に沿った位置に応じて変化する光強度分布を形成する位置検出用光源と、検出空間の側方位置に配置され、検出空間で検出対象物により反射された位置検出光を検出する光検出器４１０と、光検出器の光検出値に基づいて前記検出対象物の位置を検出する位置検出部とを具備する。光検出器は、光検出面４１１ａを備えた検出器本体４１１と、光検出面の検出空間の側において位置検出光の少なくとも一部を前記光検出面に対して遮光する遮光構造４１２とを有し、遮光構造は、基準面から出射し直接に光検出面に入射する位置検出光の少なくとも一部を光検出面に対して遮光する。 （もっと読む）

【課題】検出結果の誤差を低減することが可能な干渉計システム、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】移動体の位置情報を検出する干渉計システムであって、光を射出する光源と、光を分光して射出する分光装置と、移動体に設けられ、分光された光を反射させる移動鏡と、移動鏡を介した光を受光する受光装置と、光が分光装置から射出され移動鏡に入射し当該移動鏡で反射された後に分光装置へ向かう所定の光路を形成する第１光学系と、当該光路を進行した光が分光装置に入射せずに当該光路の進行方向とは逆向きに当該光路を進行するように光を導光する第２光学系と、第２光学系を進行する光のうち所定成分を前記受光装置に入射させ、所定成分以外の成分を光路に入射させないように当該光を分光する第２分光装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】光源部から出射された検査光の一部を対象物体の有無にかかわらず強度が一定のブランク光としてモニターして光源部での駆動条件の設定等に利用するとともに、かかるブランク光が対象物体の位置検出を妨げることのない光学式位置検出装置、並びに当該光学式位置検出装置を備えたハンド装置および位置検出機能付き表示装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０において、光源部１１は、検査光Ｌ２を出射して検出領域１０Ｒに光強度分布を形成し、対象物体Ｏｂで反射した位置検出用反射光Ｌ３を第１光検出器３０で検出する。また、対象物体Ｏｂにより反射した位置検出用反射光Ｌ３が入射しない第２光検出器６０が設けられており、かかる第２光検出器６０には、検出領域１０Ｒを経由しないブランク光Ｌ０が入射する。第１光検出器３０については、位置検出用反射光Ｌ３が入射し、ブランク光Ｌ０が入射しない構成とする。 （もっと読む）

【課題】試験対象物の第１及び第２表面を干渉法によってプロファイルすることに加えて、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づき、試験対象物の幾何学的特性を測定する。
【解決手段】本発明は、試験対象物の幾何学的特性を測定するための方法を特徴とする。この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。ある実施形態では、この空間的関係は、校正済みのゲージ・ブロックを使用することによって、または変位測定干渉計を使用することによって測定することができる。対応するシステムも説明される。 （もっと読む）

【課題】複屈折基板の板厚を正確に求める板厚測定法を得る。
【解決手段】予め複屈折基板の板厚ｔと反射干渉光強度波長特性の振幅の節に対応した波
長λ（ｔ）との関係を求めるステップと、前記基板の反射干渉光強度波数特性を取得する
ステップと、前記反射干渉光強度波数特性の節より波数の大きい領域の前記反射干渉光強
度波数特性のデータに対し、相隣接する２つのデータのうち波数の大きい側のデータから
波数の小さい側のデータを減じ、それに−１を乗じた値を求め、この値を波数の小さい側
のデータに加算した新データで、波数大きいデータを置換して補正反射干渉光強度波数特
性を求めるステップと、前記補正反射干渉光強度波数特性にＦＦＴ処理を施して、複屈折
基板の板厚を求めるステップと、を含む複屈折基板の板厚測定法である。 （もっと読む）

3Dモデルを生成し、および／またはダイヤモンドのような研磨原石におけるインクルージョンを検出する、方法および機器について示した。原石は、一連の個別の増分で回転される。原石の各回転位置では、原石に平行光が照射され、輪郭画像が記録される。また、原石には、各回転位置で、（更なる回転の前に）拡散光が照射され、拡散画像が記録される。画像は、解析され、原石の表面の3Dモデルが取得される。次に、拡散画像において、特徴物が同定され、これは、後続の拡散画像の間でトラックされる。トラック化特徴物は、原石による光線の反射および屈折を考慮して、原石の3Dモデルに対して配置される。その後、特徴物のいくつかまたは全てがインクルージョンとして同定される。
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【課題】光電変換によって得られた光電子を所望の領域に高速に移動させ、集積させるようにして、測距装置や受光システム等を実現できるようにする。
【解決手段】光を検知して光電子に変換する第１光電変換素子１０Ａは、半導体基体１２上に絶縁体を介して形成された電極１６を有する１つのＭＯＳダイオード１８と、半導体基体１２に形成された複数の埋め込みフォトダイオードＢＰＤとを有する。ＭＯＳダイオード１８の電極１６は、上面から見たとき、１つの電極部位２０から複数の枝分かれ部位２２に分岐配列されたくし歯形状を有し、複数の埋め込みフォトダイオードＢＰＤは、上面から見たとき、電極１６における複数の枝分かれ部位２２間にそれぞれ入れ子状に配置されている。 （もっと読む）

様々な計測システムおよび計測方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】多重反射の影響を抑えて測定精度を向上させた三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】三次元形状測定装置１が、測定対象物５に対して周期的な光強度分布を有した縞パターン１５を投影するパターン投影部１０と、測定対象物５に投影された縞パターン１５を撮像するパターン撮像部２０と、パターン撮像部２０に撮像された縞パターン１５の画像に基づいて、測定対象物５の三次元形状を測定する画像処理部３１とを備え、パターン投影部１０は、縞パターン１５を領域分割した複数の分割縞パターンを個別に測定対象物に対して投影可能に構成され、パターン撮像部２０は、個別に測定対象物に投影された分割縞パターンを撮像し、画像処理部３１は、複数の分割縞パターンについてパターン撮像部２０にそれぞれ撮像された分割縞パターンの画像に基づいて、測定対象物の三次元形状を測定するようになっている。 （もっと読む）

【課題】撮像対象との距離を表す距離画像を生成する際に、撮像対象の光反射やその光沢などの外乱、測定原理等に起因する距離の誤差の低減を実現する。
【解決手段】撮像対象との距離を計測するための画像を撮像する第１の撮像手段１１０と、第１の撮像手段１１０で撮像された画像に基づくデータを用いて撮像対象までの距離を算出する距離算出手段１３０と、偏光成分を計測するための画像を撮像する第２の撮像手段１２２と、第２の撮像手段１２２で撮像された画像に基づくデータを用いて偏光状態の解析処理を行う偏光解析手段１４０と、距離算出手段１３０で算出された距離に係る距離情報１０３及び偏光解析手段１４０で解析処理された偏光状態に係る偏光解析情報１０５に基づいて、撮像対象の距離画像１０６を生成する距離画像生成手段１５０を備える。 （もっと読む）

【課題】
装置高さが低くかつ小型化が可能なトロリ線摩耗量検出光学系およびトロリ線摩耗量測定装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、レール横断方向に配列された単色光光源複数個によりスリット状の投光光を生成してトロリ線の摺動面に照射する投光ユニットを設け、投光ユニットを所定の周期でパルス駆動することで投光光をパルス状の光としてトロリ線の摺動面に照射する。そして、投光光が照射されたときとそうでないときのトロリ線からの反射光をの受光信号の差により摺動面についての検出信号を得る。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 投光部および受光部が近接し、かつ、これらの前側にカバーガラスが設けられている構成の光学式膜厚測定装置において、カバーガラスに起因する迷光の影響を有効に抑制し、測定精度を向上させる。
【解決手段】 投光部１２１ａの投光面１２２ａおよび受光部１２１ｂの受光面１２２ｂ同士の間隔をｄと定義し、投光面１２２ａおよび受光面１２２ｂとカバーガラス１４との間隔をＬと定義し、投光部１２１ａの開口数をＮＡ₁ 、受光部１２１ｂの開口数をＮＡ₂ と定義すれば、カバーガラス１４は、０＜Ｌ＜ｄ／（tanθ₁ ＋tanθ₂ ）を満たす位置に設けられる。但し、θ₁ ＝sin^-1 (ＮＡ₁ )であり、θ₂ ＝sin^-1 (ＮＡ₂ )であり、θ₁ およびθ₂ はいずれも９０°未満である。 （もっと読む）

【課題】スミアの発生方向を考慮してＣＣＤイメージセンサのカメラ（ＣＣＤカメラ）の設置を工夫することなく、簡単なエッジ検出の画像処理により撮影画像のスミアの除去および高輝度のノイズの低減の両方が同時に行なえるようにする。
【解決手段】画像処理ユニット３の水平エッジ検出部３１、垂直エッジ検出部３２により、ＣＣＤカメラ２の撮影画像Ｐｉの水平方向エッジ画像Ｐｈおよび垂直方向エッジ画像Ｐｖを生成する。このとき、スミアがＣＣＤカメラ２の撮影画像Ｐｉの垂直、水平いずれかの方向に発生しても、両方向のエッジ画像Ｐｈ、Ｐｖのいずれか一方にのみスミアが含まれ、他方にはスミアが含まれなくなる。そして、画像処理ユニット３の論理積演算部３３により両エッジ画像Ｐｈ、Ｐｖの論理積を演算し、演算結果の区分線の検出対象の画像Ｐｈｖとしてスミアが除去された画像Ｐｈｖを形成し、同時に、撮影画像Ｐｉに散在する高輝度のノイズも低減する。 （もっと読む）

【課題】
コヒーレント照明イメージング・システムにおいて、スペックル雑音による画像の劣化を低減する。
【解決手段】
コヒーレント光源により照明されたオブジェクトの画像や、干渉縞パターンにより照明されたオブジェクトの画像等におけるスペックル雑音を低減する方法及び装置について記述した。一の方法では、投影軸に沿って投影されたコヒーレント放射の構造的な照明パターンによりオブジェクトが照明される。上記投影軸の角度方向が、画像取得期間に或る角度範囲において変調される。好ましくは、画像取得の間は、オブジェクトの表面に投影された構造的な照明パターンの形状特徴は変化せず、スペックル雑音の低減された画像が取得される。構造的な照明パターンとして、照明されたオブジェクトの表面情報を取得する３Ｄ測定システムにより生成される干渉縞パターンなどの縞パターンを用いることができる。 （もっと読む）