【課題】簡便な構成でターゲット面と垂直な成分を含む方向の変位量を測定することができる画像相関変位センサを提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる画像相関変位センサは、照射光を出射する照射部１３０'と、ターゲット面３００で生成したスペックルフィールドを複数回に亘って撮像するために用いられ、ターゲット面近傍においてターゲット面の法線方向から傾斜した光線路Ａと、光線路Ｂ'と、光線路Ａ，Ｂ'の少なくとも一方を偏向する素子１１０'と、を有する撮像部２４０と、光線路Ａにおいて撮像することにより得られた複数画像と光線路Ｂ'において撮像することにより得られた複数画像とに基づいて、ターゲット面３００の法線成分を含む方向の変位を計算する処理部２００と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】バンプの高さを保護膜表面の反射の影響を除去した状態で精度よく測定するとともに、高さ測定の処理を高速化することが出来るウェーハバンプの高さ測定装置及び高さ測定方法を提供する。
【解決手段】保護膜の無い部位でＰＳＤ素子からの出力に基づいて算出した高さとエリア撮像カメラからの撮像画像に基づいて算出した高さとが「０」となるようにリセットした後（ＳＣ１）、保護膜表面の高さをエリア撮像素子からの撮像画像に基づいて測定し、バンプの頂点の高さをＰＳＤ素子からの出力に基づいて測定する（ＳＣ２）。バンプの頂点の高さから保護膜表面の高さを減算してバンプ高さｈを演算し（ＳＣ３）、メインルーチンへ戻る。 （もっと読む）

【課題】測定対象物上に薄膜が形成されている場合でも、測定対象物の温度を従来に比べて正確に測定できる温度測定方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を、基板上に薄膜が形成された測定対象物の測定ポイントまで伝送する工程と、基板の表面での反射光による第１の干渉波と、基板と薄膜との界面及び薄膜の裏面での反射光による第２の干渉波を測定する工程と、第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を算出する工程と、第２の干渉波の強度に基づいて、薄膜の膜厚を算出する工程と、算出した薄膜の膜厚に基づいて、基板の光路長と算出した光路長との光路差を算出する工程と、算出した光路差に基づいて算出した第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を補正する工程と、補正された光路長から測定ポイントにおける測定対象物の温度を算出する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】出射光学系の部品の取り付け角度がずれたとき、出射光学系から出射されるレーザ光の光軸方向のずれを相殺するように出射光学系に入射するレーザ光の光軸の方向を調整することができる３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】レーザ光を出射するレーザ光源１０とレーザ光を走査する第１ミラー１６との間に、直交する２つの回転軸回りに回転可能に支持されたミラー１４ａを設ける。測定対象物ＯＢからの反射光を受光して受光位置に応じた信号を出力する第１受光センサ２４と、第１受光センサ２４にて反射した反射光を受光して受光位置に応じた信号を出力する第２受光センサ２６を設ける。３次元カメラＣＡと測定対象物ＯＢが所定の位置関係になるようにセットし、反射光が第２受光センサ２６の所定の範囲内にて受光されるように、ミラー１４ａを回転させる。 （もっと読む）

【課題】測定物の上面も側面も１０〜１００ナノメートルの超高精度で走査測定できる三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】上面スタイラス１ａは、エアスライド１ｃによりＸＹ方向には振れずに測定物の上面を走査測定でき、第１のミラー１ｂとレンズ２ｄｅによりＺ座標も精度良く測定でき、側面スタイラス２ｉａは、ＸＹ方向にのみ変位可能でＺ方向には振れないので測定物の側面を走査測定でき、側面スタイラス２ｉａのＺ座標測定は前記第１のミラー１ｂのＺ座標測定値を利用して、より高精度に側面スタイラスのＸＹ変位を傾斜角度測定部２ｊで測定することができる。 （もっと読む）

【課題】基準点に対する像内の構造の位置を決定する方法、更に、この方法を実施するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】対称中心を有する構造の基準点に対する像内の位置を決定する方法を提供し、本方法は、構造を含み、かつ基準点を有する像を準備する段階と、基準点に対する像の少なくとも１つの対称操作を実施し、それによって構造に対して合同である鏡像反転構造を有する少なくとも１つの鏡像が得られる段階と、構造と１つの鏡像反転構造又は２つの鏡像反転構造との間の少なくとも１つの変位ベクトルを決定する段階と、構造の位置を少なくとも１つの変位ベクトルから基準点に対する構造の対称中心の位置として計算する段階とを含む。更に、基準点に対する像内の構造の位置を決定するための位置測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】回折格子が配置された面の垂直方向の変位のみを容易に検出することができる変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１は、照射光学系２と、干渉光学系３と、受光部４と、変位検出部５とを備えている。照射光学系３は、回折格子１００の格子構造が周期的に並んでいるＸ方向に垂直な面に対して異なる角度でそれぞれ光束を回折格子に入射させる。干渉光学系３は、回折格子１００に入射された入射光Ａ１，Ｂ１のＭ次回折光Ａ３，Ｂ３どうしを干渉させて干渉光を生じさせる。受光部４は、干渉光を受光して干渉信号を検出する。変位検出部は、干渉信号の変化から回折格子が設けられた面の垂直方向の変位を検出する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン要素のエッジ位置を再現性よく求める。
【解決手段】パターン測定装置では、対象物上のパターン要素を示す画像において当該パターン要素の一のエッジに交差するｘ方向における輝度プロファイルが取得される。続いて、輝度プロファイルにおいてエッジを示す傾斜部に含まれる複数の画素位置のうち、ｘ方向に連続するとともに当該複数の画素位置よりも少ない画素位置を対象位置群として、複数通りの対象位置群７１，７２を決定し、各対象位置群７１，７２に含まれる画素位置における輝度プロファイルの輝度から高次の近似式が求められる。そして、複数通りの対象位置群７１，７２にそれぞれ対応する複数の近似式において、所定のエッジ輝度Ｔ０となる傾斜部内の位置を複数のエッジ候補位置として取得し、複数のエッジ候補位置に基づいて最終的なエッジ位置が求められる。これにより、パターン要素のエッジ位置を再現性よく求めることができる。 （もっと読む）

【課題】可動オブジェクトの位置を測定するように構成された位置測定システムのターゲット面を較正する方法が用いられる。
【解決手段】位置測定システムは、可動オブジェクト上に設けられたターゲット面と、静止センサシステムと、センサシステムの少なくとも１つの測定信号に基づいて可動オブジェクトの位置を計算する処理デバイスとを含む。処理デバイスは、ターゲット面の凹凸を補正するターゲット面の補正マップを含む。当該方法は、ターゲット面を測定し、測定されたターゲット面ならびにターゲット面および／またはターゲット面に影響を及ぼす物理的オブジェクトの１つ以上の変形モードに基づいてターゲット面全体の再較正された補正マップを決定することによってターゲット面の補正マップを再較正することを含む。 （もっと読む）

【課題】位置や形状を測定するに際しての校正の簡素化をはかったシートに形成されたパターンの位置および形状測定装置を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたシートと、
該シートの搬送方向に直交して配置されたカメラ保持機構と、
該カメラ保持機構の長手方向に沿って移動可能に配置されたカメラと、
該カメラで撮像した画像を処理する画像処理コンピュータと、
を備え、校正に際しては、前記塗工パターンと、校正用基準体の撮像画像に基づいて校正を行う。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）

【課題】高さの異なる第一物面および第二物面の位置合わせマーク像を同時に倍率を変えることなく取り込むことができる結像型の観察装置および観察方法を提供する。
【解決手段】観察装置１Ａは、同軸上に配置された部分反射ミラー２，３と、部分反射ミラー２，３を経由して、ホログラム面２１ａおよび光検出器面２２ａ上の物点から発せられた光線を検出する光学顕微鏡１９とを備える。光学顕微鏡１９は、光検出器面２２ａ（第一物面）については部分反射ミラー２，３の透過光により観察し、ホログラム面２１ａ（第二物面）については部分反射ミラー２と部分反射ミラー３との間を往復後の透過光により観察する。これにより、観察装置１Ａは、同軸上に配置された高さの異なる光検出器面２２ａ（第一物面）およびホログラム面２１ａ（第二物面）を光学的に同時に観察することができる。 （もっと読む）

【課題】エッジ（段差）近傍の表面プロファイルの測定結果を正確に取得することができる、物体の表面プロファイルを測定する方法を提供する。
【解決手段】物体の表面プロファイルを測定する方法であって、物体の表面の段差が走査方向に対して延在する第１の方向の情報を取得するステップと、前記情報に応じて、照射ビームに与える位相分布を設定するステップと、前記照射ビームで前記物体を前記走査方向に走査するステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】光束を測定リフレクタ方向に向ける偏向ユニットを簡素かつコンパクトにする。
【解決手段】光線偏向ユニット４０に二つのカルダンフレーム４１，４２を備えたカルダン構造を含んでおり、その内の第一カルダンフレーム４１は第一回転軸Ａ１を中心に動作的に変位自在であり、第一カルダンフレーム内にある第二カルダンフレーム４２は、第一回転軸に対して直角に向いた第二回転軸Ａ２を中心に動作的に変位自在である。二つの回転軸は、参照リフレクタ３０が配設されている位置固定された参照点Ｒで交差している。カルダンフレームに多数のミラーが固定して配設されているので、複数のミラーを介することにより光束が、測定リフレクタへ向けられる時に位置固定された参照点を中心に旋回自在である。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ検査装置でベアウエハ（鏡面ウエハ）を検査する場合、ウエハ上には何もマークがないため、ベアウエハを正しく位置決めできない。
【解決手段】本発明は、前記基板を移動する搬送系と、前記基板に光を照射する照明光学系と、前記基板からの光を検出する検出光学系と、前記検出光学系の検出結果に基づいて前記基板の欠陥を検出する第１の処理部と、前記検出光学系の検出結果に基づいて画像を取得する第２の処理部とを有し、前記第２の処理部は、前記基板の外周部の画像、及び前記基板のノッチ部の画像を取得し、前記外周部の画像に基づいて、前記基板の中心位置を計算し、前記中心位置、及び前記ノッチ部の画像に基づいて、前記基板の回転ずれを計算し、前記搬送系は、前記中心位置、及び前記基板の回転ずれに基づいて前記基板の位置決めを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複層塗膜の内部構造及び内部欠陥を、非接触非破壊且つ簡便に測定、解析することができる複層塗膜の非接触非破壊評価方法及びそれを用いた装置を提供すること。
【解決手段】本評価方法は、光源１からの光を参照光と複層塗膜４への入射光とに分岐する分岐ステップと、前記参照光の光学距離を調整する調整ステップと、前記複層塗膜からの反射光と前記参照光とを干渉せしめる干渉ステップと、前記複層塗膜からの前記反射光を含む干渉光を検出して前記干渉光の強度信号を出力する検出ステップと、前記強度信号を解析する解析ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】既知のアライメントシステムの不利な点は、アライメント測定システムの自己参照干渉計が比較的高価となりうることである。
【解決手段】自己参照干渉計は、アライメントビームを分割して参照ビームおよび変性ビームを生成する光学システムを含む。光学システムは、参照ビームの回折次数が変性ビームの対応する反対の次数と空間的に重なり合うよう、参照ビームおよび変性ビームを合成するビームスプリッタを含む。ディテクタシステムは、光学システムから空間的に重なり合う参照ビームおよび変性ビームを受け、位置信号を決定する。ディテクタシステムは、それらビームが干渉するようそれらビームの偏光を操作し、干渉する参照ビームおよび変性ビームをディテクタに導く偏光システムを含む。ディテクタでは、干渉するビームの強度の変化から位置信号が決定される。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光源を用いて線状パターンの投影を行いつつ、投影面でのスペックルの発生を抑制する
【解決手段】レーザビームＬ５０を、光ビーム走査装置６０によって反射させ、ホログラム記録媒体４５に照射する。ホログラム記録媒体４５には、走査基点Ｂに収束する参照光を用いて線状散乱体の像３５がホログラムとして記録されている。光ビーム走査装置６０は、レーザビームＬ５０を走査基点Ｂで屈曲させてホログラム記録媒体４５に照射する。このとき、レーザビームの屈曲態様を時間的に変化させ、屈曲されたレーザビームＬ６０のホログラム記録媒体４５に対する照射位置を時間的に変化させる。ホログラム記録媒体４５からの回折光Ｌ４５は、ステージ２１０の受光面Ｒ上に線状散乱体の再生像３５を生成する。受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 （もっと読む）