【課題】Ｃ形フレームの機械的なドリフトによる距離検出器間の距離の変位を瞬時に測定し、厚さ測定誤差を補正する厚さ測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｃ形フレーム３の腕部に設けられる第１の距離検出器１と第２の距離検出器２との出力から厚さを求める厚さ測定装置であって、Ｃ形フレーム３の腕部の下部に設けられ、腕部空間内に、レーザビームの光路にハーフミラーを設けて、当該ハーフミラーの反射した第１のレーザビームの位置の変化を検出する第１のビーム位置変位検出器４ａと、当該第１のビーム位置検出器の出力から第１のレーザビームの入射角度の変位と記第１の距離検出器と第２の距離検出器間の距離検出器間の距離の変位と、を求める第１のビーム位置変位処理部４ｂとを備え、厚さ測定値を自動的に補正するようにした厚さ測定装置。 （もっと読む）

【課題】 低倍率視野内のワークを高倍率視野内へ自動搬送してワークの寸法を高い精度で測定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 ＸＹ方向に移動可能な可動ステージ１２と、特徴量情報及び測定箇所情報を保持する測定設定データ記憶手段と、ワークＷを低倍率で撮影し、低倍率画像を生成する低倍率撮像手段と、特徴量情報に基づいて、低倍率画像におけるワークＷの位置及び姿勢を特定するワーク検出手段と、特定された位置及び姿勢に基づいて、ワークＷの測定対象箇所が高倍率視野内に収まるように、可動ステージ１２を制御するステージ制御手段と、高倍率視野内に移動した測定対象箇所を高倍率で撮影し、高倍率画像を生成する高倍率撮像手段と、測定箇所情報に基づいて、高倍率画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 ワークの寸法を高い精度で測定することができるとともに、被写界深度を越える段差を有するワークであっても、測定対象とする箇所を容易に設定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 可動ステージ１２上のワークＷを撮影する撮像手段と、可動ステージ１２のＺ方向の位置が異なる複数のワーク画像を深度合成し、深度合成画像を生成する深度合成手段と、マスターピースを撮影して得られる深度合成画像をマスター画像Ｍ１として画面表示するマスター画像表示手段と、マスター画像Ｍ１に対し測定対象箇所及び測定方法を指定し、測定箇所情報を生成する測定箇所情報生成手段と、測定箇所情報に基づいて、ワークＷを撮影して得られた深度合成画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】低コストで複数の被測定物を測定することができる３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】３次元形状測定装置は、非線形媒質３０を有し、該非線形媒質３０に照射された第１偏光状態の複数の反射チャープ光１０２、１０４、１０６をポンプ光が照射された期間で切り出すシャッタ部を備え、非線形媒質３０は、シャッタリング光が照射された期間に照射された反射チャープ光１０２、１０４、１０６の偏光状態を第２偏光状態に変化させるものであり、シャッタ部は、非線形媒質３０によって偏光状態が変わった反射チャープ光１０２、１０４、１０６を抽出することで、所定のタイミングで反射チャープ光１０２、１０４、１０６を切り出し、複数の照射装置は、非線形媒質３０におけるポンプ光の非線形効果の有効範囲１００内に反射チャープ光１０２、１０４、１０６を集光させる。 （もっと読む）

【課題】軌道輪表面の仕上がりの良否を簡易にかつ自動的に判断可能であり、製造コストが安価であると共に検査処理が簡単でありしかも精度の高い検査が可能な転がり軸受の表面検査装置を提供する。
【解決手段】検査表面に対しレーザ光を照射し、表面で反射したレーザ光を受光するレーザ光送受手段と、受光した光強度に対応する電気信号を出力する光電変換手段と、レーザ光照射部を軌道輪の軸と同軸で回転させる周方向走査手段と、レーザ光送受手段を軌道輪の軸に沿って移動する軸方向走査手段と、周方向走査の各位置において、光電変換手段から出力される電気信号出力の、軸方向における最大値を取得する最大値取得手段と、取得した最大値のうち、ハレーション状態に対応する最大値の個数を計数するハレーション個数計数手段と、ハレーション個数計数手段により計数されたハレーション個数に応じ、軌道輪の良否を判断する判断手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】広帯域干渉法によって透明な膜の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】広帯域干渉法によって膜のコレログラムを作成する工程と、コレログラムにフーリエ変換を適用して、フーリエ位相関数を得る工程と、フーリエ位相関数の線形成分を取り除く工程と、残りの非線形成分に第２積分変換を適用して非線形成分の積分振幅関数を得る工程と、積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、波長に依存する膜の屈折率を考慮して前記膜の厚さを前記ピーク位置の横座標の２倍値として決定する工程と、を含む。最後の２つの工程の代わりに、前記積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、前記ピーク位置の横座標の２倍値として膜の厚みを決定する工程と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】段差部毎に撮像部を設置しなくても、各段差部の三次元形状を精度良く計測する。
【解決手段】受光素子２１Ｐは、サンプルＳＰからの反射光を受光する。レンズ２２Ｌは、中心線側の段差部ＷＡ１からの反射光（光軸がＲ１）を結像して受光素子２１Ｐに導く。また、レンズ２２Ｌは、段差部ＷＡ１よりも外側の段差部ＷＡ２からの反射光（光軸がＲ２）を、ミラー２３１，２３２を介して結像して受光素子２１Ｐに導く。撮像部２１の光軸ＬＡは、段差部ＷＡ１からの反射光の光軸Ｒ１の受光素子２１Ｐまでの光学距離と、段差部ＷＡ２からの反射光の光軸Ｒ２の受光素子２１Ｐまでの光学距離とが等しくなるように、サンプルＳＰに対する仰角及び方位角が設定されている。 （もっと読む）

【課題】サブミリ波ビームの電磁気的強度分布を、光学系構成要素のセットアップに伴う誤差による影響を受けずに、且つ非接触で測定するためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】サブミリ波ビーム受信部に３以上のコリメート光反射体を配置し、コリメータから送信され当該反射体により反射されたコリメート光の受光位置に基づいて、送信系と受信光学系との間のミスアラインメントを決定する。受信光学系にて受信されたサブミリ波ビームの電磁気的強度分布を、ミスアラインメントを用いて補正することにより、ミスアラインメントの影響が排された強度分布を決定する。 （もっと読む）

【課題】計測精度に優れた三次元計測装置を提供すること。
【解決手段】対象物の三次元形状を計測する三次元計測装置であって、対象物へ向けて計測光を射出する光射出部と、計測光を発光する光源を有し、計測光を光射出部に供給する光供給部と、光源と光射出部とを相対移動させる移動部と、計測光が照射された対象物を撮像する撮像部と、撮像部による撮像結果及び移動部による移動結果に基づいて、対象物の三次元形状を求める演算部とを備える。 （もっと読む）

【課題】炉壁表面の凹凸形状を測定するためのレーザ光と炉壁の自発光とを同時に取得しつつもレーザ光と自発光とが干渉せず、炉壁表面に対し垂直方向の計測可能範囲およびレーザ光の照射範囲を広くする。
【解決手段】スリット状の窓２を有する断熱性保護箱３の内部に配置された、スリット状のレーザ光を射出するスリットレーザ光源４と、レーザ光を反射して窓２を介して炉壁表面へレーザ光を照射するレーザ光用ミラー５と、窓２を介して断熱性保護箱３の内部に入射する、レーザ光の照射による炉壁表面の反射光および炉壁表面が発する自発光を反射する撮像用ミラー６と、撮像用ミラー６から反射された自発光と反射光とを光学フィルタ７を介して撮像する撮像装置８とを備える。 （もっと読む）

【課題】エンコーダで位置を測定しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６４の計測値とその計測時に干渉計１６，４３Ａ及び４３Ｂによって計測されるウエハテーブルＷＴＢの非計測方向（例えば、Ｚ、θｚ及びθｘ方向）の位置情報に応じた既知の補正情報とに基づいて、ウエハテーブルがＹ軸方向に駆動される。すなわち、非計測方向へのヘッドとスケールの相対変位に起因するエンコーダの計測誤差を補正する補正情報により補正されたエンコーダの計測値に基づいて移動体がＹ軸方向に駆動される。従って、ヘッドとスケールの間の計測したい方向（計測方向）以外の相対運動に影響を受けることなく、エンコーダで位置を計測しつつ、ウエハテーブル（移動体）を所望の方向へ精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】置の大型化を招くことなく移動ステージの位置検出を可能とする測定装置を提供する。
【解決手段】第１軸方向に沿って可動体に第１ビームを出射し、可動体で反射した第１ビームが第１光路で進む前記第１光学部材と、第１軸方向に沿って可動体に第２ビームを出射し、可動体で反射した第２ビームが第２光路で進む第２光学部材と、第１軸方向に沿って可動体に第３ビームを出射し、可動体で反射した第３ビームが第３光路で進む第３光学部材と、第１光路を進んだ第１ビーム、及び第２光路を進んだ第２ビームが互いに干渉する干渉計と、干渉計での干渉に基づいて、第３軸方向における可動体の位置情報を得る算出装置とを備え、第１軸方向に沿って可動体に向かう第３ビームの進路は、第３軸方向について、第１光路の進路と第２光路の進路との間に位置する。 （もっと読む）

【課題】 コンパクトな構成で作業台の回転制御の精度の向上を図ることができる回転制御装置及び回転制御方法を提供する。
【解決手段】 回転体の回転に連動して回転するロータリーエンコーダの読取信号を処理して回転ムラ信号と回転ブレ量信号とを生成し、回転駆動部において回転ムラ信号に応じて回転体の回転速度サーボ制御をなすステップと、処理部において回転ブレ量信号に応じてワークに対する位置サーボ制御をなす。 （もっと読む）

【課題】部品点数及び製造工程数を削減する。
【解決手段】各々所定方向に配列された複数の発光素子１８を備えた一対の発光素子列２０,２２と、各々所定方向に配列された複数の受光素子２４を備え、一方が一対の発光素子列２０,２２の一方から発光された赤外線ＩＲ１を受光し、かつ他方が一対の発光素子列２０,２２の他方から発光された赤外線ＩＲ２を受光する一対の受光素子列２６,２８と、一対の発光素子列２０,２２の各々の発光素子１８に接続された発光素子用配線３０と、一対の受光素子列２６,２８の各々の受光素子２４に接続された受光素子用配線３２と、を絶縁性を有する透明な単一の基板１２の一方の主面に設けた。 （もっと読む）

【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計（dynamic interferometer）を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計（dynamic interferometer）は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 （もっと読む）

【課題】光パルスの検出タイミングにかかわらず、奥行き方向の空間分解能及び測定精度を向上可能である三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するチャープ導入装置と、前記光パルスをワークに照射し切り出すことで該光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部と、反射光像を分光し複数のカラーチャンネルでの各色情報を二次元位置毎に取得する色情報取得部とを備える。前記各色情報に対応する分光特性は、前記光パルスの波長範囲において少なくとも２つが交差する。 （もっと読む）

【解決手段】画像収集モジュール１が一個の画像取得位置に位置する時、複数個の光入力側１１０はそれぞれ載置台２と運び台３に向くように形成され、そして複数個の光出力側１１１はそれぞれ二個の画像取得ユニット１２、１２’に向くように形成されることにより、載置台２と運び台３の場所の光線は同時に複数個の光入力側１１０を経由してそれぞれ二個の光反射プリズム１１２ａ、１１２ｂに入射し、そして二個の光反射プリズム１１２ａ、１１２ｂの光反射面Ｒ１、Ｒ２に反射される光線は複数個の光出力側１１１を通じて上記光伝送経路に沿ってそれぞれ二個の画像取得ユニット１２、１２’まで到達するように構成されている。
【効果】簡単な操作の形態で物体に対して精確なアライメントを行うことにより、アライメントに必要な時間とコストを低く抑えることができ、さらに作業上の便利性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】参照光の位相設定精度に限界がある場合でも、測定対象物による位相シフト量を用いた計測する光位相測定装置を提供する。
【解決手段】コヒーレント光源８１、光源よりの光波を２分岐する光分岐手段８２、光波のうちの参照光波８９を周波数ωｍで位相変調する位相変調手段８３ａ、分岐された後に被測定対象物８５を透過又は反射した信号光波と位相変調された参照光波８９とを合成する光合成手段９７と、合成された干渉光の強度を測定する光強度測定手段８８を有する光干渉計を備えた光位相測定装置で、干渉光の強度を一定の時間に亘って取得し、取得した時系列の強度信号をフーリエ変換し、位相変調の周波数ωｍの整数倍の周波数成分のうち少なくとも２つの成分の光強度を演算して、位相変調手段の変調指数ｍを同定して、該変調指数ｍに基づいて前記被測定対象物８５による信号光波の位相変化量φを算出する演算手段９５を備えた光位相測定装置。 （もっと読む）

【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する１またはｎ個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】
被測定用光ファイバのみを用いてブリルアン散乱を測定可能なブリルアン散乱測定装置を提供すること。
【解決手段】
プローブ光ａ_０とポンプ光ｂ_０とを生成する測定用光生成手段と、該測定用光生成手段で生成されたプローブ光とポンプ光とを、偏波面が異なる状態で合成する偏波合成手段４０と、該偏波合成手段からの合成光が一端に入射される被測定用光ファイバ４１と、該被測定用光ファイバの他端側に配置され、合成光の偏波面を回転すると共に、合成光中のプローブ光のみを反射させて該被測定用光ファイバの他端に再入射させる回転反射手段４２と、該被測定用光ファイバの一端側に配置され、該回転反射手段により反射したプローブ光ａ_３を検出するプローブ光検出手段とを有することを特徴とするブリルアン散乱測定装置である。 （もっと読む）