【課題】マシンビジョンシステムにおける潜在的な干渉要素の検査を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムにおいて使用するためのロバストなビデオツールが提供される。ロバストなビデオツールには、関心領域と、ユーザインターフェースと、エッジ検出動作と、関心領域において検出されたエッジ点を含むと同時に除外領域におけるエッジ点を除外する現在の要素のエッジ点セットを決定する除外領域動作と、が含まれる。除外領域は、少なくとも１つの予め特徴付けられた要素、すなわち、予め特徴付けられた要素のエッジ点を検出し、かつ予め特徴付けられた要素の寸法パラメータを特徴付けるビデオツールを用いることによって特徴付けられる要素である少なくとも１つの予め要素付けられた要素に基づいて、除外領域ジェネレータによって決定される。 （もっと読む）

【課題】複数本の光ファイバーを設置し難い測定対象に対しても適用でき、測定対象の複数個所の特定方向の曲がり量を独立に測定し得る光学式曲がり測定装置を提供する。
【解決手段】光学式曲がり測定装置は、測定光を供給する光源ユニット１１０と、測定光を伝達する光ファイバー１２０と、光ファイバー１２０の異なる複数の部分に設けられた複数の光学特性変化部材１５０Ａ，１５０Ｂ，１５０Ｃと、光ファイバー１２０から出力される光を検出する光検出ユニット１４０を備えている。各光学特性変化部材１５０Ａ，１５０Ｂ，１５０Ｃは、これが設けられた光ファイバー１２０の部分の特定方向の曲がり量に応じてこれに入射した光に光学特性の変化を与える。光検出ユニット１４０は、光学特性の変化を受けた光を分離して検出し、その検出光強度に基づいて光ファイバー１２０の複数の部分の特定方向の曲がり量を独立に測定する。 （もっと読む）

【課題】穴のある被検物に対して、その穴の内側の形状を効率よく適切に測定することができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】中空状の被検物の内面に測定光を照射するとともに、該被検物に照射した測定光を受光して、被検物の形状を測定する形状測定装置は、被検物に照射するライン状の測定光を出力する光出力部と、光出力部と隔てて設けられ、予め定められた方向から受光する測定光の散乱光を検出する受光部と、測定光を検出する位置に応じて受光部の位置が調整され、照射した光の出力位置と、受光部の位置との距離に応じて被検物との距離を算定する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測定装置もしくは帯状部材を移動させることなく、帯状部材の継ぎ目形状を精度よく測定する。
【解決手段】レーザー照射手段１２によりカーカスプライ２０の表面にコードの延長方向に直交する方向に延長するライン光を入射角４５°で照射し、その反射光のうちの前面散乱光Ｒ₁を撮影手段１３で直接受光し、正反射光Ｒ₂を第１の光学素子１４で反射させ側面散乱光Ｒ₃を第３の光学素子１５で反射させてそれぞれ撮影手段１３に受光させる構成とすることで、前面散乱光Ｒ₁による画像である上面像Ｇ₁と、正反射光Ｒ₂による画像である正面像Ｇ₂と側面散乱光Ｒ₃による画像である側面像Ｇ₃とを撮影し、撮影された上面像Ｇ₁と正面像Ｇ₂と側面像Ｇ₃とを用いてカーカスプライ２０の継ぎ目部分を含む照射部を３方位から見たときの変位量ｈ₁，ｈ₂及びｈ₃を求め、変位量ｈ₁，ｈ₂及びｈ₃を用いてカーカスプライ２０の照射部の厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】光学的手法を用いて被処理基板の構造をより高精度に評価することができるプロセスモニター装置を提供する。
【解決手段】プロセスモニター装置１１は、光を出射する光源部と、光の強度を検知可能な光検知部と、光源部から出射された光をウェハＷまで導き、ウェハＷから反射した反射波を光検知部まで導く第一光経路２１と、第一光経路２１と同等の光伝搬特性を有するように構成され、光源部から出射された光を、ウェハＷを経由することなく光検知部まで導く第二光経路と、第二光経路を通して光検知部により検知された光の強度情報に基づいて、第一光経路２１を通して光検知部により検知された光の強度情報を補正し、ウェハＷの構造を解析するコントローラ１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】光源からの光を回折格子が設けられた領域で反射させて、被測定面の変位を検出する変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１は、光源２と、対物レンズ３と、分離光学系４と、コリメータレンズ７と、非点収差発生部８と、受光部９と、位置情報生成部１０と、絞り部材１１とを備えている。そして、対物レンズ３から出射され、被測定面に向けて集光される光の光軸に対する角度をθ、光源２の波長をλ、被測定面１０１に形成された回折格子のピッチをｄ、回折格子による回折光の次数をｎとした場合に、遮蔽部１１は、


を満たす反射光を遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】トロリ線以外の構造物の影響を無くしトロリ線の摩耗量や偏位量を正確に測定する。
【解決手段】架線検測車屋根上にトロリ線へ投光する光を照射する投光ユニットを設け、トロリ線より反射した光を受光する受光ユニットを設ける。受光ユニットより受光した信号を二値化回路によってある閾値で二値化し、エッジ検出回路でパルス波形の立ち下がりから次の立ち上がりまでの距離に基づいて、剛体やイヤーなどのノイズ信号とトロリ線の信号を判別し、トロリ線摺面の検出信号を得る。エッジ検出回路から得られた検出信号は、演算装置によって前回の偏位データと今回の偏位データが比較され、前回のものと最も近い信号をトロリ線データとして検出し、トロリ線摩耗量（残存直径）に変換される。これによって、ノイズによる誤検出を低減させ、トロリ線の外形を正確に求める。 （もっと読む）

【課題】トロリ線以外の構造物の影響を無くしトロリ線の偏位量を正確に測定する。
【解決手段】トロリ線測定装置は、トロリ線に向けて光を投光し、その反射光を受光することによってトロリ線の外形を測定する。このトロリ線の外形を測定する際に、剛体電車線区間では剛体部やイヤー部からのノイズが多く正確に測定することが困難である。そこで、このトロリ線測定装置は、剛体電車線区間でトロリ線及びその近傍の電車線設備（剛体部及びイヤー部）の画像を撮影し、撮影された画像に基づいて電車線設備の偏位を測定し、その測定結果をトロリ線の外形の測定に反映させるようにした。 （もっと読む）

【課題】回折格子の輪郭を再構築するＣＳＩアルゴリズムを開示する。
【解決手段】電流密度Ｊの体積積分式を解くには、Ｊの近似解を求めるように、Ｅ及びＪの連続成分を選択することにより、電場Ｅ^Ｓ及び電流密度Ｊに関連するベクトル場Ｆ^Ｓの暗示的構築を使用し、Ｆは１つ又は複数の材料境界にて連続している。Ｆは、少なくとも１つの方向ｘ、ｙに関して少なくとも１つの有限フーリエ級数で表され、体積積分式を数値的に解くステップは、Ｆの畳み込みによってＪの成分を決定することを含み、畳み込み演算子Ｍは、両方向の材料及び幾何構造の特性を含む。Ｊは、両方向に関して少なくとも１つの有限フーリエ級数で表すことができる。連続成分は、Ｅ及びＪに作用する畳み込み演算子Ｐ_Ｔ及びＰＮを使用して抽出することができる。 （もっと読む）

【課題】 基準面に載った流動体が占める面積を測定する技術を提供する。
【解決手段】 流動体(20)が広がった所定の基準面(10)および前記流動体(20)の境目に対してポイント照射光を照射する照射ポインタ(70)と、 その照射ポインタ(70)によって照射される前記基準面(10)および前記流動体(20)の境目を連続撮影する連続撮影用カメラ(48)と、 その連続撮影用カメラ(48)の撮影領域に入るように固定された面積算出の基準となる面積基準体(80)と、 前記の連続撮影用カメラ(48)にて連続撮影された画像データにおける前記の面積基準体(80)および前記のポイント照射光がなぞった軌跡にて囲われた流動体(20)の面積を算出する面積算出手段と、を備える。 前記の照射ポインタ(70)が照射するポイント照射光は、前記の流動体(20)および前記の基準面(10)と明確に区別可能な色彩とする。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサを提供する。
【解決手段】レベルセンサはリソグラフィ装置において基板表面高さを測定する。レベルセンサには、検出用の放射を基板に発する光源と、基板から反射された放射を測定するための検出器ユニットと、が設けられている。光源は、リソグラフィ装置において基板を処理するために使用されるレジストが反応する波長域の検出用放射を発する。 （もっと読む）

【課題】光学試験表面の誤差と適合光学系の誤差とを分離することを可能にする方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学試験表面１４の形状を判定する方法は、測定ビーム３０の波面を適合光学系２０により光学試験表面１４の所望の形状に適合させ、光学試験表面１４の形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、適合済測定ビームを光学試験表面に種々の入射角で照射し、測定ビームの波面を光学試験表面１４との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、個々の入射角ごとに測定された波面からの干渉測定結果に対する適合光学系２０の影響を確定するステップと、光学試験表面の形状を、適合光学系２０の確定された影響を干渉測定結果から除去することにより判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】投影レンズ内の１以上の光学素子の位置をモニタするシステムを提供すること
【解決手段】各々が入力放射から第１の波面及び第２の波面を導出し、かつ、第１及び第２の波面を合成して第１及び第２の波面の経路間の光路長の差に関する情報を備える出力放射を供給するように構成された複数の干渉計１１０，１２０を含み、各々が第１の波面の経路内に位置決めされた反射素子を備え、干渉計の少なくとも１つの反射素子が、第１の物体上に取り付けられる。本システムは、また、複数のファイバ１１１，１２１及び電子制御装置１７０を含む。各ファイバ１１１，１２１は、対応する干渉計１１０，１２０へのに送光、又は、対応する干渉計１１０，１２０からの受光に用いる。電子制御装置１７０は、干渉計１１０，１２０の少なくとも１つからの情報に基づいて、第２の物体に関する第１の物体の絶対変位をモニタする。 （もっと読む）

【課題】ショルダ部を含めてタイヤの表面形状を検出することができるようにする。
【解決手段】タイヤ形状検査装置は、タイヤのトレッド部８に対してライン光を照射する第１ライン光照射手段１０と、タイヤのサイドウォール部７に対してライン光を照射する第２ライン光照射手段１２と、タイヤのショルダ部９から当該ショルダ部９を超えた領域までライン光を照射する第３ライン光照射手段１３と、第１ライン光照射手段１０、第２照射手段及び第３ライン光照射手段１３が照射してタイヤ表面で反射したライン光を撮像する撮像手段１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】２つの屈折率分布間の距離を、精度よく、非破壊で、高速に測定可能な光学的記録媒体、該光学的記録媒体の光学的測定方法及び光学的測定装置を実現する。
【解決手段】光を散乱させて測定・解析するための入射光波長の最小値をλとするとき、周囲と屈折率の異なる２つの光散乱体６０の距離が０．７λ以上１５λ以下であり、２つの光散乱体の全光線透過率または全光線反射率が５０％以上であり、散乱光強度の角度分布またはある角度での散乱光強度の波長分布を角度の正弦または１／波長を横軸としてフーリエ変換し、フーリエ変換後のピークの横軸を読み取ることで、２つの領域の距離を求める。 （もっと読む）

【課題】より高い分解能を得ることが可能な変位センサを提供する。
【解決手段】センサヘッド１００は、レンズ１０（対物レンズ）と、レンズ１０を変位させるための振動子８と、フォトダイオード２（受光部）と、反射光の光路上に位置するピンホール７ａが形成された絞り板７と、レンズ９（コリメートレンズ）とを備える。光軸Ｘは、レンズ９，１０の光軸であるとともに、ピンホール７ａの中心軸に対応する。遮光部材１３は、ピンホール７ａの中心軸に対して反射光の光路が傾いた状態で、反射光にピンホール７ａを通過させる。遮光部材１３を省略し、レーザダイオード１の光軸をピンホール７ａの中心軸に対して傾けてもよい。これにより、フォトダイオード２からの受光信号に対する電気的ノイズあるいはスペックルの影響を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査時間および労力を低減できるマスク検査方法およびその装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク検査方法は、半導体露光用マスクに任意波長の光を入射させ撮像部にて像を取得する光学系を用いて、前記マスクの欠陥の有無を検査する方法であって、予め前記光学系による点像を、前記撮像部の読み出し方向に伸長される制御条件を取得する第１ステップ（Ｓ２０３）と、前記制御条件により、マスクの所望の領域の像を取得する第２ステップ（Ｓ２０５）と、取得した前記所望の領域の像において、信号強度が予め定めておいた第１閾値以上であり、前記信号強度の前記読み出し方向における差分が予め定めておいた第２閾値以下であるピーク信号が存在する場合、前記ピーク信号の座標を欠陥として判定する第３ステップ（Ｓ２０６）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】外乱による信頼性の低下を抑えた分光特性測定装置とその制御方法、分光特性測定方法、及び光路長差伸縮機構を提供する。
【解決手段】本発明は、被測定物の測定点から多様な方向に向かって発せられた光を一つにまとめた後、分割光学系によって第１反射部と第２反射部に導き、前記第１反射部と前記第２反射部の相対位置に影響を及ぼす外乱を推定し、該外乱を解消するように前記第１反射部と前記第２反射部の少なくとも一方を移動させることにより前記第１反射部によって反射された第１反射光と前記第２反射部によって反射された第２反射光の光路長差を伸縮させつつ、前記第１反射光と前記第２反射光を結像光学系によって同一点に導き、その点の干渉光強度変化に基づき前記被測定物の測定点のインターフェログラムを求め、このインターフェログラムをフーリエ変換することによりスペクトルを取得する。 （もっと読む）

【課題】回折構造体の測定パラメータモデルを利用する分光散乱システムおよび方法を提供する。
【解決手段】モデルの固有値を事前計算し、記憶し、ある共通の特性をもつ他の構造体に対して後に再利用する。１つ以上のパラメータの値を求めるために用いられる散乱データは、下敷フィルム特性に対して感度が低くなる波長におけるデータだけに制限することが可能である。代表的な構造体をスラブ２００’（ｉ）のスタックにスライスし、各スラブの近似を行うため四角形ブロック２１０，２１２，２１４，２１６，２１８のアレイを作成することによって三次元グレーティングに対するモデルを構築することが可能となる。 （もっと読む）