本発明の主題は、表面特性を用いて、対象物の特定および／または認証をするための方法である。本発明のさらなる主題は、表面を走査するためのセンサである。 （もっと読む）

【課題】高解像度で撮像することが必要な部分だけ他の部分よりも分解能を上げることによって、撮像時間の短縮化を図り、効率的な断層画像の取得が可能となるＯＣＴによる断層画像の形成方法を提供する。
【解決手段】被検査物の断層画像を形成するＯＣＴによる断層画像の形成方法であって、
前記被検査物に対する撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分に対して、その必要性に応じて他の部分よりも高い解像度で撮像する工程を有し、
前記高解像度で撮像することが必要な部分を撮像するときには、前記光源からの光によるビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、
深さ方向に対して、前記他の部分を撮像するときよりも多い撮像回数で撮像する構成とする。 （もっと読む）

【課題】土粒子の粒径及び流砂量を計測又は監視する土粒子計測システム、土粒子計測及びプログラムを提供する。
【解決手段】本発明の土粒子計測システムは、土粒子が流れる方向と直行する方向に配置されるＦＢＧセンサ１１と、ＦＢＧセンサ１１から出力されるブラッグ波長の光信号から、土粒子の衝突によって生じるひずみ量を検出するＦＢＧアナライザ１２と、検出したひずみ量の値から土粒子の粒径及び流砂量を決定する土粒子管理・監視装置１３とを備える。土粒子管理・監視装置１３は、当該検出したひずみ量の値から土粒子の粒径の仮定値を決定して、該仮定値における前記ＦＢＧセンサへの衝突時の土粒子の運動エネルギー及び運動エネルギー期待値を算出し、運動エネルギーと運動エネルギー期待値の差が所定の許容範囲内になる仮定値の運動エネルギーから土粒子の粒径及び流砂量を決定する。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さを正確に計測できる計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】チャックテーブル３６に保持された被加工物に向けて発光する白色光源６１と、白色光を被加工物に照射する第１の色収差レンズ６２と、被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッター６３と、ビームスプリッター６３によって分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６５と、回折格子６６によって回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６７と、制御手段を具備する計測装置であって、ビームスプリッター６３と第１の色収差レンズ６２との間に配設され光軸上に白色光源６１からビームスプリッター６３を通して入光する白色光の仮想焦点の像を形成する第２の色収差レンズ６４を備え、各波長の集光点が所定波長間隔に比例するように設定されている。 （もっと読む）

【課題】エッジ破断部を検査するための、新規の改善された検査システム及び方法を提供すること。
【解決手段】検査システム（１０）が、光源（２０）と、回折格子（２３）と、位相シフトユニットと、イメージャ（３０）と、プロセッサ（１１）とを備える。光源（２０）は、光を発生するように構成される。回折格子（２３）は、発生した光の経路内にあり、光が通過した後に回折格子像を生成するように構成される。位相シフトユニットは、回折格子像の複数の位相シフトパターンを形成し、それを物体表面（１６）上に反射して、複数の投影位相シフトパターンを形成するように構成される。イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。プロセッサ（１１）は、像データから物体表面を再現するように構成される。検査方法についても開示する。 （もっと読む）

【課題】回折を用いる場合に所望の次数の回折光の全ての波長を検出に利用できるようにする。
【解決手段】反射光のうちワーク１表面付近で焦点を結んだ光以外の光の通過を規制する光ファイバ１２１と、光ファイバ１２１を通過した反射光を同一平面内に広がる回折光に分岐させる回折光学素子１２２と、回折光に含まれる１次回折光と高次回折光とのうちで１次回折光のみを検出する１次回折光検出手段１３０とを有する高さ検出手段１２０を備え、１次回折光検出手段１３０は、回折光を集光する回折光集光レンズ１３１と、集光される回折光を、同一平面外の方向へ波長毎に異なった角度で屈折させる波長分散フィルタ１３２と、１次回折光が集光される箇所にのみ検出部を有し、１次回折光のみの波長毎の光強度を検出する波長検出センサ１３３と、色収差レンズ１０２によって集光される白色光の各波長の焦点距離を記憶した制御マップを格納するメモリ１３４とを含む。 （もっと読む）

【課題】接合体における各構成の屈折率差の大小に関係なく、好適に接着層の厚さを測定することができる、接合体における接着層の厚さの測定方法を提供する。
【解決手段】第１層と、第１層と同等の屈折率を有し、第１層に接合される接着層とを有する接合体の接着層の厚さを測定するための測定方法は、第１層と接着層との界面に、界面よりも高い反射率を有する反射層を形成する反射層形成工程Ｓ１０と、反射層に測定光を照射する測定光照射工程Ｓ２０と、測定光が反射層で反射された反射光を取得する反射光取得工程Ｓ３０と、取得された反射光に基づいて接着層の厚さを算出する反射光解析工程Ｓ４０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルの表面、ウエハーおよび基板のパターン付き表面といった表面の全領域光計測値を取得する。
【解決手段】均一な波面を有する光プローブビーム１１２を被計測表面１３０に照射し、表面１３０によって引き起こされるひずみを帯びた反射波面を有する反射プローブビーム１３２を、光シェアリング干渉計デバイス１０１に向け、光干渉模様を取得する。次に、反射波面と、反射波面のレプリカとの間の位相シフトを調整し、別の干渉模様を取得する。干渉模様を処理し、被計測表面１３０の照射場所の全域で、表面傾斜に関する情報を取得する。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工箇所へ搬入される基板の欠けや曲がり（反り）を検査できるようにする。
【解決手段】基板を加工位置に搬入する際に、基板の四隅付近の画像又は基板の外周縁の画像を取得し、その画像に基づいて基板の曲がり（反り）や基板の四隅付近又は外周縁の欠けを検出する。基板の四隅付近又は外周縁の画像を取得するカメラ手段の相対的な位置関係は、予め設定された既知の値なので、四隅の各頂点の画像の中で各頂点の位置がずれていた場合、そのずれ量に基づいて基板の曲がり（反り）を検出することができ、四隅付近の画像に基づいて基板の欠けを検出することも可能となる。 （もっと読む）

【課題】スケールの位置が基準位置からずれている場合であっても、被測定体（例えば、ステージ）の位置を高精度に測定することができる測定装置を提供する。
【解決手段】いずれか一方が被測定体に設けられるスケール及びセンサを備え、前記スケールを前記センサで読み取ることで前記被測定体の位置を測定する測定装置であって、基準位置からの前記スケールのずれ量を検出する検出部と、前記検出部によって検出された前記基準位置からの前記スケールのずれ量に基づいて、前記スケールを前記センサで読み取ることで測定された前記被測定体の位置を補正する演算部と、を有することを特徴とする測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】光導電性感光体におけるフィラー微粒子を分散させた表面層の膜厚及びフィラー微粒子を分散させた表面層を含む感光層の膜厚を、同時に且つ精度良く確実に測定すること。
【解決手段】中間層及び感光層を有し、感光層の所定厚さ部分が表面層として形成された光導電性感光体の膜厚を測定する際に、光源からの光を光導電性感光体に垂直入射し、表面層表面において反射した第１の反射光と、中間層表面において反射した第２の反射光とが干渉した第１の干渉光、及び、第１の反射光と、入射光の中で表面層の中間層側の面において反射した第３の反射光とが干渉した第２の干渉光を、分光手段に導いて分光し、分光した分光スペクトル強度から反射率を演算する際に、反射率を任意の大きさに拡大することにより干渉波形を求め、干渉波形の低周波成分に基づき表面層の膜厚を演算算出し、干渉波形の高周波成分に基づき感光層の膜厚を演算算出することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】検査時間の増大を抑制しつつ、検査精度を向上させるパターン検査装置を提供する。
【構成】被検査試料のパターン面に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、光源と、パターン面のフーリエ変換面に設けられ光源から射出された光線を異なる形状および方向を有する第１および第２の照明光に分割する機能を備える光学素子を有し、第１および第２の照明光によりパターン面の第１および第２のパターン領域をそれぞれ異なる照明条件で照明する照明光学系と、第１および第２のパターン領域を照明した第１および第２の照明光を透過する対物レンズと、第１および第２の検出センサと、対物レンズを透過した第１および第２の照明光をそれぞれ第１および第２の検出センサに結像する第１および第２の結像光学系とを備えることを特徴とするパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度な光波干渉計測装置を提供する。
【解決手段】光波干渉計測装置は、複数のスペクトルを有する光束を射出する第１多波長光源２００ａと、第１多波長光源からの光束とは異なる波長を有する光束を射出する第２多波長光源２００ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束を分離する偏光ビームスプリッタ６と、第２多波長光源２００ｂからの光束を反射する参照面７と、第１多波長光源２００ａからの光束を反射する被検面８と、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の干渉信号を分光する分波器９ａ、９ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の単一波長同士の干渉信号を複数の波長について検出する検出装置１０ａ、１０ｂと、検出装置１０ａ、１０ｂからの信号を処理して参照面７と被検面８との間の光路長差を算出する解析装置１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】 膜状の測定対象物の膜厚の時間変化を精度良く測定することが可能な膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 第１波長λ_１の測定光成分、及び第２波長λ_２の測定光成分を含む測定光を測定対象物１５へと供給する測定光源２８と、測定対象物１５の上面からの反射光及び下面からの反射光の干渉光について、第１波長λ_１の干渉光成分、及び第２波長λ_２の干渉光成分に分解する分光光学系３０と、第１、第２干渉光成分のそれぞれの各時点での強度を検出する光検出器３１、３２と、膜厚解析部４０とを有して膜厚測定装置１Ａを構成する。膜厚解析部４０は、第１干渉光成分の検出強度の時間変化での第１位相と、第２干渉光成分の検出強度の時間変化での第２位相との位相差に基づいて、測定対象物１５の膜厚の時間変化を求める。 （もっと読む）

物体（３）の表面の歪みを測定するための装置であって、中心セクション（６）と、中心セクション（６）の両側に配置された２つの端部セクション（８）とが設けられたキャリア（５）を有する。歪み要素（１０）が、キャリア（５）に接続され、この歪み要素（１０）には、歪みセンサ（１１）が設けられている。歪みを測定するための装置（１）は、所定の距離離れて物体（３）の表面に直接取着されることができる２つの支持脚（９）を有する。キャリア（５）の２つの端部セクション（８）は、各セクションで１つの支持脚（９）に着脱可能に接続されている。
（もっと読む）

【課題】 投光部および受光部が近接し、かつ、これらの前側にカバーガラスが設けられている構成の光学式膜厚測定装置において、カバーガラスに起因する迷光の影響を有効に抑制し、測定精度を向上させる。
【解決手段】 投光部１２１ａの投光面１２２ａおよび受光部１２１ｂの受光面１２２ｂ同士の間隔をｄと定義し、投光面１２２ａおよび受光面１２２ｂとカバーガラス１４との間隔をＬと定義し、投光部１２１ａの開口数をＮＡ₁ 、受光部１２１ｂの開口数をＮＡ₂ と定義すれば、カバーガラス１４は、０＜Ｌ＜ｄ／（tanθ₁ ＋tanθ₂ ）を満たす位置に設けられる。但し、θ₁ ＝sin^-1 (ＮＡ₁ )であり、θ₂ ＝sin^-1 (ＮＡ₂ )であり、θ₁ およびθ₂ はいずれも９０°未満である。 （もっと読む）

【課題】回転体の回転に伴って生じる都合５軸方向の運動誤差を高精度で測定することのできる５自由度誤差測定装置を提供する。
【解決手段】回転体２の一端面に同心円状の溝で形成された回折格子面３を設け、同心円の径方向に相当するセンサ座標系第１軸と回折格子面の法線方向に相当するセンサ座標系第２軸に沿った回折格子面の相対移動変位を検出する２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３を回転体２の一端面から間隙をおき、かつ、相互に重合しないようにして相異なる少なくとも３つの位置に固定配備し、３つの２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３のセンサ座標系第１軸の干渉信号とセンサ座標系第２軸の干渉信号に基いて都合５軸方向の運動誤差Δｘ，Δｙ，Δｚ，Δｕ，Δｖを同時に求める。 （もっと読む）

【課題】 受光素子の受光面上における干渉光の位置ずれに基づく撮影画像の画質の低下を抑え、従来の調整機構では解消できなかったレベルでの感度調整を行うことができ、好適で信頼度の高い断層画像や光学表面プロファイルを得ることのできる眼科撮影装置を提供する。
【解決手段】 キャリブレーション用の光束を分光光学系に導光する導光手段と、キャリブレーション用の光束を干渉させるための光学部材と、キャリブレーション用の光束を受光手段に受光させることによって得られる分光情報に基づいて導光手段からのキャリブレーション用の光束の出射位置と受光手段との相対的な位置関係を調整する調整手段と、調整手段によって相対的な位置関係が調整された後の受光手段にて得られる干渉されたキャリブレーション用の光束の分光情報に基づいて，受光手段の各画素に対する各波長成分の分布状態を補正するための補正情報を演算により求める演算手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】回転体の回転に伴って生じる都合５軸方向の運動誤差を高精度で測定することのできる５自由度誤差測定装置を提供する。
【解決手段】回転体２の外周面に回転体２の回転軸の方向に一定の間隔を置いて設けられた複数の周溝から形成された回折格子面３を設け、回転体２の径方向に相当するセンサ座標系第１軸と回転体２の軸方向に相当するセンサ座標系第２軸に沿った回折格子面の相対移動変位を検出する２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３を回転体２の外周面から径方向外側に間隙をおき、かつ、相互に重合しないようにして回転体２の周方向の相異なる少なくとも３つの位置に固定配備し、３つの２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３のセンサ座標系第１軸の干渉信号とセンサ座標系第２軸の干渉信号に基いて都合５軸方向の運動誤差Δｘ，Δｙ，Δｚ，Δｕ，Δｖを同時に求める。 （もっと読む）