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Fターム[2G001HA09]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 表示、記録、像化、観察、報知等 (3,732) | 観察(本測定を除く) (318)

Fターム[2G001HA09]に分類される特許

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【課題】多重イメージング・エネルギ源を用いるCTシステムを提供する。
【解決手段】CTシステム(10)は、ガントリ(12)の開口部(48)を通るX線(16)を投射するX線源(14)を含む。X線源は、ターゲット(100)へ第1及び第2の電子ビーム(114、116)をそれぞれ放出する第1及び第2の陰極(102、104)と、第1及び第2の陰極にそれぞれ結合された第1及び第2のグリッディング電極(108、112)とを含む。本システムは、第1及び第2の陰極を第1及び第2の電圧までそれぞれ付勢する発生装置(29)と、ガントリの開口部を通過したX線を受け取る検出器(123)と、第1及び/又は第2のグリッディング電極にグリッディング電圧を印加して第1及び/又は第2の電子ビームの放出を阻止し、また検出器からイメージング・データを取得するように構成されている制御装置(28)とを含む。 (もっと読む)


【課題】 高拡大率で、被検体の高分解能高品位の3次元画像を得ることにある。
【解決手段】 X線ビームを照射するX線源3と、被検体1から透過してくるX線ビーム2を検出するX線検出器4と、X線ビーム内で、X線ビーム中心線の方向に対し90度より小さなラミノ角で交差する回転軸RAに対し、被検体1とX線ビームとを相対回転させる回転手段6と、X線検出器4で検出したX線透過像から3次元画像を作成する制御処理部12とを備え、制御処理部12は、被検体1とX線源3との間で干渉しない回転可能範囲に基づき、半回転を超え1回転を満たない角度範囲で回転され所定の回転角度毎にX線ビームの透過像をX線検出器4で撮影するスキャン制御部12aと、X線検出器4で検出された多数の透過像から被検体の3次元画像を作成する再構成部12cとを設けた構成である。 (もっと読む)


【課題】放射線トモシンセシス撮影装置において、散乱放射線の影響の排除を行うとともに、放射線源の利用効率を向上させる。
【解決手段】被写体に向けて放射線を射出する多数の放射線源1aを有し、各放射線源1aから射出されて被写体を透過した放射線が被写体の投影像の一部分を形成するように多数の放射線源が分散配置された放射線照射部1を設け、各放射線源1aが、ファンビームの放射線を射出するものであるとともに、そのファンビームの広がり角が大きい方の面が多数の放射線源1aの配列方向と交差し、互いに平行に並ぶように配置する。 (もっと読む)


【課題】 過去の測定結果情報との比較により、容易な変化点管理を行うことが可能な蛍光X線分析装置を提供すること。
【解決手段】 被測定物205を特定する特定情報を入力する入力部201と、被測定物の測定部位画像を取得する撮像部210と、蛍光X線の測定後においては、少なくとも、被測定物の分析結果を表示する表示部208と、特定情報に対応づけられた過去の測定情報を蓄積したデータベース209と、を備え、測定情報は、被測定物の測定部位画像と分析結果とを含み、表示部は、蛍光X線の測定条件設定時においては、少なくとも、撮像部で得られる被測定物の測定部位画像と、データベースに蓄積されている測定情報のうち入力部で入力された特定情報に対応する測定情報に含まれる被測定物の過去の測定時の測定部位画像と、を同時に表示可能である、蛍光X線分析装置。 (もっと読む)


【課題】X線投影データの取りこぼしがなく、光束に画像処理ができ、また、MPR表示やVR表示などの3次元表示の指令操作等が付与されたときに素早く応答することができ、オペレータにとって操作性が良好で体感的な処理速度を短縮化することのできるX線CT装置を提供する。
【解決手段】CT撮影時にX線検出器2から出力されるX線投影データをRAMディスク41aに取り込むとともに、再構成演算により得られる対象物Wの3次元画像情報を一旦RAMディスク41aに格納し、MPR表示やVR表示の指令に対してはそのRAMディスク41aのアクセスにより表示すべき画像を読み出す一方、RAMディスク41a内のデータを自動的にハードディスク44に退避させることで、体感的な処理速度の短縮化を実現する。 (もっと読む)


【課題】試料の微小な領域にX線を照射することができ、X線の強度は減少しないX線管を提供する。
【解決手段】X線管1は、筐体2内で凹部6を有する有しフィラメント1を内部に配置する集束電極(陰極)5と、熱電子を発生し集束電極(陰極)5の凹部の溝の内部に配置されるように固定されているフィラメント3と、熱電子からなる電子線が衝突するターゲット4を先端に設けた陽極電極11と、筐体2に設けられ穴を覆うように設けられ、ターゲット4で発生した一次X線を射出するたように、X線を透過するX線放射窓8と、から構成されている。 (もっと読む)


【課題】 元素マッピング像などの分布画面の数の制限やサイズが小さくなることなく、元素マッピング像の元素分布状態の差異の見栄えが大いに向上させ、元素の分布状態を正しく把握できるようにする。
【解決手段】 ディスプレイ部7の親ウインドウ11内に表示されている元素マッピング像である分布画面12を、表示元素画面13や画面切替ボタン14を表示したい特定の元素や分析線をキーボードまたはマウスなどの選択するなどにより切り替えるようにして、複数の分布画面12を大きな同一サイズで上書きするように重ねて表示するようにする。 (もっと読む)


【課題】試料分析装置において、観察しようとする試料に形成されたデバイスに含まれるプラグや配線構造をはじめとする試料特定箇所に、単一または多数系統の外部電圧を印加し、デバイスをオン・オフさせたときの構造、組成、電子状態の変化を分析できるものにおいて、試料を自由に回転・傾斜させることを可能にする。
【解決手段】試料傾斜機構を備えた試料ホルダ本体を有する試料分析装置において、サンプルキャリアは、第一の固定部材と、第二の固定部材と、前記第一の固定部材と前記第二の固定部材とを接続する変型可能な接続部と、当該接続部上に形成され前記第一の固定部材と第二の固定部材とを導通させる単一または多数の配線構造と、を備える。前記試料傾斜機構を操作して傾斜角を調整し、試料ホルダ本体先端に設けた回転ピボットを中心に試料ホルダ本体を回して回転角を調整する。 (もっと読む)


本発明は、複数の検出器と、制御装置と、X線源とを有し、a)前記制御装置は、複数の検出器の少なくとも一つから、最低X線透過レベルを検出、及び、特定し、b)前記制御装置は、前記最低X線透過レベルを少なくとも一つの既定の閾透過レベルと比較し、c)前記制御装置は、前記比較に基づいて、調整信号を生成し、前記X線源は、前記調整信号を受信し、前記調整信号に基づきX線のパルスの持続時間を調整することを特徴とするX線走査システムを提供する。
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【課題】特性に大きな影響を与える鉄基粉末の表層に付着する結合剤、副原料、潤滑剤や流動性改善粒子の被覆率、特に、結合剤、副原料および潤滑剤等としてカーボンブラック以外の炭素含有物を用いる場合や、流動性改善粒子としてカーボンブラックを用いる場合に好適な、鉄基粉末の被覆率を定量的に測定する方法を提供すること。
【解決手段】鉄基粉末の表層に0.1〜5kVのなかから選ばれる加速電圧で加速された電子線を照射し、鉄基粉末の表層から放出される二次電子量を測定し、該二次電子量から鉄基粉末の表層における炭素含有物の被覆率を求めることを特徴とする、鉄基粉末の被覆率の測定方法を用いる。または、鉄基粉末の表層に0.1〜2kVのなかから選ばれる加速電圧で加速された電子線を照射し、同様に鉄基粉末の表層に被覆している炭素含有物に対するカーボンブラックの被覆率を求めることを特徴とする、鉄基粉末の被覆率の測定方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】放射線撮像装置の2次元放射線検出器において、キャリブレーションデータ作成時に、異物が2次元放射線検出器上に付着していた場合、正確なキャリブレーションデータを作成することができなかった。
【解決手段】
画像処理部にて、前回キャリブレーションを実施した時のキャリブレーション照射データと今回新たに取得したキャリブレーション照射データとを加算平均処理して、閾値で判別することにより、異物が付着した画素を検出し、異物を取り除くようにオペレータに警告する。異物が除去できない場合には、隣接する正常な画素との置き換えなどにて異物が付着した画素を補完する。 (もっと読む)


【課題】正極板に混在する微小金属異物を感度良好に検出して除去することで、得られるアルカリ蓄電池の信頼性を向上すること。
【解決手段】電極基板から形成され、アルカリ蓄電池に配設されるアルカリ蓄電池用正極板の製造方法である。電極基板を検査対象物として搬送しつつ、当該電極基板に分布する異物をその大きさに基づいてオンラインで検出するX線透過検査工程(S103)と、異物が検出された部分に、電池の短絡の原因となる微小金属異物として検出すべき金属(銅)の存在下で発光する薬液をオンラインで付着させる薬液付着工程(S104)と、電極基板において、薬液により発光した部分をオンラインで検出する発光部分検出工程(S105)と、検出された発光部分を微小金属異物が存在する不良部分として選択的に除去する不良部分除去工程(S106)とを備える。 (もっと読む)


【課題】同一の生体組織試料について、電子像観察だけでなく、蛍光像観察、そして透視像観察等を行うことも可能な、複数の観察用光源を備えた多光源顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡の光源である電子銃とそれ以外の少なくとも1種の光源を有し、試料を同一位置で観察可能な多光源顕微鏡であって、蛍光を観察するための光学顕微鏡20と走査型電子顕微鏡2とからなり、該走査型電子顕微鏡の電子ビームの光軸と同軸となるように該光学顕微鏡のカセグレン鏡12が該走査型顕微鏡の鏡筒内に配置されてなり、反射面が非球面型であるカセグレン鏡を用いる。 (もっと読む)


【課題】培養された細胞等からなる試料に散布される薬品の使用量を低減することのできる試料保持体等を提供する。
【解決手段】試料保持体40は、開放された試料保持面37aの少なくとも一部が膜32と膜32の周囲のテーパ部37bで構成され、膜32の試料保持面32aにおいて試料38を培養可能である。テーパ部37bがあるので、使用する試薬の量を少なくすることができる。試料38には、膜32を介して、試料観察又は検査のための一次線が照射可能となっている。これにより、細胞等の試料38を培養させた状態で生きたままでの観察又は検査を良好に行うことができる。特に、一次線として電子線を用いれば、生きた状態での試料のSEM観察・検査を良好に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】余分な時間をかけずに、観察像取得手段の視野に関係なく、マッピングの観察範囲と同じ視野の光学的観察像が、位置ズレも伴わずに得られるマッピング分析装置を提供する。
【解決手段】試料11の表面に複数配列されたマッピング単位領域から、放出されるマップ像用信号を検出するマップ像用検出手段(X線検出器)28と、試料11の表面の光学的観察像を撮像する撮像手段22と、撮像手段22の出力信号から光学的信号ではない部分を除去する信号補間抽出回路23aと、マップ像用信号検出手段28及び信号補間抽出回路23aの出力信号を格納する画像メモリ25と、試料11を移動させ、マッピング単位領域を逐次走査するX−Yステージ12と、X−Yステージ12の動きに同期してマップ像用信号検出手段28及び信号補間抽出回路23aの出力信号を画像メモリ25に取り込ませる同期制御回路27とを備える。 (もっと読む)


【課題】 空間可干渉性を向上させることが可能となるX線位相イメージングに用いられるX線用線源格子等を提供する。
【解決手段】 X線源と被検体との間に配置され、X線位相イメージングに用いられるX線用線源格子である。X線用線源格子は、X線を遮蔽する厚さを有する突起部が一定の間隔で周期的に配列されてなる複数の部分格子を備えている。前記複数の部分格子はずらして積層されている。 (もっと読む)


試料の画像データを処理する方法が開示されている。当該方法は、前記試料の少なくとも一部が重なっている複数の空間領域の第1画像と第2画像とのレジストレーションを行う手順、及び、前記のレジストレーションされた画像からのデータを処理することで、前記第1画像と第2画像から得られる画像に加えられる前記試料についての情報を有する合成画像データを取得する手順を有する。
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【課題】半導体ウエハのパターンの検査において、非検査領域が混在する試料でも非検査領域への電子ビームの照射を防止し、所望の検査領域を検査することができる検査装置、および検査方法を提供する。
【解決手段】電子ビームは試料の照射領域を画像化するための照射エネルギーを有し、電子ビームの走査中に電子ビームが試料へ照射するのを妨げるように電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器と、電子ビームの走査中に試料を連続的に移動させるステージと、電子ビームの照射領域の選択に従って、電子ビームの非照射領域では電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器へ偏向指令を送信する制御装置とを備える。 (もっと読む)


【課題】オペレータの経験等によらずに、X線像に要求される正確さに係る情報の入力により、自動的に最適なX線検出出力の積算回数を設定することのできるX線撮影装置を提供する。
【解決手段】X線像に要求される正確さに係る情報を入力するための入力手段と、X線発生装置1の管電圧と、X線発生装置1とX線検出器3間の距離とを含み、かつ、X線検出器3の画素出力の積算回数を含まない撮影条件を設定することにより、その条件下で略一様なX線がX線検出器3の複数の画素に入射したときの各画素出力の積算回数と、その各画素出力ごとの積算値相互のばらつきとの関係を求め、その関係と入力手段15により入力された正確さに係る情報とから、当該正確さを得ることのできる積算回数を算出して自動的に設定する検出器出力積算回数設定手段を設けることにより、入力された正確さを有するX線像を得ながら、最も少ない積算回数でのX線撮影を可能とする。 (もっと読む)


【課題】製造工程における半導体装置等の欠陥を発見した場合に、後のレビューに有益な情報を取得する方法の提供。
【解決手段】外観検査装置1が取得した検査対象物に関する欠陥情報21の入力を受け付けて記憶する記憶部32と、検査対象物に関する画像を取得する画像取得部と、画像取得部を用いて欠陥情報に基づく欠陥レビュー用データを取得する処理部31と、を備える欠陥レビュー装置24、25による欠陥レビュー方法である。処理部は、記憶部から読み出した欠陥情報22b、23bにおいて、欠陥の集まりを示すクラスタが有るか否かを判定し、クラスタが有ると判定した場合、当該クラスタの分布特徴に基づき、画像取得部を用いて、検査対象物に関してクラスタの一部である欠陥部分の画像と付加的なデータとを取得する。 (もっと読む)


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