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Fターム[2G001HA09]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 表示、記録、像化、観察、報知等 (3,732) | 観察(本測定を除く) (318)

Fターム[2G001HA09]に分類される特許

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【課題】大口径の配管を現地で非破壊検査ができる配管の断層撮影装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】配管検査装置本体100は、放射線源1と2次元放射線検出器2を対向配置する支持装置3と、軸方向駆動機構19と、支持装置3を介して、放射線源1と2次元放射線検出器2を、配管横方向に並進移動させる横方向駆動機構17,18を備えている。制御コンソール23において、軸方向駆動機構19による並進走査の距離を設定するとともに、横方向駆動機構17,18の並進移動の横方向最大移動距離を設定する。また、横方向駆動機構17,18による配管横方向の並進移動の間隔を、2次元放射線検出器2の配管横方向の幅と、放射線源1と2次元放射線検出器2間の距離と、放射線源1と配管15の放射線源1側表面までの所定距離とにもとづいて決定する。 (もっと読む)


【課題】 作業効率よく、安全に試料測定を行うことができるX線分析装置及びX線分析方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 試料上の照射ポイントに放射線を照射する放射線源と、試料から放出される特性X線及び散乱X線を検出し、特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器と、信号を分析する分析器と、試料を載置する試料ステージと、試料ステージ上の試料と放射線源及びX線検出器とを相対的に移動可能な移動機構と、試料における照射ポイントの高さを測定可能な高さ測定機構と、測定した試料における照射ポイントの高さに基づいて移動機構を制御して、試料と放射線源及びX線検出器との距離を調整する制御部とを備えていることを特徴とするX線分析装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】欠陥部分を拡大するなどして詳細に検査するときに、記録した参照画像の再利用率があがるように欠陥検出の処理手順などを改良することで、検出率を下げずに短時間に効率よく欠陥を観察することができるようにする。
【解決手段】欠陥画像と記録した参照画像を比較して欠陥を抽出できなかった場合に、新たに参照画像を撮像すること、複数の記録した参照画像やこれらを組み合わせて生成した参照画像と比較したり、異なる倍率の画像の倍率が同じになるように画像処理をしたり、機差による画像の視野を補正すること、記録した参照画像に対して、優先順やスクリーニングによる評価を行うことなどを特徴とする試料の観察方法とした。 (もっと読む)


【課題】極めて短時間に且つ簡単に試料分析を行う。
【解決手段】 電子ビーム照射により試料4表面から発生し、X線分光器7のX線検出器に検出された特性X線信号に基づくスペクトルを表示装置17の表示画面上に表示させる様に成してあり、過去の分析に使用した分析条件に関するデータとその分析条件下で検出された信号に基づいて作成された分析データとを関連付けて記憶する記憶手段16、分析データに関係するパラメータの数値範囲を選択可能に表示手段17に表示させるパラメータ表示指令部9P、表示されたパラメータから分析データに関係するパラメータの数値範囲を指定する指定手段18、及び、指定されたパラメータの数値範囲が含まれる分析データに関係づけられた分析条件データを記憶手段16に記憶されたデータから抽出し、表示手段17に表示させる分析条件抽出手段21を備えている。 (もっと読む)


【課題】欠陥観察装置、欠陥観察方法、及び半導体装置の製造方法において、欠陥観察装置と基板との位置合わせ精度を向上させること。
【解決手段】基板Wの表面の欠陥Diのそれぞれの欠陥座標を取得するステップS1と、欠陥Diのそれぞれに所定領域Rを設定し、その中に含まれる欠陥の総個数Niを計数するステップと、ステージ座標を一番目の欠陥D1の欠陥座標に合わせることにより、顕微鏡の視野22f内に第1の欠陥D1を導入するステップと、視野中心22cと第1の欠陥D1とのズレ量を取得するステップと、上記ズレ量に基づいて、第1の欠陥D1よりも上記総個数が多い第2の欠陥D2の欠陥座標を補正するステップと、補正後の第2の欠陥D2の欠陥座標にステージ座標を合わせることにより、顕微鏡の視野22f内に第2の欠陥D2を導入するステップとを有する欠陥観察方法による。 (もっと読む)


【課題】本発明はエネルギー分散型X線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置に関し、スペクトル同士の相関関係を求める必要がなく、高速に処理が可能なエネルギー分散型X線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】試料に荷電粒子ビームを照射して試料から発生したX線を所定の区画毎に検出し、検出されたX線から、横軸にエネルギー、縦軸に発生したX線の数を表わすX線スペクトルを求めるスペクトル取得手段と、該スペクトル取得手段から得られたスペクトルを横軸をM分割、縦軸をN分割して、横軸のM分割区域毎に縦軸の数値を求め、求めた数値列を各区画毎に得る数値列算出手段と、同じ数値列の区画をまとめて、同一の数値列により同一の組成と判定された区画を同じ色で着色する着色手段と、各組成と判定された個別の分布を合成して分布図を得る分布図取得手段とにより構成される。 (もっと読む)


【課題】 多量の反応ガスを流しながらX線回折で試料(亜鉛フェライト脱硫剤)の反応過程(炭素析出)をその場で観察する。
【解決手段】 試料を流通する前と流通した後の反応ガスの組成が変化しない状態に試料21を保持する微分反応評価試料保持部15を備え、検証条件を保持した状態でX線回折装置(X線発生手段25、二次元X線検出手段26)により試料21の組成の形態変化をその場で直接解析し、炭素の析出が生じる過程での形態変化を検証する。 (もっと読む)


【課題】搬送中の商品の揺れを抑制して、安定したX線検出画像を得ることによって、従来よりも検査精度が向上したX線検査装置を得る。
【解決手段】X線検査装置はガイド部材18を有したコンベアを備えている。ガイド部材18は、一対の曲面支持部18a、18bと、曲面支持部18aの搬送方向上流側に設けられた水平支持部18cと、水平支持部18cと同様のものであって、曲面支持部18bの搬送方向下流側に設けられた水平支持部18eと、曲面支持部18aと同構成の曲面支持部18bとの間に設けられた切り目18dと、を有しているものである。曲面支持部18aは、搬送ベルト12eを幅方向に湾曲させつつ支持する曲面を有した第1支持部18aと、第1支持部18aの搬送方向上流側に設けられている第2支持部18aとを有しているものである。 (もっと読む)


【課題】不具合箇所を容易に特定することのできる半導体装置の解析装置及び解析方法の提供。
【解決手段】半導体装置の解析装置は、荷電粒子ビームを試料に照射し、検出した2次電子強度に応じた2次電子像を表示する機能を備える。解析対象の半導体装置に対し、第1の照射パターンで、荷電粒子ビームを照射して、電荷を注入する。次に、前記解析対象の半導体装置の電荷の蓄積状態を観測する。電荷の蓄積状態が正常でない箇所を、半導体装置の不具合箇所として検出することができる。 (もっと読む)


【課題】 骨材の種類による影響が比較的少なく、信頼性に優れた硬化コンクリートの配合組成推定方法を提供することを課題としている。
【解決手段】 電子プローブマイクロアナライザを用いて硬化コンクリート表面を面分析することにより、該表面の区画ごとに少なくとも二酸化珪素及び酸化カルシウムの濃度を測定する硬化コンクリートの配合組成推定方法であって、
前記面分析により不連続相と認識された不連続部分の二酸化珪素濃度又は酸化カルシウム濃度から骨材の種類を推定する骨材種類推定工程と、
骨材の種類に応じて二酸化珪素又は酸化カルシウムの基準濃度範囲を決定し、二酸化珪素又は酸化カルシウムの濃度が該基準濃度範囲内である区画を含む領域を骨材部分と判定する骨材部分判定工程と、
該骨材部分の面積から骨材含量を推定する骨材含量推定工程とをおこなうことにより骨材含量を推定する硬化コンクリートの配合組成推定方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】電気電子製品製造工程でのPCBに部品を装着した上、ハンダ付け作業後に製品の信頼性を確保するために、被測定物をx、y、z軸への移動だけでなく、回転して多様な角度での検査が可能なX線検査装置を提供する。
【解決手段】ケース内部に設けられたステージ、X線チューブ、ディテクターから構成され、被測定物を前記ステージに載置させ、前記X線チューブでX線を照射し前記ディテクターで撮像し被測定物を検査するX線検査装置において、前記ステージは回転自在に構成される回転ステージ、または一側に偏って通孔された部分に回転自在に設けた円形の回転ステージを有し、前記回転ステージは、下部に連結棒が構成され、この連結棒の下段に回転モーターが取り付けられ、この回転モーターは固定フレームによって前記ステージに固定されるように構成し、前記回転モーターの回転によって前記回転ステージが回転するように構成することで解決した。 (もっと読む)


【課題】 結晶方位の解析方法において、方位測定誤差を吸収できるとともに、測定点数の増加を招来しない効率の良いデータ処理方法を提供する。
【解決手段】 電子後方散乱回折により所定距離間隔の格子状測定点を測定した結晶方位データを、コンピュータによってデータ処理する結晶方位の解析方法であって、前記結晶方位データを用いて隣り合う測定点の方位差を演算し、得られた方位差を予め定められた閾値と比較することにより結晶粒界を求めるステップと、同一結晶粒内の前記結晶方位データを用いて、同一結晶粒内の各測定点について、各測定点の周囲の所定範囲内にある測定点との結晶方位データの平均を算出することにより、平均化された結晶方位データを求めるステップと、同一結晶粒内の前記平均化された結晶方位データを用いて、同一結晶粒内の方位差を演算するステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて分解能をより一層向上させることができる荷電粒子顕微鏡及び解析方法を提供する。
【解決手段】試料20内で広がった電子線プローブをCCDカメラ23で撮影し、電子線プローブ(実効的プローブ)の形状、大きさ及び強度分布のデータを取得する。その後、CCDカメラ23を電子線の通過域から退避させ、STEM検出器22により観察像を取得するとともに、EELS検出器24によりEELSスペクトルを取得する。次いで、電子線プローブ(実効的プローブ)の形状、大きさ及び強度分布のデータを使用し、分析目的位置毎に分析目的位置に照射される電子線量(強度)とその周囲に照射される電子線量とを演算し、その結果に基づいてSTEM検出器22又はEELS検出器24により得た測定値を演算処理して、周囲の影響を排除した真の測定値を得る。 (もっと読む)


【課題】厚さの薄い被写体のX線画像を、長時間安定して低ノイズで形成することができる低エネルギーX線画像形成装置を提供する
【解決手段】X線源10から20keV未満の低エネルギーX線を被写体100に照射し、透過する低エネルギーX線をガス電子増幅器12で電子に変換して増幅し、電子検出器14で検出してX線画像形成装置16により被写体100の低エネルギーX線画像を形成する。この低エネルギーX線画像は、標準X線画像や可視画像と比較して、あるいは異物による低エネルギーX線の吸収端を検出することにより、印刷インクや金属その他の異物等のノイズを除去する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、観察条件に最適な感度ムラ補正の補正係数の設定を自動的に行なうことができる透過型電子顕微鏡用カメラの感度ムラ補正方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】試料を透過した透過電子線を入射して透過電子線像を撮影する透過型電子顕微鏡用カメラ24と、透過型電子顕微鏡21の観察条件に合わせてピクセル毎の感度ムラ補正係数を記憶するコンピュータ23と接続された外部記憶装置27と、観察画像を得るに際し、前記透過型電子顕微鏡用カメラ24で撮影されたピクセル毎の画像データに、前記記憶装置27に記憶された感度ムラ補正係数を乗算するコンピュータ内演算手段と、該演算手段により乗算された画像データを表示する表示手段23aとを具備して構成される。 (もっと読む)


【課題】多孔質体、特に固体高分子形燃料電池の触媒層またはガス拡散層の細孔を簡便かつ定量的に測定する方法及び装置を提供する。
【解決手段】多孔質試料の表面または断面の電子顕微鏡画像を取得する工程と、該電子顕微鏡画像の細孔領域と細孔以外の領域を分離する工程とを含む細孔測定方法において、前記電子顕微鏡画像から前記試料の形状または組成分布あるいは前記試料と電子顕微鏡の組み合わせに起因する輝度ムラを除去する工程を含む細孔測定方法とすることで、高精度に細孔を測定できる。 (もっと読む)


【課題】小型・高密度化するパワーモジュールのような機器内部の絶縁欠陥発生箇所の詳細な位置検出および欠陥状態の判別をすることで欠陥発生要因の特定を行うことのできる被測定物の欠陥検出装置と方法を提供する。
【解決手段】被測定物に対して試験電圧を印加し、ビーム状のX線を照射して部分放電を測定して欠陥位置を検出する際に、照射範囲の透過画像を観測できるようにし、全体透過画像と対応させてX線照射位置を確認することで、照射位置を正確に制御することができ、欠陥検出時に欠陥を可視化することで、欠陥の正確な位置を特定することができる。さらに、部分放電波形の測定による欠陥状態の判別結果と合わせて、欠陥発生要因を特定する。 (もっと読む)


【課題】 電子線を使う半導体検査装置のスループットを向上する。
【解決手段】
電子線を試料に向けて照射する電子源14・6と、該試料を保持する試料ステージ14・22と、該電子ビームの試料へ向けた照射によって該試料の表面の情報を得た電子を検出する検出器14・4と、該検出器14・4に検出された電子に基づいて試料表面の画像を生成する画像処理ユニット14・5と、電子源14・6から試料ステージ14・22への1次電子光学系と試料ステージ14・22から検出器14・4への2次電子光学系を分離するウィーンフィルタ14・3と、を備え、電子銃14・6から放出された電子線はウィーンフィルタ14・3においてクロスオーバを形成すると共に、試料表面から放出された放出電子はウィーンフィルタ14・3においてクロスオーバを形成し、1次電子光学系と2次電子光学系のクロスオーバの位置は、ウィーンフィルタ14・3上で異なっている。 (もっと読む)


【課題】検出画像を取得した被検査領域毎に閾値を最適化する手法はあるが、1枚の検出画像については1つ閾値だけを適用する。このため、1つの画像内に有意でない欠陥が含まれる場合でも、有意の欠陥と同じ感度レベルで検出される。
【解決手段】1つの検査領域内に複数の感度領域を設定して、1つの検査領域のうちDOI(Defect of interesting)が存在する領域の欠陥だけを他と区別して検出できる仕組みを提案する。具体的には、検査領域内の画像の特徴に基づいて、検査領域内に複数の感度領域を設定し、検出画像、差画像又は欠陥判定部の判定用閾値に、各感度領域の設定感度を適用する。 (もっと読む)


【課題】放射線源にマルチスリットを用いることなく放射線位相画像撮影装置を構成する。
【解決手段】電子線を射出する複数の電子源15aおよびその電子源15aから射出された電子線の衝突により放射線を射出するターゲット15bを備えた放射線照射部1と、放射線を回折する格子構造が周期的に配置された第1の格子2と、放射線を透過および遮蔽する格子構造が周期的に配置された第2の格子3と、第2の格子3を透過した放射線を検出する放射線画像検出器とを設け、第1の格子2および前記第2の格子3を、放射線の光軸方向において、各電子源に対応する放射線に基づく第1の格子2の像同志を第2の格子3面上で略重ねることができるように配置し、各電子源15bに対応する放射線が、それぞれ同一の被写体の位相画像を放射線画像検出器4上に形成する。 (もっと読む)


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