【課題】液晶表示装置用の基板に付着した異物を、その導電性の観点から検査する方法および装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した異物に金属元素が含まれているかどうかを検査する方法であって、検査対象の前記基板の所定枚数ごとに一度、異物のない箇所について予め測定する比較用蛍光Ｘ線スペクトルと、前記基板の異物が付着した１或は複数箇所の蛍光Ｘ線スペクトルを測定して、複数のＸ線スペクトルをデータ処理することにより、前記異物が金属元素を含有するか否かを高精度に判定する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の回折格子を使用して位相コントラスト画像を撮影する放射線撮影システムにおいて、高精度な測定器を使用せずに各回折格子の位置や傾きを調整する。
【解決手段】１枚目の格子である第３の吸収型格子２５は、ＦＰＤ２０の検出面に直交するｚ軸上に配置され、第３の吸収型格子２５を通過するＸ線量に基づいて、ｚ軸に直交するｘ軸、ｙ軸上の回転位置θｘ、θｙが調整される。２枚目の格子である第１の吸収型格子２１は、モアレパターンが生じるようにｚ軸上に配置され、ＦＰＤ２０により検出したモアレパターンの周波数が面内において一律になるように、θｘ、θｙが調整される。３枚目の格子である第２の吸収型格子２２は、２枚目の格子である第１の吸収型格子２１と同様にモアレパターンに基づいてθｘ、θｙが調整され、その後にモアレパターンがＦＰＤ２０により検出されなくなるように、ｚ軸位置またはｚ軸周りのθｚが調整される。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線ホログラム撮像用の試料構造体に、参照光が通過する実効的に小さな参照光孔を容易に形成する。
【解決手段】Ｘ線を透過する支持基板３の下面上に形成されたＸ線遮蔽層２と、遮蔽層２を貫通し底面に支持基板３を表出する透過窓５と、支持基板３上の透過窓５直上に形成された薄膜試料４と、透過窓５に入射するＸ線の可干渉長内に開設され、遮蔽層２及び支持基板３を斜めに貫通する参照光透過用の参照光孔６とを有し、垂直方向視したとき、参照光孔６の上下の開口形状６ａ、６ｂが、一部重畳するＸ線ホログラム撮像用の試料構造体１０。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線顕微鏡及びＸ線を用いた顕微方法に関し、Ｘ線画像の分解能を向上させることができるＸ線顕微鏡及びＸ線を用いた顕微方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電子ビームＥＢを集束して照射する電子ビーム照射手段と、該電子ビーム照射手段からの集束電子ビームの照射に応じてＸ線発生源となる薄膜１１と、該薄膜１１の第１の面に照射された集束電子ビームによって該薄膜１１から発生するＸ線１３を検出するＸ線検出手段８とを有し、前記薄膜１１の第２の面に接して配置された試料７を透過したＸ線１３を前記Ｘ線検出手段８により検出するように構成する。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを放出中であっても高真空を維持可能な小型荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の電子光学系の差動排気の上流に非蒸発ゲッター
ポンプを配し，下流に必要最小限のイオンポンプ配して，両者を併用することにより達成
される。さらに，取り外し可能なコイルを電子銃部に実装することにより，別の課題を解
決する。
【効果】カラム内の真空度を１０^−８Ｐａ台の高真空で維持できる小型荷電粒子線装置，例えば，小型の走査型電子顕微鏡，複数のカラムを有する荷電粒子ビーム装置を得ることができる。さらに，半導体の電気特性を直接計測するプローバ装置の探針の位置をモニタする小型ＳＥＭカラムを容易に内蔵できる。その他にも，半導体素子検査用のミラープロジェクション方式の電子線検査装置の電子線照射カラムの小型化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】薄膜状元素の種類と厚さに対して、輝度コントラストが最大となり且つ再現性よく計測することができるSEM反射電子計測の観測条件を決定する方法および、SEM反射電子計測により識別することが可能な元素種類組み合わせを予測する方法を用いて異種元素が付加された微粒子セットを識別する観察方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、支持体表面の異なる領域を３種類以上の元素で薄膜状に被覆してなる微粒子標識であって、各元素の全反射係数ηの値に基づいて昇順または降順で並べたときに隣接する元素間での全反射係数ηの差が、0.02以上となるような３種類以上の元素の組合せを用いて、前記支持体表面の異なる領域が薄膜状に被覆されている、微粒子標識を提供する。 （もっと読む）

【課題】複数台の画像処理装置を用いて欠陥レビューないし欠陥分類を実行する欠陥レビュー装置において、１台の画像処理装置が故障しても欠陥レビューを継続可能な欠陥レビュー装置を実現する。
【解決手段】複数台の画像処理装置間を統括制御する画像処理制御部を設け、複数台の画像処理装置間で常に生存信号を送受信する。生存信号に何らかの障害が検出された場合（タイムアウトなど）、複数台の画像処理装置間で実行している画像処理について、画像処理制御部が画像処理を実行する画像処理装置の再割り当てを行う。
【効果】障害が発生しても欠陥レビュー装置の動作を継続させることができる。 （もっと読む）

【課題】４以上の元素を含む試料の相解析を効率良く行えるようにする。
【解決手段】相解析画面上に表示された２元散布図（又は３元散布図）上で、分析者がマウス操作等によりプロット点の集まり（クラスター）を異なる色の囲み線ａ、ｂ、ｃで指定すると、各囲み線内に含まれるプロット点は囲み線と同色に変更される（ａ）。同時に、相解析画面上に表示された分布図上では、散布図上のプロット点に対応した位置が同色で示される。したがって、分布図上でクラスターに対応する領域がそれぞれ異なる色Ｍａ、Ｍｂ、Ｍｃで示される（ｂ）。表示される散布図が別の元素組合せのものに切り替えられても、分布図上の各位置に対応したプロット点に同じ色が与えられる（ｃ）。これにより、異なる元素組合せの散布図を関連付けることができる。また、異なる散布図上で指定したクラスターの位置を１つの分布図上で確認することができる。 （もっと読む）

【課題】試料が搭載される基板（基材）の元素と、試料に含まれる元素が同一でも、安定して、微小部分の成分計測が可能な微小部Ｘ線計測装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置と、放出されるＸ線を５０μｍ径以下の断面積に収束照射するＸ線光学素子と、蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、光学像を撮像可能な光学顕微鏡と画像認識機能を備え、試料を二次元で移動して位置決めが可能で、かつ、高さ方向にその位置調整が可能な試料相対移動機構とを備え、試料の特定位置における蛍光Ｘ線計測が可能であり、かつ、基材の上に置かれた測定試料からの蛍光Ｘ線も計測可能な微小部Ｘ線計測装置では、Ｘ線の照射位置と前記Ｘ線検出器との間の蛍光Ｘ線の光路を蛍光Ｘ線の減衰を抑制する構造（真空又はヘリウム置換）とし、かつ、基材上の測定試料が基材と同一の金属元素を含んでも、測定試料の同一の金属元素の含有が判定可能なデータ処理機能を備えたデータ処理部を備えている。 （もっと読む）

貨物専用コンテナの内容物を検査する装置が、ジュウテリウム又はトリチウムイオンを与えるべく構成されたイオン源と、ジュウテリウム又はトリチウムの少なくとも一つを有する標的に向けて当該イオンを加速するべく構成された加速器とを有する中性子源とを含む。本装置はさらに放射線検出器を含み、当該中性子源は、当該コンテナ内に中性子束を送達するべく構成され、当該放射線検出器は、当該コンテナ内への当該中性子束の送達に引き続き当該コンテナから出る放射線を検出するべく構成される。
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【課題】本発明は３次元画像取得方法及び装置に関し、分解能を向上させることができるトモグラフィー法を用いた試料の３次元画像取得方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】走査透過型電子顕微鏡において、試料の３次元画像を得る３次元画像取得手段を設け、該３次元画像取得手段を用いて試料の第１の３次元画像を得、次に、試料を裏返して該３次元画像取得手段を用いて試料の第２の３次元画像を得、得られた試料の第１の３次元画像と第２の３次元画像とから試料の３次元画像を得る、ように構成する。 （もっと読む）

【課題】被検体におけるビームの吸収の影響が少ない画像合成装置及び画像合成方法を提供する。
【解決手段】実際に検出される前方回折ビーム強度及び回折ビーム強度は、被検体Ｓａでの吸収の影響が含まれるが、これらのビームにおける被検体を通過したときの吸収による減衰率が同じであると仮定して、この減衰率と前方回折ビーム強度と回折ビーム強度で表される、減衰の影響を含まない前方回折ビーム強度及び回折ビーム強度により、被検体Ｓａを通過した際のビームの屈折角θ_０を求め、その屈折角θ_０を用いて被検体Ｓａの合成画像を得る。 （もっと読む）

【課題】 半導体単結晶基板の結晶欠陥を、高感度に検出し精度良く評価することのできる半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法であって、少なくとも、前記半導体単結晶基板を水素雰囲気下８００〜１１００℃で熱処理した後、該熱処理した半導体単結晶基板の表面に顕在化した結晶欠陥の検出を行うことによって、前記半導体単結晶基板の結晶欠陥の評価を行うことを特徴とする半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法。 （もっと読む）

【課題】
レビューＳＥＭにおいて、目標とする欠陥を間違いなく検査する。
【解決手段】
欠陥検査装置が検出した欠陥から目的とする欠陥を選定し、その座標を取得し、レビューＳＥＭの視野を目的とする欠陥の座標に合わせてＳＥＭ像を撮像し、ＳＥＭ像中の欠陥を画面内の座標と共に検出し、欠陥検査装置が検出した欠陥と対応するＳＥＭ像中の欠陥を重ねるための座標調整値を求め、目的とする欠陥の調整した座標に合わせて、拡大ＳＥＭ像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】微小試料を加工する際のユーザの負担を効果的に低減できる微小試料の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る微小試料の加工方法は、微小試料の断面のＳＥＭ画像を取得するステップと、取得したＳＥＭ画像の一部の領域を指定するステップと、指定した領域の濃淡度を指定するステップと、集束イオンビームを照射して、微小試料を加工するステップと、加工した微小試料の断面のＳＥＭ画像を取得するステップと、取得したＳＥＭ画像の指定した領域の濃淡度を算出するステップと、算出した濃淡度が、指定した濃淡度を満たすかどうかを判定するステップとを具備し、算出した濃淡度が指定した濃淡度を満たすまで、微小試料を加工するステップから濃淡度を算出するステップまでを繰り返すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。
【解決手段】
観察装置を，座標変換情報を記憶する記憶手段と、検査装置で検出した複数の欠陥の座標情報を記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を用いてそれぞれの欠陥に対応する観察装置上の座標情報に変換する座標情報変換手段と、座標情報変換手段で変換した観察装置上の座標情報に基づいてそれぞれの欠陥を撮像する撮像手段と、撮像手段で取得した画像から抽出した欠陥の座標情報と座標変換手段で変換したそれぞれの欠陥の座標情報とから記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を修正する座標情報修正手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ短時間で結晶格子像と相似のモアレパターンを得ることを可能にする。
【解決手段】走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】光ファイバーを用いずに伝送する光検出装置及び光伝送装置を提供する。
【解決手段】チャンバ２内の試料台５に試料４が載置される。電子線照射部１から楕円面鏡３の孔部３０を通過して試料４の試料面に電子線が照射される。照射スポットに位置する試料４の試料面の一部が励起して散乱光を発する。散乱光は、楕円面鏡３の内面での反射により楕円面鏡３の２焦点と異なる位置に集光されて非散乱光に変換される。非散乱光は、チャンバ２の開口部２４を気密封止しているコリメートレンズ２１を通過して平行化され、チャンバ２外の分光部７へ伝送される。分光部７は、伝送された光を検出する。 （もっと読む）

チェックポイントシステムと、チェックポイントシステム用のホイール付容器と、ホイール付容器に入った物品をチェックポイントシステムに通して搬送する方法である。各容器は、当該容器の平坦な底面の下に延在しない４つのホイールを具える。これにより、容器は中身が入れられるときに、その底部で浅い樋が設けられた取り外しテーブルに沿ってスライドされ、その底部でチェックポイントを通して搬送され、そのホイールでより深い樋を有する取り出しレーンに沿って転がる。取り出しレーンの下の容器返却部が、容器を取り外しテーブルの下の容器保存キューに戻す。チェックポイントの出力側のソータが、例えば容器の内容物が問題のないレーンと怪しいレーンといった１またはそれ以上の取り出しレーンに容器を選択的に偏向させる。 （もっと読む）

【課題】欠陥レビューのレポート作成に要する時間を短縮し、欠陥レビュー装置あるいは検査システムユーザの利便性を向上する。
【解決手段】被検査試料に存在する複数の欠陥のレビュー機能を有する欠陥レビュー装置に接続されて使用されるレビュー支援装置１３において、外観検査装置３などによって取り込まれた欠陥の位置情報と画像情報とを処理する演算手段と、欠陥レビューの結果を要約したレビューレポートを作成するための操作画面が表示されるモニタとを有し、レビューレポートのレイアウト編集機能を持ったレビューレポート作成ツール１０〜１２を構成することにより上記の課題を解決する。 （もっと読む）