【課題】半導体デバイスのようなパターンの検査において、特定のパターン上の欠陥を選択的に検出することが欠陥発生原因を推定するのに有用である。そこで、本願発明は、試料上のパターン形状に応じて検査対象とする領域を設定することができる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願発明は、試料の画像に基づいて得られるテンプレート画像を用いて試料上のパターンの輪郭を抽出し、前記パターンの輪郭に基づいて検査対象領域を設定し、被検査画像を比較画像と比較して欠陥候補を検出し、前記検査対象領域と当該検査対象領域に含まれる前記欠陥候補との位置関係を用いて、試料を検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛含有量を簡易かつ正確に測定することのできる蛍光Ｘ線分析法および装置を提供する。
【解決手段】鉛含有量が既知の標準試料により得られる鉛含有量と鉛特性Ｘ線強度との関係と、鉛特性Ｘ線強度とに基づいて鉛含有量を求める蛍光Ｘ線分析法において、Ｘ線管球電圧を変えながらＸ線透視像を観察し、Ｘ線透視像に投影された鉛含有粒子の影の有無を調べることにより、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しているか否かを判定基準として、貫通していない鉛含有粒子を有しないグループ１と、貫通していない鉛含有粒子を有するグループ２とに分類し、グループ１の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しないものを標準試料として選定し、グループ２の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有するものを標準試料として選定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線トポグラフを求めるＸ線回折装置においてＸ線トポグラフの平面領域内の位置を明確に特定できるようにする。光学顕微鏡、イメージングデバイス等によって捕えることができない光学的に透明な物質を可視化して測定対象とする。
【解決手段】試料１８の平面領域から出たＸ線を空間的に１対１の幾何学的対応をつけて平面的なＸ線トポグラフとして検出し、当該Ｘ線トポグラフを信号として出力するＸ線トポグラフィ装置４，２２と、試料１８の平面領域の光像を受光してその光像を平面位置情報によって特定された信号として出力する２次元イメージングデバイス６と、Ｘ線トポグラフの出力信号とイメージングデバイス６の出力信号とに基づいて合成画像データを生成する画像合成用の演算制御装置とを有するＸ線回折装置である。 （もっと読む）

【課題】画像合成時の画像上の被検査物の位置ズレを低減し、異物検出能力の低減を防ぐことができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】搬送路上を搬送される被検査物Ｗに互いに異なる強度のＸ線を照射するＸ線管１２ａ、１２ｂと、被検査物Ｗの搬送方向に配置され、異物判定に必要な解像度より高解像度であるとともにＸ線管１２ａ、１２ｂから照射され被検査物Ｗを透過するＸ線に応じた画像データをそれぞれ出力するＸ線ラインセンサ５０、６０と、Ｘ線ラインセンサ５０、６０からの画像データを合成して被検査物Ｗに対応する１つの画像データとして出力する画像合成部４４と、画像合成部４４からの画像データの画像サイズを縮小する画像縮小部４６と、画像縮小部４６が出力する画像データに基づいて被検査物Ｗ中の異物の有無を判定する判定部４８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】画素毎に、検出素子の個体差を考慮した校正を施す。
【解決手段】格子状に等間隔に配列された複数の検出素子６１を有し、各検出素子６１が検出した被写体としてのプリント基板Ｗの画像を画素毎に分解して出力する撮像ユニット２０、４０を備えている装置に適用される。個々の画素の個体差を表す個体差ファクタα、βを記憶し、記憶された個体差ファクタα、βに基づいて、当該検出素子６１毎に線形な校正値を出力し、前記検出値校正処理部２２５が演算した校正値Ｉχｃに基づいて、画素毎に目標物理量としての輝度値Ｂや材料厚さχを演算する。 （もっと読む）

【課題】回折格子と遮蔽格子を有するタルボ干渉法を用いた撮像装置において、回折格子および遮蔽格子の姿勢のずれによるキャリア周波数に対応するスペクトル強度の低下を軽減する。
【解決手段】撮像装置はＸ線源１１０とＸ線源１１０から出射したＸ線を回折する回折格子１３０と回折格子１３０によって回折されたＸ線の一部を遮る遮蔽格子１５０と遮蔽格子１５０を経たＸ線の強度分布を検出する検出器１７０とを有する。更に、撮像装置は、調整部１９０を有する。調整部１９０は、検出器１７０で検出された強度分布を複数の領域に分割し、複数の領域の強度分布に基づいて、回折格子１３０および遮蔽格子１５０のうち少なくともいずれか一方の姿勢を調整する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の電位コントラスト像から配線のコントラストを簡便かつ正確に認識し、抽出することのできる半導体装置のコントラスト画像処理方法、処理装置、処理プログラムを提供する。
【解決手段】解析装置から得られた半導体装置のコントラスト像をコントラスト像に合わせて自動的に減色する減色処理と、減色されたコントラスト像に含まれる画素をあらかじめ設定したコントラスト閾値を基準に分類し、複数のコントラストに分別された配線パターンを抽出する配線コントラスト抽出処理と、配線パターンの輪郭部分に含まれるノイズを輪郭部分のシフトにより除去するシフト処理と、を含み、解析装置から得られた半導体装置のコントラスト像に含まれる配線パターンを所定のコントラストに区分して抽出する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ＴＥＭ画像形成の質を改善することである。
【解決手段】
透過型電子顕微鏡の検出器システムにおいて、画像取得期間の間に、画像データがピクセルから読み出され、分析される。画像取得プロセスは、分析結果に基づいて修正される。例えば、分析は、チャージングやバブル形成の画像アーチファクトのデータへの混入を示す。そして、アーチファクトを含むデータは、最終画像から取り除かれる。ＣＭＯＳ検出器は、高速なデータレートで選択的にピクセルを読み出し、リアルタイムの適応画像処理を提供する。 （もっと読む）

【課題】プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトの発生を防止する。
【解決手段】被検体を配置しない状態でプレ撮影を行った後、被検体を配置して本撮影を行う。Ｘ線画像検出器で取得された複数の縞画像に基づき、数式（Ａ）及び（Ｂ）を用いて、プレ撮影時に第１の位相微分像ψ_α１（ｘ，ｙ）及びψ_β１（ｘ，ｙ）を算出し、本撮影時に第２の位相微分像ψ_α２（ｘ，ｙ）及びψ_β２（ｘ，ｙ）を算出する。そして、画素ごとに、ψ_α２（ｘ，ｙ）−ψ_α１（ｘ，ｙ）とψ_β２（ｘ，ｙ）−ψ_β１（ｘ，ｙ）とを算出し、両者から絶対値の小さい方を選択することにより、補正済位相微分像を生成する。


（もっと読む）

【課題】設計データを制約条件として用い単調なパターンでも精度の良い連結画像を生成することを目的とする。設計データと画像データとのマッチングで大まかに基準位置を求めて、設計データとのズレ量を検索範囲として、隣接画像間でのマッチングを行い高速で精度の良い連結画像を生成する。
【解決手段】本発明の画像生成方法は、走査型電子顕微鏡を用いて電子デバイスパターンを検査する画像生成方法であって、電子デバイスパターンのレイアウト情報が記述された設計データを入力して記憶した設計データファイルと、撮像位置を変えて前記電子デバイスパターンを撮像して得た複数枚の分割画像データと、前記複数枚の分割画像データと前記設計データファイルの設計データとを用いて前記複数枚の分割画像データを１枚の画像に連結する画像連結手段とで構成される。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線の被検知物による吸収情報と位相情報とを、分離して独立した情報として取得するＸ線装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線装置であって、Ｘ線発生手段から発生したＸ線を空間的に分割する分割素子と、分割素子により分割され、被検知物を透過したＸ線の位相変化によるＸ線の位置変化量を、Ｘ線または光の強度変化量に換えて、Ｘ線または光の強度を検出する検出手段と、検出手段から得られたＸ線または光の強度から被検知物の吸収情報であるＸ線透過率像と、位相情報であるＸ線微分位相像またはＸ線位相シフト像を演算する演算手段と、を有し、分割素子は、Ｘ線を分割することにより検出手段において２以上の幅を有するＸ線を照射する構成を備え、演算手段は、検出手段におけるＸ線の位置変化量とＸ線または光の強度変化量との相関関係が２以上の幅を有するＸ線間で異なることに基づいて演算する構成を備えている。 （もっと読む）

【課題】放射線検査装置の放射線源と放射線検出器とのアライメントについて、その装置の再組立て時に分解前のアライメントに極力合わせて再現する。
【解決手段】放射線源１０１と検出器１０３とが、被検体の配管２１５を挟んで対向した位置に配置され、放射線源１０１からの放射線が配管２１５を透過し、その透過放射線を検出器１０３にて検出する放射線検査装置において、放射線源１０１と検出器１０３間の距離を距離計測器１０７ａ，１０７ｂ，１０７ｃで計測し、この計測量から放射線源１０１と検出器１０３の相対位置を導出して、これを初期値とし、放射線検査装置を検査現場で再組立て時に前記距離の計測と同じ方法にて前記距離を再計測し、再計測による前記相対位置と前記初期値との差分量を導出し、その差分量に基づいて前記放射線源と前記検出器間の相対位置関係を位置調整機構１０５で調整する。 （もっと読む）

【課題】 複数のＸ線ビームを出射させるＸ線源を用いたＸ線撮像装置であって、干渉パターンの不均一さを軽減することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器と、を備える。Ｘ線源のターゲットは複数の凸部を有し、複数の凸部の各々は出射面を有する。出射面は、電子源からの電子線が入射することにより、回折格子へ向かうＸ線を出射する。出射面から出射されたＸ線は、回折格子で回折されることにより、干渉パターンを形成する。ターゲットの複数の凸部は、複数の干渉パターンの明部同士及び暗部同士が互いに重なるように配列されていて、複数の出射面の各々と回折格子との距離が互いに等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象の電気特性を測定する場合に、検査対象の電気特性に影響を与えることなく、ＳＥＭ画像の高倍率化、高分解能化及びリアルタイム性を実現する。
【解決手段】試料上の検査対象における目標位置の像を含む高画質且つ高倍率の第１の画像を取得する。次に、試料上の検査対象における目標位置の像とプローブの像を含む低画質且つ低倍率の第２の画像を取得する。次に、第２の画像に第１の画像データを組み込むことによって、第２の画像の倍率と同一の倍率の粗寄せ観察用の画像を生成する。プローブが検査対象における目標位置に近接するまで、粗寄せ観察用画像の生成を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に複数枚の小格子を配列した回折格子を湾曲させた際に、湾曲の際の応力が集中する応力集中線によって支持基板が折れるのを防止する。
【解決手段】第２の回折格子１３を円筒状に湾曲させる際に応力が集中する支持基板２１の応力集中線Ｆに、少なくとも１枚の小格子が重なるように複数枚の小格子２２ａ〜２２ｄを配列する。これにより、応力集中線Ｆにおける支持基板２１の剛性が向上するので、応力集中線Ｆにおいて支持基板２１が折れるのを防止することができる。更に、小格子間の境界、例えば小格子２２ａ及び２２ｂの境界Ｕ１と、小格子２２ｃ及び２２ｄの境界Ｕ２とが応力集中線Ｆ方向において一致しないように、複数枚の小格子２２ａ〜２２ｄを支持基板２１上に配列することで、応力集中線Ｆ以外で支持基板２１が折れるのも防止することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作により、所要の領域のパノラマ透視像を確実に得ることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】複数の部分画像を合成してパノラマ透視像を得る機能を備えるとともに、ステージ３上の被検査物Ｗを撮影する光学カメラ５を設け、その光学カメラ５による被検査物Ｗの外観像を表示器１５に表示し、その外観像上に、得るべきパノラマ透視像の領域を枠で指定することにより、ステージ３とＸ線発生装置１およびＸ線検出器２の相対位置を移動させる移動機構４を自動的に駆動し、所定の透視倍率にしたうえで指定された枠内の領域を順次撮影して複数の部分画像を取得し、これらを合成して指定された領域のパノラマ透視像を構築することで、パノラマ透視像の撮影のための設定操作を容易化する。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡を用いて角層細胞間の微細構造の全体の詳細を簡便かつ明瞭に観察することができる角層細胞間の微細構造の観察方法を提供する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡を用いた角層細胞間の微細構造の観察方法であって、皮膚面に対して垂直方向に切断面を有するように切り出した皮膚試料４に対して、角層細胞間脂質の層構造１４の面内方向に電子線１０が照射されるように、透過型電子顕微鏡用試料ホルダー上の、該皮膚試料を載せたグリッド１の向きを調整し皮膚試料の向きを調整する、角層細胞間の微細構造の観察方法。 （もっと読む）

【課題】層状構造を有する被検体の断面像を短い断層撮影時間で得るＣＴ装置を提供する
【解決手段】層状構造を有する被検体の断面像を撮影するＣＴ装置であって、Ｘ線管１により発生して被検体５を透過した放射線光軸Ｌを中心とするＸ線ビーム２を検出して透過データとして出力するＸ線検出器３と、被検体５とＸ線ビーム２とに放射線光軸Ｌを横切る方向の相対的な平行移動を与える平行移動機構７と、被検体５の撮影する層状構造の層面が放射線光軸Ｌに平行でかつ平行移動の方向に交差する姿勢で、平行移動をする間に所定の移動間隔毎に検出された透過データのみから放射線光軸Ｌと平行移動の方向で規定されるファン面に対する被検体５の断面像を再構成する再構成部１１ｅとを有することを特徴とするＣＴ装置。 （もっと読む）

【課題】
X線マイクロビーム分析装置において、より簡便な方法でX線マイクロビームの試料上での照射位置を目視観察しながらX線マイクロビーム分析を行えるＸ線分析装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
Ｘ線源とＸ線が照射される試料台との間にＸ線透過部を有する反射ミラーを有し、前記Ｘ線源と反射ミラーの間に、Ｘ線集光用光学素子を有するＸ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）