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Fターム[2G001HA12]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 表示、記録、像化、観察、報知等 (3,732) | 可光;写真;螢光手段 (206)

Fターム[2G001HA12]に分類される特許

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【課題】荷電粒子線の光学系の光軸に垂直な平面内、もしくは少し傾斜した平面内における回転機構をもった装置の回転操作に伴って発生する観察・加工位置の移動の補正を簡便かつ高精度に実現すること。
【解決手段】荷電粒子線装置における試料ホルダー、絞り装置、バイプリズムなどの、当該回転機構の2次元位置検出器とコンピュータ制御による駆動機構を利用し、さらにコンピュータの演算能力を利用することによって該平面内の回転に伴う移動量を演算によって求め、これを相殺させる様に駆動、制御を行なう。また、ひとつの入力によって複数の回転機構を互いに関連をもって操作させる。 (もっと読む)


本発明は、病原体、細菌、癌細胞および他の異常なヒトおよび動物の細胞の迅速な同定を達成する。一実施形態では、本発明のシステムは、病原体、細菌および他の異常な細胞の試料の画像を得て処理する第一のサブシステムと、この画像を受容し、高度画像セグメンテーションを用いてこの画像の特定の特徴を切り離し、次いで、パターン認識プロセスを用いることによってこの病原体、細菌および他の異常な細胞を迅速かつ正確に同定し、ここでこのオリジナル画像のセグメント分けまたは切り離された特徴を既知の参照画像と比較する第二のサブシステムとを含む。
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【課題】回路パターンの検査において、3次元X線CT装置を用いることで、欠陥部位を特定するこができ、かつその検査時間を高速に実現する方法を提供する。
【解決手段】回路基板を透過した透過X線像を用いて被検体の断層画像を生成する3次元X線CT検査装置であって、被検体にX線を照射する手段121と、被検体を透過したX線を計測する手段124と、X線計測手段により計測したX線データを用いて前記被検体の断層画像の3次元画像再構成を行う手段151と、断層画像から回路パターンの位置を決定し、決定した回路パターンの位置から、基板近似面を決定する手段152と、決定した基板近似面から、検査領域を決定する手段153と、前記決定した検査領域に対して検査を行う。 (もっと読む)


放射線検出器は、低エネルギーの放射線イベントを可視光に変換し、高エネルギー放射線を透過するように、X線源(14)に対向して備えられている上部シンチレータ(30)の二次元アレイを有する。下部シンチレータ(30)の二次元アレイは、透過された高エネルギー放射線を可視光に変換するように、X線源(14)から遠位側に上部シンチレータ(30)に隣接して備えられている。上部及び下部光検出器(38,38)は、上部及び下部シンチレータ(30,30)の内側(60)においてそれぞれのシンチレータ(30,30)に光学的に結合されている。光学要素(100)は、上部シンチレータ(30)から光を収集して、対応する上部光検出器(38)に導くように、上部シンチレータ(30)に光学的に結合されている。

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【課題】後方散乱電子回折(EBSD)パターンの磁場歪みを修正すること。
【解決手段】後方散乱電子回折(EBSD)パターンの磁場歪みを修正する方法が提供される。最初に、EBSDパターンが、電子顕微鏡内に配置された試料から生成される。顕微鏡内の磁場の所定の表現が用いられ、顕微鏡内の電子の軌道が異なった出現角度に対して計算される。次に、計算された軌道を用いて、顕微鏡の磁場が実質的に存在しない場合のEBSDパターンを表現する、修正されたEBSDパターンが、計算される。 (もっと読む)


【課題】 アナターゼ型結晶とルチル型結晶が不均一に混合共存する酸化チタン試料の混合比分布画像を得る方法を提供する。
【解決手段】 単色の入射X線で酸化チタン試料表面の被測定領域全体を照らし、各部位からの回折X線を二次元位置敏感型検出器で区別して検出して強度分布画像を形成する。単色の入射X線の波長を変えてアナターゼ型結晶の所定の格子面とルチル型結晶の所定の格子面での強度分布画像を取得し、それらを割り算して換算した混合比分布画像を形成する。 (もっと読む)


【課題】
サブnmから数10nmの厚さの表面結晶層、あるいは、薄膜結晶の結晶構造、結晶ドメインサイズ、および、方位の異なる複数の結晶ドメインが存在する場合のドメインの割合を迅速に解析するための装置である。
【解決手段】
試料の表面とX線のなす角を制御する入射角変更機構、その機構の高さを調節する台、試料の高さを調節する台、2次元検出器、2次元検出器用の支持台、および試料ホルダから構成される超微細構造体のX線迅速構造解析装置。 (もっと読む)


【課題】 各種のトポグラフィとロッキングカーブ測定法が一台の装置で可能なX線単結晶評価装置を提供する。
【解決手段】 単結晶試料SMを保持してX線発生装置30から出射されるX線を照射して回折X線を生じるX線回折部20と、X線回折部において試料で回折したX線を受光するX線検出部100とを備えたX線単結晶評価装置は、X線発生装置から出射して単結晶試料に照射される光路部40の一部に、結晶コリメータ47が選択的に挿入可能なコリメータ45を備え、かつ、X線検出部は、X線TV110とシンチレーションカウンタ(SC)120とを備えており、このSCは移動可能で、その移動位置によってアナライザ結晶121が挿入可能である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、電子ビームを利用して、パターン像等を取得する検査装置に関し、特に、ウィーンフィルタによる収差や電子ビームの強度むらを低減することができる検査装置に関する。
【解決手段】 電子ビームの照射手段1と、試料からの二次ビームを検出する電子検出手段2と、照射手段1および電子検出手段2と、試料との間に配され、照射手段1の電子ビームを曲げて試料面に垂直照射させ、かつ試料からの二次ビームを電子検出手段2に導くウィーンフィルタ3と、検出した二次ビームから試料の画像情報を生成してコントラストを求めるコントラスト検出手段5と、照射手段1とウィーンフィルタ3との間に配置され、ウィーンフィルタ3へのビーム入射角またはビーム入射位置を変える偏向手段4とを備え、ビーム入射角またはビーム入射位置を変えて、コントラスト検出手段5のコントラストを最大にする。 (もっと読む)


【課題】原子スケールの空間分解能により元素を同定することを可能にする。
【解決手段】測定対象に対してビーム径が1mmよりも小径な高輝度単色X線を照射するX線照射手段と、上記測定対象に対向して配置される探針と、上記探針を介してトンネル電流を検出して処理する処理手段と、測定対象と上記探針と上記測定対象に対する高輝度単色X線の入射位置とを相対的に移動するための走査手段とを備える走査型プローブ顕微鏡とを有する。 (もっと読む)


【課題】適正な量子検出効率と高SN比を維持し、患者へのX線照射線量を抑制したデジタル放射線像形成組立体を得る。
【解決手段】高適合性画像形成組立体は、入射放射線を受けかつ対応する光信号を放出するように構成された単体蛍光体フィルム10、単体蛍光体フィルム10に結合される電子装置12、着脱可能な電子強化層14で構成する。電子装置12は、単体蛍光体フィルム10から光信号を受信しかつ画像形成信号を生成する。単体蛍光体フィルム10は、シリコーン結合剤内に分散されたX線蛍光体粒子を含む。単体蛍光体フィルム10の厚さは、1mmより薄く、要件に応じて変える。 (もっと読む)


携帯型X線装置及び、その装置の使用方法を説明する。本装置は、統合的電気系統を動力源としたX線管を有する。本X線管は、5つからなる低密度で、高Z物質を含む絶縁体に保護されている。本装置はまた、統合的な表示構造を有する。これらの構造により、X線装置のサイズと重量が低減され、装置の携帯/可搬性が高められる。本X線装置はまた、構造的に装置に付属していないX線検出方法を有するため、奔走地のみで操作を行うことが可能となる。そのため、本X線装置はまた、デジタルX線カメラとしても使用することができる。ポータブルX線装置は、現場作業、遠隔操作など、携帯性が重要視される場合や、養護施設、在宅看護、または授業などの可動的操作を行う場合に、特に有用性を発揮する。本装置が特徴とする携帯性は、病棟や歯科医院など、複数の装置を各部屋に設置して使用するのではなく、単一のX線装置をデジタルX線カメラとして複数の場所で使用する場合に特に有用であるとされる。
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【課題】放射線透過撮像期間中の部品の動きが像の品質にマイナスの影響を及ぼさない程度に大きくないことを保証する方法を提供すること。
【解決手段】物体の放射線透過検査用システムは、物体の一方の側に位置する放射線源(16)と、物体のもう一方の側に位置する放射線検出器(18)とを含み、放射線検出器は放射線源(16)からの放射を受け取るように位置付けされている。少なくとも1つの動きセンサ(40)、(42)、(44)、(46)が、動きを検出するために、放射線検出器(18)、放射線源、または物体に関連づけられている。部品の動きの大きさが、予め設定された限界値と比較される。撮像プロセスは、どの動きの大きさも限界値未満であるときに行われる。 (もっと読む)


簡易な構成で2以上の異なる視点からの透過撮影画像を得ることの可能な透過撮影装置を提供することを目的とする。 ターゲット2aから放射線を照射する線源装置2と放射線検出体とを設け、これらターゲット2及び放射線検出体の間に試料を取り付ける試料テーブルを設ける。放射線検出体の検出面の中心部Pがこの中心部Pとターゲット2aとを結ぶ基準軸L1,L2にほぼ直交するように放射線検出体及びターゲット2aを配置する。放射線検出体が一対の第一、第二放射線検出体3,4よりなり、第一放射線検出体3はターゲット2aに対して駆動機構により遠近移動可能で且つ第二放射線検出体4よりもターゲット2aから離隔配置可能とする。線源装置2のターゲット2aが陰極2bに傾斜状に対向し、陰極2bを第二放射線検出体4側に配向するように線源装置2と第一、第二放射線検出体3,4を配置する。
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【課題】半導体基板を処理する方法及び装置、特に、半導体基板の処理に用いるための計測ツールを提供する。
【解決手段】本発明の1つの態様により、半導体基板を処理するための半導体基板処理装置及び方法が提供される。本方法は、表面と各形態が第1の座標系の第1のそれぞれの点でこの表面上に位置決めされたこの表面上の複数の形態とを有する半導体基板を準備する段階と、第2の座標系の第2のそれぞれの点で各形態の位置をプロットする段階と、第1及び第2の座標系の間の変換を発生させる段階とを含むことができる。変換を発生させる段階は、第1及び第2の座標系の間のオフセットを計算する段階する段階を含むことができる。オフセットを計算する段階は、第1の座標系の基準点と第2の座標系の基準点の間のオフセット距離を計算する段階、及び第1の座標系の軸線と第2の座標系の軸線の間のオフセット角度を計算する段階を含むことができる。 (もっと読む)


x線回折を利用した走査方法が開示される。この方法は、容器内の特定の物質によって回折されたx線を検出するよう光導電体x線変換層を有するフラットパネル検出器を用いて交通センターで容器内に特定の物質があるかどうかを検査する段階を有する。回折x線は、例えば波長分散回折及びエネルギ分散回折により種々の仕方で特性決定できる。
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【課題】 単結晶試料又は配向性が高い多結晶試料であっても、電子後方散乱回折像のコントラストを改善することができる方法を提供する。
【解決手段】 試料の観察領域以外の領域にイオンビームを照射して結晶性を劣化させた劣化領域を形成する(ステップS12)。その後、劣化領域における電子後方散乱回折像を撮像する(ステップS13)。さらに、試料の観察領域における電子後方散乱回折像を撮像する(ステップS14)。最後に、各回折像の間で、同一画素毎に回折強度の差を算出することにより回折像のコントラストを改善する(ステップS15)。 (もっと読む)


【課題】白色光・レーザ光、あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、検査に必要な各種条件を設定する際にその操作性効率を向上するめの技術を提供する。
【解決手段】回路パターンが形成された基板表面に光、あるいは光および荷電粒子線を照射する手段と、該基板から発生する信号を検出する手段と、検出手段により検出された信号を画像化して一時的に記憶する手段と、上記記憶された当該領域の画像を他の同一の回路パターンが形成された領域と比較する手段と、比較結果から回路パターン上の欠陥を判別する手段からなる回路パターンの検査装置であって、検査用および検査条件設定用の操作画面に操作内容あるいは入力内容を表示する画面領域とその画面を表す項目名を表示する手段を備えており、且つ該項目名は該操作画面領域で一体化して表示する。 (もっと読む)


【課題】ミラー電子を使った電子線式検査装置においては、ウェハ上で予備帯電された領域の境界が像となって現れてしまい、正しい検査ができなかった。また、予備帯電は検査と同時に行われるため、照射時間を長くする必要がある場合、ステージの移動速度を遅くせざるを得ず、検査速度が遅くなってしまっていた。
【解決手段】予備照射のビーム源とウェハとの間に、そのサイズが可変な開口を設け、その大きさの一辺をウェハのチップ列の幅と等しくなるように設定し、かつ、チップ列と垂直方向へのウェハの動きに合わせて、開口も移動するように制御する。また、ステージの移動速度を遅くすること無く、ウェハの検査時のステージ移動途中に十分なビーム照射ができるように、その開口をチップ列と平行な方向に大きくするよう設定できるようにした。 (もっと読む)


【目的】 電池に短絡を起こさせ得る金属不純物粒子の電極基板や正極電極板への存否を製造過程で検査できる電池の製造方法、及び、電極基板の製造方法を提供すること。
【構成】 アルカリ蓄電池100は、長尺状の電極基板150から形成された所定形状の正極電極板121を有する。その製造方法は、電極基板150にX線を照射して透過像を取得し、その透過像に基づいて、正極電位で溶解し負極電位で析出する金属からなる金属不純物粒子が、電極基板150に存在しているか否かを検知する不純物検知工程を備える。また、金属不純物粒子の存在が確認された場合に、粒子存在部分を示すマーキングを電極基板150に施すマーキング工程を備える。 (もっと読む)


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