【課題】高価な分光器を必要とせずに、特徴量を高精度に推定可能とする。
【解決手段】被検体の特定成分に関する特徴量を推定する特徴量推定装置は、波長帯域の相違する複数のバンド画像を分光スペクトルに変換するための分光推定パラメーターを保存する分光推定パラメーター保存部３６と、分光スペクトルを前記特徴量に変換するための検量処理パラメーターを保存する検量処理パラメーター保存部３８とを備える。さらに、特定成分に応じた所定の波長帯域を含む複数の波長帯域で前記被検体を撮影して得られるマルチバンド画像を取得するマルチバンド画像取得部と、前記分光推定パラメーターを用いて、マルチバンド画像から分光スペクトルを演算する分光推定部１６と、検量処理パラメーターを用いて、前記分光スペクトルから前記特徴量を演算する検量処理部１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射率の低い被計測物であっても輪郭を正確に計測することができる３次元計測装置を提供する。
【解決手段】
所定の波長領域を有する光を照射し被測定物で反射した反射光と基準反射光との干渉光の各波長の光強度を検出して分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行する制御手段を具備する３次元計測装置であって、被計測面が対物レンズの集光点位置と一致するように予め波形解析後の光強度のピーク位置と共焦点位置の対応をとっておき、制御手段はイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、対物レンズの集光点位置に対応する光強度を位置付け手段によって特定されたX、Y座標におけるZ座標の光強度としてメモリに保存し、該メモリに保存されたX、Y、Z座標に基づいて３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】高速に測定を行うことができるスペクトル計測装置を実現すること。
【解決手段】波長可変光源１０はＥｒドープ超短パルスレーザファイバー１１とＥＯＭ１２と偏波保持シングルモードファイバーを有し、パルス光の強度を変更することで出力される光ソリトンパルスの波長を掃引することができる。波長可変光源１０からの光ソリトンパルスは、櫛歯状分布ファイバー２０によって断熱ソリトンスペクトル圧縮され、スペクトルが狭窄化される。この狭窄化された光ソリトンパルスは試料７０を透過してフォトダイオード４０ａにより受光され、デジタルオシロスコープ５０によって光強度が計測される。この時間波形と、波長可変光源１０での波長掃引との関係から、試料７０の吸収スペクトルを計測することができる。 （もっと読む）

【課題】 信頼性を維持しつつ小型化を図ることができる分光器を提供する。
【解決手段】 分光器１は、導光部７が設けられたキャップ４と、ステム５と、を有するパッケージ２と、パッケージ２内においてステム５に支持された支持部材２９と、支持部材２９に支持された基板１１と、基板１１に搭載された光検出素子１２と、基板１１とステム５との間に配置され、導光部７から入射した光を分光すると共に光検出素子１２に反射する分光部１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】小型で持ち運びやすく、設置場所に制限されない装置が実現可能となる、ＰＤを用いた波長スペクトル検出方法を提案することにある。
【解決手段】任意の光の波長スペクトルφ（λ）を検出する方法であって、フォトダイオードの光電変換領域に前記任意の光を入射可能に構成するとともに前記任意の光の入射方向に電界を印加して光電流を生じさせるように構成し、前記任意の光の入射後若しくは遮断後における出力である光電流値の過渡応答Ｉ（ｔ）を検出し、この過渡応答Ｉ（t）に基づいて、前記任意の光の波長スペクトルφ（λ）を計算することにより求める。 （もっと読む）

【課題】波長分解能を上げ、測定可能な被検体の範囲を広げた測定装置とプラズマ処理装置の提供。
【解決手段】厚さＤのウエハＷの表面を反射した光とウエハＷの裏面を反射した光とを入射光として分光する回折格子１０４と、回折格子１０４により分光された光を受光し、受光した光のパワーを検出するフォトダイオードをアレイ状に複数設けたフォトダイオードアレイ１０８と、フォトダイオードアレイ１０８に取り付けられ、入力された電圧を力に変換する圧電素子２００と、を備え、フォトダイオードアレイ１０８は、圧電素子２００により変換された力によって前記アレイ方向の各フォトダイオードの幅ｄに対してｄ／ｍ（ｍは２以上の整数）の変位まで移動したとき、前記受光した光のパワーを検出する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定装置において、反射測定による測光に加え、少なくとも透過測定を含む他の測光を、迅速かつ高精度に行うことができるようにする。
【解決手段】基準光軸Ｏ_０に沿ってピンホール１５ｂから入射する光束を測光する分光器１５を有し、被測定試料Ｗからの光束を集光して測光を行う分光測定装置１であって、保持台部６ａと、チルトステージ６Ａおよびシフトステージ６Ｂと、集光光学系１３と、平行光束の測定光束を発生する光源ユニット１１、３と、対物光学系１７と、透過測定用偏向部５と、集光光学系１３を透過してピンホール１５ｂに向かう光束の光軸の基準光軸Ｏ_０に対するずれを観察する観察部１６と、を備え、測定光束に応じてチルトステージ６Ａおよびシフトステージ６Ｂまたは透過測定用偏向部５のチルトステージおよびシフトステージにより光軸を調整する構成とする。 （もっと読む）

【課題】入射光の入射制限角度を高精度に制御可能な光学センサー及び電子機器等を提供すること。
【解決手段】光学センサーは、受光素子（例えばフォトダイオード３０）と、受光素子の受光領域に対する入射光の入射角度を制限する角度制限フィルター４０と、を含む。入射光の波長をλとし、角度制限フィルターの高さをＲとし、角度制限フィルターの開口の幅をｄとする場合に、ｄ^２／λＲ≧２を満たす。 （もっと読む）

【課題】側壁にすき間領域があっても高精度に入射角度を制限可能な光学センサー及電子機器等を提供すること。
【解決手段】光学センサーは、半導体基板１０上に形成された、フォトダイオード用の不純物領域３０と、フォトダイオードの受光領域に対する入射光の入射角度を制限する角度制限フィルター４０と、を含む。角度制限フィルター４０は、少なくとも、第１の絶縁層に対応する第１のプラグと、第１の絶縁層よりも上層の第２の絶縁層に対応する第２のプラグにより形成される。第１のプラグと第２のプラグの間には、すき間間隔ｂがλ／２以下のすき間領域がある。 （もっと読む）

【課題】被測定光の分光特性をより短時間かつ高精度に測定可能な分光特性測定方法および分光特性測定装置を提供する。
【解決手段】分光特性測定方法は、第１の波長範囲に検出感度を有する分光測定器に対して、その波長範囲が第１の波長範囲の一部である第２の波長範囲となっている光を入射させるステップと、分光測定器で検出された第１のスペクトルのうち第２の波長範囲以外の範囲に対応する部分から迷光成分を示す特性情報を取得するステップと、特性情報を第１の波長範囲のうち第２の波長範囲まで外挿処理することで、分光測定器に生じる迷光成分を示すパターンを取得するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】光路長差を伸縮させるために低価格の駆動装置を用いながらも、高精度なインターフェログラムを得ることができる分光特性測定装置及び分光特性測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の分光特性測定装置は、被測定物Ｓの測定点から発せられた光を対物レンズ２によって固定ミラー部１６１、可動ミラー部１６２に導き、これらミラー部１６１、１６２によって反射された光を結像レンズ１８によって同一点に導く。制御部２２は可動ミラー部１６２を繰り返し移動、停止させて固定ミラー部１６１、可動ミラー部１６１によって反射された光の光路長差を間欠的に伸縮させる。処理部２４は、前記可動ミラー部１６２が各停止位置にあるときに同一点に導かれた光の強度を検出し、これら光強度とそのときの光路長差の値から補間して複数の等間隔の光路長差における光強度を求め、この光強度に基づきインターフェログラムを作成する。 （もっと読む）

【課題】外乱による信頼性の低下を抑えた分光特性測定装置とその制御方法、分光特性測定方法、及び光路長差伸縮機構を提供する。
【解決手段】本発明は、被測定物の測定点から多様な方向に向かって発せられた光を一つにまとめた後、分割光学系によって第１反射部と第２反射部に導き、前記第１反射部と前記第２反射部の相対位置に影響を及ぼす外乱を推定し、該外乱を解消するように前記第１反射部と前記第２反射部の少なくとも一方を移動させることにより前記第１反射部によって反射された第１反射光と前記第２反射部によって反射された第２反射光の光路長差を伸縮させつつ、前記第１反射光と前記第２反射光を結像光学系によって同一点に導き、その点の干渉光強度変化に基づき前記被測定物の測定点のインターフェログラムを求め、このインターフェログラムをフーリエ変換することによりスペクトルを取得する。 （もっと読む）

【課題】広視野分光イメージングを行う場合であっても高精度に分光特性を測定することができる分光特性測定装置及びその校正方法を提供する。
【解決手段】測定モードでは被測定物の各輝点から発せられた光を分割光学系を通して第１及び第２反射部に入射させ、そこで反射された光を結像光学系によって干渉像を形成する。第１反射部を移動させることにより分割光学系から第１及び第２反射部を経て結像光学系に向かう第１及び第２反射光の間の相対的な光路長差を伸縮させ、そのときの干渉像の光強度変化に基づき被測定物の各輝点のインターフェログラムを求める。校正モードでは、輝点から出射される所定波長λの光を分割光学系に入射させることにより、該輝点に対応する複数の干渉像を形成させ、そのときの光強度変化に基づき該光強度変化の１周期に対応する第１反射部の移動量を求め、輝点の波長λ、第１反射部の移動量、前記干渉像の画角θから前記第１反射部の設置角を求める。 （もっと読む）

【課題】分析時間が長くなることやデータの精度を低下させることなく、光電子増倍管を用いた非稼動の検出器の保護を行う。また、測定精度を保証するため光電子増倍管を用いた検出器に印加される印加電圧の監視を行う。
【解決手段】ＡＤ変換器を増やすことなく、暗信号の安定待機時間中に、電圧を印加された光電子増倍管によって異常な出力を検知したときに光電子増倍管の電源をオフにする。また、測定信号安定待機時間中に、光電子増倍管を用いた検出器に印加される電圧の測定を行う。 （もっと読む）

【課題】光分析装置に組み込んだ際にＳ／Ｎ比を高くできて高精度の測定を行うことができる波長可変干渉フィルター、光モジュールと、高精度の測定を行うことができる光分析装置を提供すること。
【解決手段】波長可変干渉フィルターであるエタロン５は、第１基板５１と、第２基板５２と、固定ミラー５４と、可動ミラー５５と、静電アクチュエーター５６を備える。各ミラー５４，５５は、一層のＴｉＯ_２膜５７と、一層の合金膜５８とが積層されて形成される。ＴｉＯ_２膜５７の膜厚寸法ＴおよびＡｇ合金膜５８の膜厚寸法Ｓは、参照波長５６０ｎｍの反射率が目標反射率９１％となり、かつ、設定波長４００ｎｍの反射率が、前記金属膜のみで反射膜を構成した場合より低くなる膜厚に設定される。 （もっと読む）

【課題】可動基板をエッチングする際の深さ寸法のばらつきを抑制し、保持部の厚み寸法の精度を向上できる干渉フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の干渉フィルターの製造方法は、固定基板と、可動部５２１および保持部５２２を備えた可動基板５２と、固定反射膜と、可動反射膜５７と、を備える干渉フィルターの製造方法であって、固定基板を製造する固定基板製造工程と、可動基板５２を製造する可動基板製造工程と、固定基板と可動基板５２とを接合する基板接合工程と、を備え、前記可動基板製造工程は、第一母材５２４Ａおよび第二母材５２５Ａを、プラズマ重合膜５２６Ｃを介して接合させる母材接合工程と、プラズマ重合膜５２６Ｃをエッチングストッパーとして、第二母材５２５Ａをエッチングして、保持部５２２を形成する保持部形成工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高コストを招くことなく、対象物からの反射光の波長スペクトルを精度良く高速に計測することができる分光計測装置を提供する。
【解決手段】 光源ユニット、マイクロレンズアレイ、開口部材、結像光学系、回折素子、受光器、及び処理装置などを有している。受光器は、ＴＤＩ型の受光素子であり、回折素子からの回折像が、その回折方向がＸＹ面内でＸ軸方向に対して角度θ傾斜した状態で受光される。処理装置は、回折像の傾斜角θに応じて、画素データの時間情報を補正した（ステップＳ４１３）後、画素データの補間処理を行う（ステップＳ４１５）。そして、処理装置は、時間情報の補正及び補間処理がなされたデータセットに基づいて反射光波長スペクトルの推定演算を行う（ステップＳ４１７）。 （もっと読む）

【課題】高さが異なる面を有する微小な構造体を製造する。
【解決手段】基板の上方に感光性材料層を形成する工程（ｂ）と、感光性材料層の上方にマスクを配置する工程（ｃ）と、感光性材料層のうち、第１の領域以外の部分をマスクによって遮光しながら、第１の領域を露光する工程（ｄ）と、マスクを感光性材料層の面に沿って移動する工程（ｅ）と、感光性材料層のうち、第１の領域の一部である第２領域と、第２領域に接し、工程（ｄ）で遮光された領域の一部である第３の領域以外の部分をマスクによって遮光しながら、第２の領域と第３領域を露光する工程（ｆ）と、感光性材料層を現像することにより、マスクの移動方向に沿って高さが異なる面を感光性材料層に形成する工程（ｇ）と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で電極間の導通を可能にする波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供すること。
【解決手段】エタロン５は、固定基板５１と、固定基板５１に対向する可動基板５２とを備える。固定基板５１は、接合膜５３１，５３２を介して可動基板５２に接合される第１接合面５１５と、第１電極５６１の一部が形成される第１電極面５１６とを備える。可動基板５２は、接合膜５３１，５３２を介して第１接合面５１５に接合される第２接合面５２４と、第２電極５６２の一部が形成される第２電極面５２５とを備える。固定基板５１及び可動基板５２が接合膜５３１，５３２により接合された状態において、第１電極面５１６に形成された第１電極５６１と、第２電極面５２５に形成された第２電極５６２とが接触する （もっと読む）

【課題】 小型化を図り、ウェハプロセスによって容易に大量生産することのできる分光モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】 表面２ａから入射した光を透過させる光透過部２，３と、光透過部２，３の凸曲面３ａ上に設けられ、光透過部２，３を透過した光を分光して表面２ａ側に反射する分光部と、表面２ａ側に設けられ、分光部によって分光されて反射された光を検出する光検出素子７と、を備える分光モジュール１の製造方法は、凸曲面３ａに、回折層４を形成するための材料を配置し、材料にモールドを当接させ、材料を硬化させることにより、凸曲面３ａに沿って回折層４を形成する工程と、回折層４の表面に反射層６を形成することにより、分光部を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）