【課題】基板の欠陥を検査する際に、検査レシピを効率よく更新する。
【解決手段】ウェハを撮像して基準画像を取得し（工程Ｓ１）、当該基準画像を含む検査レシピを記憶部に記憶する（工程Ｓ３）。検査レシピに基づいてウェハを撮像して検査対象画像を取得し（工程Ｓ４）、検査レシピと検査対象画像に基づいてウェハの欠陥を検査する（工程Ｓ１０）。検査対象画像や検査結果等を含むレシピを記憶部に記憶する（工程Ｓ１１）。工程Ｓ４〜Ｓ１１を繰り返し行い、記憶部に所定の条件を満たす検査対象画像が記憶された際、当該検査対象画像を含むレシピに基づいて記憶部に記憶された前記検査レシピを更新する（工程Ｓ１２）。以後、更新された検査レシピに基づいて工程Ｓ４〜Ｓ１１が行われ、ウェハの欠陥が検される。 （もっと読む）

【課題】照明条件、もしくは検出条件の異なる検査結果を統合することで、ノイズやNuisance欠陥と真の欠陥を高精度に判別することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置であって、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、該複数の画像データから検出された欠陥候補の情報を統合して、欠陥とノイズを判別する検査後処理部とを有する画像処理部を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の欠陥を自動的に分類するための教師データを作成する方法およびこれを用いた欠陥分類方法ならびに装置において、再現性、客観性に優れた教師データを提供するとともに、該教師データの作成におけるオペレータの負荷を軽減する。
【解決手段】収集した欠陥画像データの中から、複数の分類カテゴリに対して少なくとも１つ、当該カテゴリの典型例としての教師画像の教示のみオペレータが行う（ステップＳ２０２）。ホストコンピュータは、各欠陥画像の特徴量を算出し（ステップＳ２０３）、特徴量空間における教師画像とのユークリッド距離に応じて各欠陥画像を仮分類する（ステップＳ２０４）。そして、仮分類された各欠陥画像をアンサンブル分類器を用いて再分類し（ステップＳ２０５〜Ｓ２０９）、順次分類を確定させてゆく。 （もっと読む）

【課題】少ない学習用のサンプルで最適な良否判定基準を定めることを可能とした官能検査装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】特徴量空間の原点からマハラノビス距離に分布する初期サンプルを用いて、良否判定基準となる良否判定の境界線を学習することにより、境界付近の初期サンプルのみを用いて学習することができるため、少ない学習用のサンプルで最適な良否判定基準を定めることができる。また、擬似サンプルを用いて学習する際に、誤判定をした擬似サンプルに重み付けを付加することにより、新たに擬似サンプルを追加することなく、機械的な判定工程において、誤判定をした擬似サンプルの判定を再度行うことができるため、少ない学習用のサンプルで最適な良否判定基準を定めることができる。 （もっと読む）

【課題】チューブのような筒状体の搬送効率を低下させることなく、筒状体の内部について精密な品質検査を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】内部検査装置１は、搬送されるチューブ１０に対して撮像ユニット６を用いてチューブ１０の内部を撮像し、撮像された画像からチューブ１０の内部についての品質を検査する。チューブ１０は、これを水平に寝かされた姿勢で支持部材１４に支持されており、軸線方向でみた開口の向きと高さ方向でみた軸線の位置が一様に揃えられている。撮像を開始する前にチューブ１０は、位置決め機構４を用いてチューブ１０の開口の位置が揃えられる。ボアスコープ３４は、チューブ１０の開口から内部へ向けて軸線に沿って移動しながらチューブ１０の内面を撮像する。撮像して得られた画像に基づき、チューブ１０の内面についての品質を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】 タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、検査の安定化および高精度化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 制御部１２は、タイヤ回転方向に直交する方向のラインごとに、取込画像の各画素の濃度を、各画素が含まれるライン上の平均濃度に変換して、濃度射影変換する。次に、濃度射影変換が行われた画像に対して、タイヤの回転方向のラインのうちの１つのライン上の画素について、フーリエ展開する。フーリエ展開された周波数成分からコード露出帯域の周波数成分を除いた残余の周波数成分を逆フーリエ展開し、逆フーリエ展開手段によって求めた逆フーリエ変換濃度と濃度射影変換によって求めた射影変換濃度との差分濃度を求め、差分濃度について、周期性があればコード露出と判定し、周期性がなければ刻印文字と判定して、コード露出欠陥検出処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 画像中のブラダーグルーブを検出し、検出したブラダーグルーブを画像中から除去する画像処理方法、画像処理装置、画像処理プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 画像処理方法は、濃度射影変換工程と、フーリエ展開工程と、周期算出工程と、逆フーリエ展開工程と、出力工程とを含む。濃度射影変換工程では、第１画像に第１方向の濃度射影変換を行って第２画像を作成する。フーリエ展開工程では、第２画像中の第２方向に並ぶ画素の濃度値をフーリエ展開する。周期算出工程では、第１画像中の線状模様の第２方向の周期を算出する。逆フーリエ展開工程では、フーリエ展開された周波数成分から、線状模様の周期を表す周波数成分を除去し、残余の周波数成分を逆フーリエ展開して第３画像を作成する。出力工程では、逆フーリエ展開工程で作成された第３画像を表す除去済画像情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ表面の膜の端部の高さを精度よく測定可能な検査方法を提供する。
【解決手段】ステージによりウェハを略水平に支持した状態で、高さ検出器によりウェハの平面部の高さ位置を検出するステップＳ１０１と、上ベベル部に位置する膜の端部に合焦させた状態で、撮像部により膜の端部を撮像するステップＳ１０２と、データ処理部により、ステップＳ１０２で撮像した膜の端部の画像に基づいて膜の端部の高さ位置を検出し、ステップＳ１０１で検出した平面部の高さ位置と膜の端部の高さ位置との差から、ウェハの平面部に対する膜の端部の降下量を求めるステップＳ１０３とを有している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、印刷物の印刷状態の良否を判定する処理の効率性を向上させることを目的とする。
【解決手段】印刷装置は、複数の印刷媒体に同一の画像を印刷する印刷部と、複数の印刷媒体に印刷された画像をそれぞれ読み取る読取部と、読取部により読み取られた画像をそれぞれ記憶する記憶部と、印刷部により画像が印刷された印刷媒体の所定の枚数ごとに、読取部により読み取られた画像と、予め設定されている比較画像とを比較して印刷媒体に印刷された画像の印刷状態を判定し、画像の印刷状態が悪いと判定すると、記憶部に記憶されている画像を用いて、判定をおこなった画像より時間的に前に印刷部により印刷された画像について印刷状態の良否を判定する判定部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の電極ピンを有する部品を対象にした検査領域の設定データの作成処理を高速化する。
【解決手段】処理対象の部品２０１を含む領域内の基準画像を表示して、部品本体に対応する領域３０を指定する操作を受け付けた後に、指定枠３２を用いた指定を受け付ける。ユーザは、一番端の電極ピンから３本目までの電極ピンが含まれるように指定枠３２の幅を調整し、指定枠３２の外側の辺をランドの先端位置に合わせる。指定が完了すると、指定枠３２に対応する範囲の基準画像から電極ピンおよびランドが抽出されて、これらの配置に関する規則が特定される。さらに、特定された規則や領域３０に基づいて、個々の電極ピンに対応する検査領域Ｓ１１，Ｓ２１，Ｓ３１，Ｓ４１や、撮像対象領域の割り付けの基準となる検査領域Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４などが設定される。 （もっと読む）

【課題】半導体製造において、複数のプロセス条件や検証レイアウトパターン作成方法の間で、仕上がりパターンがどのように異なるかを検証する。
【解決手段】設計レイアウトパターン又は検証レイアウトパターンを基に仕上がりパターンを予測する仕上りパターン予測手段２と、仕上がり予測パターンの輪郭を多角形化する仕上り予測パターン多角形化手段３と、設計レイアウトパターン又は基準レイアウトパターンを基に検査用基準パターンを作成する検査用基準パターン作成手段６と、多角形化された仕上り予測パターンと上記検査用基準パターンとを比較することにより仕上がりパターンのパターン歪を検出するパターン歪検出手段８とを備え、複数の光学条件、及び／又は、複数のパターン形成プロセス条件について仕上りパターン予測手段２により複数の仕上がり予測パターン５を求め、複数の仕上がり予測パターンの差から仕上がり予測パターンの寸法変動幅８を得る。 （もっと読む）

【課題】検査対象の位置決めの装置を用いずに，また多量のテンプレートを用いたマッチング処理を行わずに，精度の高い外観検査を実現する。
【解決手段】外観検査制御装置１０において，テンプレート情報記憶部１１には，正規化用リファレンス画像と，検査用リファレンス画像とがあらかじめ登録されている。検査対象画像正規化部１５は，第１段階で，低解像度の検査対象画像と，低解像度の正規化用リファレンス画像とのマッチング結果に基づいて，検査対象画像を正規化する。検査対象画像正規化部１５は，第２段階で，第１段階で正規化された検査対象画像と，本来の解像度の正規化用リファレンス画像とのマッチング結果に基づいて，第１段階で正規化された検査対象画像をさらに正規化する。検査部１６は，２段階に正規化された検査対象画像に対して，検査用リファレンス画像を用いた検査を行う。 （もっと読む）

【課題】エッチングや印刷のムラによりメッシュ幅の太さの変化に影響されずに正確な欠陥抽出を行うことが可能なメッシュ検査装置を提供する。
【解決手段】メッシュ検査装置１の処理部３は、ラインセンサ５からメッシュシート１０のメッシュが画像に写る分解能で画像を入力し、前処理として光源である白色ＬＥＤ照明７によるシェーディングの補正を行い、前処理した画像を平滑化し、欠陥を誤検出しない程度に画像をぼかす。平滑化した画像内でしきい値により欠陥を抽出し、抽出した欠陥の重心を中心に例えば１２８×１２８画素を平滑化前の画像からトリミングする。トリミングした画像のＦＦＴ画像でメッシュの空間周波数に相当する領域を０に置き換えてメッシュ周波数を除去した後、ＩＦＦＴ処理を施し、得られた画像から欠陥の輝度、形状、面積の判定を行い、結果を出力する。 （もっと読む）

【課題】 １台のコントローラで、各画像処理を所定の処理手順と同期させて実行しつつ、撮像の取りこぼしを防ぐための撮像禁止期間をなくす。
【解決手段】 画像処理ユニットには、計測ユニットと撮像ユニットが含まれており、画像処理ユニットの処理手順を規定する画像処理プログラムに基づいて、処理手順に沿って各画像処理ユニットが順次実行される画像処理装置において、所定の撮像手段（カメラ３０ａ〜カメラ３０ｃのいずれか）から画像データが得られるときに成立する複数種類の撮像完了条件を記憶しており、撮像ユニットの処理内容として、画像データが所定の撮像手段から得られるものであるかを識別し、複数種類の撮像完了条件のうちいずれかが成立しているかを判定し、成立していると判定した撮像完了条件に対応付けられた計測ユニットの実行に用いる画像データに対して割り当て処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】反射性表面を有する対象物をほぼ自動的に迅速に検査する方法および装置を提案する。
【解決手段】一方向（４６）に分配した多数の表面点（５４，５８，６２）を備える対象物（２６）の表面（２８）を光学的に検査するための装置は、明暗パターン（１６ａ，１６ｂ）を生成するパターン生成器（１２）と、それぞれ１つの表面部分（５２，５６，６０）のみを示す画像（ａ〜ｆ）を撮影するカメラ（３２）と、カメラに対して所定方向（４６）に対象物を移動させ、表面点を連続的に検出する加工物収容部（２０）と、パターン生成器、加工物収容部およびカメラを制御し、明暗パターンと共に表面点を撮影する制御・評価ユニット（３４）とを備える。関連した時系列で、パターン生成器は異なる明暗パターンを準備し、カメラは常に同じ表面点に向けられ、明暗パターンは同じ周期（２４）の強度分布（２２）を備え、配列の３つの明暗パターンは、異なる位相位置で配置された同じ強度分布を有する。 （もっと読む）

【課題】露光用マスク上に存在する位相欠陥の表面形状を効率的に測定することができ、露光用マスクの生産効率向上に寄与する。
【解決手段】露光用マスク上に存在する位相欠陥の形状を測定する方法であって、マスクに検査光を入射し、位相欠陥上における散乱領域の幅を予測可能な角度範囲に散乱する光の強度を測定する第１ステップ（Ｓ２）と、測定された散乱光強度から位相欠陥の径を算出する第２ステップ（Ｓ３）と、測定する散乱光の角度範囲を変更し、散乱光強度を測定する第３ステップ（Ｓ４，Ｓ５）と、得られた散乱光強度から散乱断面積を算出する第４ステップと、第３及び第４ステップを散乱光強度が飽和するまで繰り返す第５ステップ（Ｓ６，Ｓ７）と、第２ステップで得られた位相欠陥の径と第４ステップで得られた各散乱断面積を用いて位相欠陥の形状を決定する第６ステップ（Ｓ８）とを含む。 （もっと読む）

【課題】ブレードを撮像した画像におけるブレードの領域を検出することができる画像処理装置およびプログラムを提供する。
【解決手段】ＣＰＵ３４ｃは、ジェットエンジン内に周期的に配置されたブレードを撮像した動画像を構成するブレード画像からテンプレート画像を抽出し、ブレード画像から、テンプレート画像に対して所定のフレーム数だけ離れた参照画像を抽出する。ＣＰＵ３４ｃは、テンプレート画像と参照画像との差分を抽出し、その差分に基づいてブレード領域を検出する。 （もっと読む）

【課題】
周期構造物の構造を早くかつ正確に把握する方法を提供する。
【解決手段】
仮想周期構造物を設定して、前記設定された仮想周期構造物を多数の層に分けて、リープマン−シュウィンガー積分方程式をＭ次内挿法で離散化させて前記仮想周期構造物に対する反射率または透過率に対する物理量を計算する工程を含む、周期構造物分析方法に対するもので、Ｍ次内挿法を用いてより早い時間内により正確な非破壊検査ができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単結晶の複数個の欠陥を重複せずに分離してカウントし、かつ、同一の欠陥の複数回カウントを回避することにより高精度に欠陥密度を測定する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶の観察面をエッチングして個々の欠陥にエッチピットを形成し、エッチピットの立体形状に関する数値データを用いて欠陥密度を測定する方法であって、
観察面からの深さのしきい値で２値化することによりエッチピットを分離する操作を、該しきい値を段階的に増加させながら複数回繰り返すことを特徴とし、かつ、エッチピットの深さとエッチピット間の距離との比によりエッチピットを統合する処理を付加し、更にその際に、各エッチピットについてそのエッチピットの最終回のデータのみを残しそれ以前のデータは消去して、各エッチピットの２値化処理データを寄せ集めることを特徴とする単結晶の欠陥密度測定方法。 （もっと読む）

ウェーハ欠陥検査のための方法は、検査ターゲットを提供することと、検査ターゲットに少なくとも１つの欠陥検査強化を加えることと、少なくとも１つの検査強化を含む検査ターゲットを照射して検査ターゲットの１つまたは複数の特徴と関連づけられた１つまたは複数の検査信号を生成することと、検査信号を検出することと、検査信号から１つまたは複数の検査パラメータを生成することとを含み得るが、これらに限定されない。検査ターゲットは、少なくとも１つの検査層および少なくとも１つの検査強化層を含むが、これに限定されない。 （もっと読む）