【課題】 簡単な構成で測定対象の吸収係数と散乱係数を同時に計測することが可能な計測方法及び計測装置を提供すること。
【解決手段】 光源１０と、試料３０を透過した光をアパーチャ２２を介して受光する受光部４２とを含む。受光部４２は、アパーチャ２２の径を第１の径ｄ１としたときに受光した透過直進光の強度Ｉ_ｏを検出し、また、アパーチャ２２の径を第２の径ｄ２としたときに受光した透過直進光と前方散乱光を合わせた光の強度Ｉ_ｏ＋Ｉ_ｓを検出する。試料３０に入射する光の強度Ｉ_ｉと透過直進光の強度Ｉ_ｏと透過直進光と前方散乱光を合わせた光の強度Ｉ_ｏ＋Ｉ_ｓとに基づいて、試料３０の吸収係数及び散乱係数を算出する演算処理を行う。 （もっと読む）

【課題】Ｓ／Ｎ比を効果的に向上させる。
【解決手段】本発明の光熱変換測定装置は、所定の周波数で光強度が変化する励起光Ｌ１１を試料Ｓに照射する第１光照射部１１と、試料Ｓに測定光Ｌ２１を照射する第２光照射部１２と、試料Ｓを通った測定光Ｌ２１を検出する光検出器１３と、光検出器１３と第２光照射部１２との間の光路に設けられ、所定の偏光状態の光を光検出器１３へ向かう光路から遮断する偏光素子１４と、偏光素子１４に入射する測定光Ｌ２１の偏光状態を調整する偏光調整部１５と、励起光Ｌ１１の光強度が極小である期間に偏光調整部１５に入射した測定光Ｌ２１が所定の偏光状態になるように偏光調整部１５と第１光照射部１１とを所定の周波数で同期制御する制御部１６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ガラス製の部材やプラスチック製の部材の品質安定化のためには、屈折率の分布を高精度に測定する必要があるが、従来の測定方法では、破壊検査であったり、有毒物を使用したり、平面でしか測れないといった課題がある。
【解決手段】光センサで得られた干渉信号に基づいて、被検物なしの基準反射面と、被検物の表面と、被検物の裏面と、被検物を透過後の基準反射面および被検物の手前で集光し平行光で反射する基準反射面の少なくとも一方との、それぞれの距離を測定し、これらの測定距離に基づいて被検物の屈折率を算出する。 （もっと読む）

【課題】 半導体リソグラフィー装置の光学系に用いるレンズ、プリズム、窓材等の真空紫外光を透過させて使用するフッ化カルシウム単結晶中の亜鉛不純物濃度を簡便に高精度で評価する。
【解決手段】 フッ化カルシウム単結晶の透過スペクトルを測定し、前記透過スペクトルにおける、亜鉛不純物濃度を評価するための基準透過率となる吸収波長を、該透過スペクトルにおける吸収波長が１２０〜２００ｎｍの範囲から決定し、該吸収波長の変化により、前記フッ化カルシウム単結晶中の亜鉛不純物濃度を決決定する。この方法により高度な分析技術の必要なＩＣＰ質量分析等の精密化学分析に比べて、非破壊で、短時間かつ簡便に亜鉛不純物濃度を評価することができる。 （もっと読む）

【課題】従来技術とは異なる手法によってテラヘルツ時間領域分光法を行い、テラヘルツ波の時間波形に関する情報を取得するための装置の提供。
【解決手段】テラヘルツ波が発生部11で発生してから、このテラヘルツ波の波形情報として検出部12で検出されるまでの時間を変えるための遅延部14を有する。遅延部14は、発生部11により発生したテラヘルツ波の伝播距離を変えるように構成される。発生部11により発生したテラヘルツ波ごとに、検出部12で検出されたテラヘルツ波の波形情報と伝播距離とを関連付ける。電磁波発生位置で発生する電磁波のパルスを発生させるタイミングを決めるパルス周波数と、電磁波検出位置に伝播してきた電磁波を取り込むタイミングを決めるサンプリング周波数との比がn:1（nは1以上の自然数）になっている。 （もっと読む）

【課題】 キャビティリングダウン分光計およびプロセッサを含むシステムが提供される。
【解決手段】 該分光計は、電磁スペクトルのテラヘルツ領域における１つ以上の選択可能な送信周波数の各々で変調済み連続波電磁信号をキャビティ共振器に通過させるように構成されている。該分光計は、該キャビティ共振器によって、該キャビティ共振器の単一共振モードを励起するように構成されている送信機を含む。該プロセッサは、該変調済み電磁信号の該通過部分の測定値を受信し、該測定値に基づいて該変調済み電磁信号の位相シフトを決定するように構成されている。該プロセッサは、該位相シフトの関数として該キャビティ共振器のリングダウンタイムを計算するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】量子効率の測定時における再励起（二次励起）に起因する誤差を低減できる量子効率測定方法、量子効率測定装置、およびそれに向けられた積分器を提供する。
【解決手段】本実施の形態に従う光学測定装置は、分光測定器５０と、測定対象の光を伝搬するための入射側ファイバ２０と、内壁に光拡散反射層１ａを有する半球部１と、半球部１の開口部を塞ぐように配置された、半球部１の内壁側に鏡面反射層２ａを有する平面部２とを含む。平面部２は、入射側ファイバ２０を通じて射出される光を半球部１と平面部２とにより形成される積分空間内へ導くための入射窓５と、出射窓６を通じて積分空間内の光を分光測定器５０へ伝搬するための出射側ファイバ３０を含む。 （もっと読む）

【課題】性状に大きな分布を有する微粒子群を測定対象とした場合に、微粒子群中の個々の粒子の各種特性特に、粒子の明度を簡易かつ確実に識別することが可能な明度識別方法を提供する。
【解決手段】不透明な微粒子の明度を識別する明度識別方法において、複数の微粒子からなる識別対象微粒子群からの透過光を撮像した画像と、識別対象微粒子群中の各粒子の位置関係及び撮像範囲を透過光の撮像の場合と同様に設定して微粒子からの反射光のうちで特定波長領域内の反射光のみを撮像した画像と、を所定の方法で対応付けることで、識別対象微粒子群中の各粒子の明度を識別する。 （もっと読む）

【課題】試料上の同一の観察位置に対して、テラヘルツ波観察と可視光観察とを同時、または、短時間のうちに行うことができる観察装置を提供する。
【解決手段】観察装置１は、電気光学結晶６と、試料Ａに向けてテラヘルツ波Ｌ_２を照射し、試料Ａを透過するテラヘルツ波Ｌ_２を電気光学結晶６に結像させるテラヘルツ波照射光学系４と、電気光学結晶６に向けて近赤外光Ｌ_１を照射する近赤外光照射光学系５と、電気光学結晶６を透過することによって状態変化した近赤外光Ｌ_１を検出する近赤外光検出系７と、励起光Ｌ_３の照射により試料Ａで発生した蛍光を検出する蛍光検出光学系９とを備える。テラヘルツ波Ｌ_２の照射領域と近赤外光Ｌ_１照射領域は、少なくとも一部が電気光学結晶６内で重なり、蛍光検出光学系９は、試料Ａ上のテラヘルツ波Ｌ_２が照射された領域と少なくとも一部が重なった領域から出射した蛍光を検出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】屈折率センサーを利用して液体の成分濃度を測定する濃度測定装置であって、設置場所に拘わらず、周囲の機器類の影響を受けることなく、一層高精度に濃度を測定可能な液体の濃度測定装置を提供する。
【解決手段】液体の濃度測定装置は、屈折率センサー１により液体の屈折率を測定し、屈折率に基づいて液体の成分濃度を検出する濃度測定装置であり、屈折率センサー１は、Ｆｅ−Ｎｉ合金で構成されたケーシング６に収容され、屈折率センサー１が外部の磁界から遮蔽されている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも裏側に高濃度ドープ層を有するシリコンウエハの厚さを測定する装置を提供する。
【解決手段】装置３４は，複数波長のコーヒレントな光を放射する光源２を有する。また，本装置は，シリコンウエハと非接触に配置され，シリコンウエハの少なくとも一部を複数波長のコーヒレントな光によって照射し，シリコンウエハからの反射光の少なくとも一部を受光する測定ヘッド３を含む。さらに，本装置は，分光器５，ビームスプリッター，及び評価装置６を含む。評価装置は，シリコンウエハからの反射光を，光コーヒレンストモグラフィー法により分析することで，シリコンウエハの厚さを測定する。コーヒレントな光は，中央波長Ｗ_Ｃを有する帯域幅ｂの複数波長で放射される。シリコンウエハの高濃度ドープ層の光吸収率を最少とする波長は，帯域幅ｂ内に存在する範囲である。 （もっと読む）

【課題】半導体のような試料の表面特性を測定するためのシステムに関し、自己較正機能を備えたエリプソメータを提供する。
【解決手段】照会用放射ビーム１１を試料２０に照射する前および後に、前記ビームの偏光を変調するために２つの位相変調器または偏光要素が用いられる。試料からの変調放射が検出され、検出された信号から解析器２６までの高調波が導出する。解析器２６までの高調波は、固定偏光要素、円形減衰補償、偏光要素の偏光解消および位相変調器のリターダンスなどのエリプソメトリックパラメータおよびシステムパラメータを導出するために用い得る。自己較正エリプソメータならびに組合わせシステムは、膜厚および試料により引き起こされた放射の偏光解消さなどの試料特性を測定するために用い得る。 （もっと読む）

【課題】被測定試料のハーゼン単位色数、ヨウ素色数またはガードナー色数などの色指数（インデックス）を、前記被測定試料の光学的特性から求めるにあたって、任意の温度で色指数の判定を可能にするとともに、本来の目視による比色結果との整合性を持たせる。
【解決手段】前記光学的特性と前記色指数（インデックス）との関係を記憶した検量線を、複数の温度で取得しておく。したがって、作成温度が異なる複数の検量線を選択的に用い、適宜補間などを行うことで、任意の温度で色指数の判定を行えるようになり、利便性を向上することができ、また本来の目視による比色結果との整合性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】大型化及び作業性を低下させることなく、高い画像品質を維持することができる画像形成装置を提供する。
【解決手段】 反射型光学センサは、１１個の発光部及び１１個の受光部などを備えている。プリンタ制御装置は、第１の基準受光量Ｄｓ１、第２の基準受光量Ｄｓ２、及びそれぞれ０以上で１以下の係数αとβを用いて、矩形パターン毎に、該矩形パターンで反射された光を受光した受光部の受光量をα×Ｄｓ１＋β×Ｄｓ２で表し、該矩形パターンで反射された光を受光した受光部の受光量の実測値と、第１の基準受光量Ｄｓ１と、第２の基準受光量Ｄｓ２とから係数αと係数βを同時に算出する（ステップＳ４１９）。 （もっと読む）

【課題】 半導体露光装置の光学系に用いるレンズ、窓材、プリズムなどの真空紫外光を透過させて使用するフッ化カルシウムなどのフッ化金属単結晶のレーザー耐久性を、短時間且つ簡単で高精度に評価する。
【解決手段】 エックス線又はガンマ線照射の照射によりフッ化金属単結晶に色中心を生成させ、該照射前後の光透過率の変化によりレーザー耐久性を評価する方法において、エックス線又はガンマ線照射後の光透過率の測定前に、紫外線及び／又は真空紫外線照射を行なうことで、短時間に変化する色中心を除去し、残ったほとんど変化がない色中心だけを測定する。これにより測定誤差を大幅に低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 光弾性測定方法の測定信号にかかる変調信号の強度が微弱なので、複屈折の２乗の信号成分と微弱な信号のかかった１乗（１次）の項からなる高周波成分の複屈折とでは、前者の方が大きい。２乗の成分の複屈折と高周波成分の微弱な複屈折から検出する為、複屈折の検出精度が悪くなっている。
【解決手段】 測定信号の２乗を基礎とした複屈折の上にその１乗に比例した微弱な複屈折が重畳している複屈折の内、該２乗を基礎とした複屈折を除去する手段を備え、１乗に比例した複屈折を用いて応力や歪みなどの物理量に変換して精度良く測定をおこなう。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】基板表面に形成した薄膜の物性を非破壊かつ高精度で測定することができる物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラムを提供する。
【解決手段】基板Ｋ表面に形成された薄膜Ｈの物性を測定する物性測定装置において、テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生源と、基板Ｋ表面に薄膜Ｈが形成された成膜領域Ｆ及び該基板Ｋ表面に薄膜Ｈが形成されていない非成膜領域Ｎに、テラヘルツ波発生源からのテラヘルツ波が照射されるように、基板Ｋ及び薄膜Ｈを移動する移動手段と、成膜領域Ｆ及び非成膜領域Ｎからの透過波又は反射波の電場強度を複数回検出する検出手段と、検出手段が複数回検出した透過波又は反射波の電場強度を積算する積算手段と、積算手段が積算した透過波又は反射波の電場強度の時間変化を測定する測定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明はチタンホワイトの生産過程で灰色変化点を判断する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の方法は、含チタン溶液の透光度の変化を測定することによって加水分解含チタン溶液の灰色変化点を判断することを特徴とする、チタンホワイトの生産過程で灰色変化点を判断する方法である。本発明では、加水分解含チタン溶液の透光度の急降下する転換点又は加水分解含チタン溶液の透光度の一次導関数の極値点が含チタン溶液の灰色変化点であることが好ましい。 （もっと読む）