【課題】 手間無く、詳細な診断を行うことができる。
【解決手段】 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で二次元的に走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検眼眼底の三次元断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された三次元断層像に基づいて眼底上の走査位置に関して互いに近接する複数の断層像を抽出し、抽出された複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】受光素子１画素程度の微小領域ごとに領域分割された偏光フィルタ層や分光フィルタ層を積層した構造を実現することを課題とする。
【解決手段】画像センサ２０６の前段に配置される光学フィルタは、特定方向の偏光成分Ｐのみを選択して透過させる鉛直偏光領域と該特定方向とは異なる方向の偏光成分Ｓのみを選択して透過させる水平偏光領域とが撮像画素単位で領域分割された偏光フィルタ層２２２と、赤色波長帯の光のみを選択して透過させる赤色分光領域と波長選択を行わずに光を透過させる非分光領域とが撮像画素単位で領域分割された分光フィルタ層２２３とを、光透過方向に積層した構成を有し、積層方向下側に位置する偏光フィルタ層の積層方向上面の凹凸を充填材２２４で充填して平坦化した後に分光フィルタ層を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】振動環境下において干渉縞の振動を抑制して、精度良く検査対象物中の内部欠陥を検出すること。
【解決手段】検査対象物Ｍの表面に衝撃波を生じさせる加熱用レーザー１と、前記衝撃波を検出する検出用レーザー２を備える。この検出用レーザー２は、第一検出用レーザー２ａと第二検出用レーザー２ｂに分岐され、両検出用レーザー２ａ、２ｂは、検査対象物Ｍの異なる位置にそれぞれ照射される。また、第一検出用レーザー２ａ照射位置に加熱用レーザー１が照射される。検査対象物Ｍと測定装置が相対的に振動しても、両検出用レーザー２ａ、２ｂがともに検査対象物Ｍに照射されるため、前記振動が相殺されて、両検出用レーザー２ａ、２ｂによって形成された干渉縞が変位することなく安定する。このため、前記衝撃波に伴う干渉縞の変位を精度良く測定することができ、検査対象物Ｍ中の内部欠陥Ｖを高感度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 手間無く、詳細な診断を行うことができる。
【解決手段】 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光の眼底での反射光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検眼眼底の断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された複数の断層像を処理して断層像の解析結果を取得する解析処理手段と、解析処理手段によって取得された解析結果に関する所定の基準の下に複数の断層像を並び換え、並び換えられた複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】細胞種間の差異を知識ベースで発見および最適化するための方法および装置を提供する。特に視覚的サーボ制御光学顕微鏡および分析方法を提供する。
【解決手段】数百個の別々の生細胞を経時的に詳しくモニターする手段；多チャネルにおける動的生理学的反応の定量化；リアルタイムのデジタル画像分割および分析；インテリジェントなかつ繰り返しの、コンピュータ印加による細胞ストレスおよび細胞刺激；ならびに、長期的な研究および観察のための細胞が同じ視野に戻る能力を有するシステム。さらに、細胞の特定部分母集団（subpopulation）のために培養条件を最適化する手段を有するシステム。 （もっと読む）

【課題】画像化可能な深度範囲の拡大を低コストで実現可能な光画像形成方法を提供する。
【解決手段】光画像形成装置４００は、ＦＤ−ＯＣＴを用いて対象物の断層像を形成する装置であり、スキャンステップと、検出ステップと、画像形成ステップとを実行する。スキャンステップでは、信号光と参照光との間の位相差をあらかじめ設定された２つの位相差に交互に変更しながら対象物を信号光でスキャンする。検出ステップでは、対象物を経由した信号光と参照光との干渉光を検出する。画像形成ステップは、スキャンに伴い検出ステップで逐次に得られた複数の干渉光の検出結果に基づいて対象物の断層像を形成する。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ測定時間が短い光断層画像測定装置および光断層画像測定システムを提供することを課題とする。
【解決手段】光源２から入射された光を、参照光と、信号光と、に分割するする光分割手段１１と、測定対象物３から反射された反射信号光を複数の反射信号光に分割する光分割手段３４と、参照光を、反射信号光の分割数と同じ数の参照光に分割する光分割手段２１と、分割された参照光および反射信号光のそれぞれを合波することによって、分割された参照光および反射信号光に対応する干渉光を生成する光合波手段４１と、波長スペクトルをそれぞれの干渉光から取得し、取得したそれぞれの波長スペクトルをフーリエ変換する解析手段５３と、を有し、分割された参照光または反射信号光におけるそれぞれの光路の長さが、異なるよう固定されている光路長変化部１０１を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱膨張による光導入面及び光導出面の間の拡縮を防止する。
【解決手段】被測定液が流れる流路５が内部に形成されたセルブロック６と、流路５に設けられてセルブロック６の外部からの光を流路に導入する光導入面７と、流路５において光導入面７に対向して設けられて流路５を通過した光をセルブロック６の外部に導出する光導出面８と、セルブロック６を対向方向から押圧する押圧機構１６と、光導入面７及び光導出面８の間に設けられたスペーサ１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】 安定した観察画像を得ることができる光イメージング用プローブを提供する。
【解決手段】 中心軸回りに回転するロータ２を有する回転駆動源と、前記ロータ２を該ロータの軸方向の両側で回転自在に支持する回転支持部材３，４と、前記ロータ２及び前記回転支持部材３，４に対し軸方向へ挿通された光ファイバ５と、前記光ファイバ５により導かれる光の方向を前記軸方向に対して略交差方向へ変換するように、前記ロータ２の一端側に支持された光路変換素子８と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】光学素子の厚み測定を不要としつつ高い精度で光学素子の屈折率を測定する。
【解決手段】屈折率測定装置２０は、被検光と参照光とを互いに干渉させる光学系であり、被検光の光路内に被検光学素子の設置が可能で、かつ被検光および参照光のうち一方の光路長を変更する光路長変更手段３を含む干渉光学系とともに用いられる。該装置は、被検光および参照光の波長帯域に含まれる互いに異なる第１の波長と第２の波長のそれぞれにおいて、光路内に設置された被検光学素子を透過した被検光と参照光とが干渉するときの光路長変更手段３の干渉設定値と、被検光学素子が光路から取り除かれた状態で被検光と参照光とが干渉するときの干渉設定値との差を求める。そして、第１の波長における上記差、第２の波長における上記差および被検光学素子の分散を用いて被検光学素子の屈折率を算出する。 （もっと読む）

【課題】 光コヒーレンス断層撮影システムを提供する。
【解決手段】 光線を放射する光源、検出装置、光遅延装置、焦点調節装置、及び前記光線を第１参照光線と第１サンプル光線とに分けるビームスプリッターを含み、前記第１参照光線は、前記光遅延装置に入射され、前記第１サンプル光線は、前記焦点調節装置に入射され、サンプルに焦点が合わせられ、且つ前記光遅延装置から反射された第２参照光線及び前記サンプルから反射された第２サンプル光線は、前記ビームスプリッターを通過して前記検出装置に入射され、第一次元に沿った前記第２参照光線の異なる部分は、異なる光路長を有する光断層撮影システム。 （もっと読む）

【課題】 光干渉断層診断装置において、キャリブレーション作業後にフラッシュ液の選定に誤りがあったことに気づいた場合であっても、既存データと新たに選択したフラッシュ液の屈折率とから、計算によって自動的に再キャリブレーションあるいは再画像構築を行うことで、作業時間を短くし患者へかかる負担を少なくする。
【解決手段】 フラッシュ液の選択を行い（Ｓ１０１）、その選択されたフラッシュ液の屈折率を用いたキャリブレーションを行う（Ｓ１０２）。この後、選択したフラッシュ液に誤りがあって、正しいフラッシュ液を再選択の指示があった場合（Ｓ１０３）、従前に選択されたフラッシュ液の屈折率に対する再選択されたフラッシュ液の屈折率に基づくオフセット値を算出し、当該オフセット値に従い参照光の光路長を自動調整する（Ｓ１０４）。 （もっと読む）

【課題】浮動基準法に基づいて、レーザー光を用いて無侵襲にて人体成分を測定する方法を提供する。
【解決手段】浮動基準法に基づいて求められる各人の最適測定値Mと浮動基準値Cを求めるにあたり、レーザー干渉技術を用い、各人の最適測定値の光学距離と浮動基準値の光学距離を見合う各ビート周波数を選択し、それに基づき散乱光の中から特定の光束を選択的に測定し、測定される測定値と基準値とにより生物組織の特定部位に対する人体成分の検出を実現する。 （もっと読む）

【課題】広い波長帯域の測定光を用いて縦分解能に優れた断層画像の提供を行う。
【解決手段】光干渉断層装置において、光源から出射された光を参照光と測定光に分割する手段と、分散特性が異なる第一の分散補償手段と第二の分散補償手段と、前記測定光を被測定検体に照射することによる戻り光と、前記第一の分散補償手段及び前記第二の分散補償手段とを透過した前記参照光とを干渉させて干渉光を得る手段と、前記干渉光に基づき、前記被測定検体の断層像を取得する手段と、を有することとする。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶のような周期構造部を有する装置を用いて、電磁波の周波数や装置構成を調節することが可能な測定装置を提供し、被測定物の測定を高感度に再現性良く行うこと。
【解決手段】平板状の周期的構造体１１，１２のギャップ部２に被測定物を保持し、上記周期的構造体を透過した電磁波を検出し、上記周期的構造体で分散した電磁波の周波数特性もしくは位相特性が上記被測定物の存在により変化することに基づいて被測定物の特性を測定する測定装置であって、上記周期的構造体は、平板形状の高屈折率層１１ａ，１２ａと平板状の低屈折率層１１ｂ，１２ｂとが交互に積層されてなることにより複素誘電率が周期的に変化する第１周期構造部１１および第２周期構造部１２が、被測定物を配置するためのギャップ部を介して平行に配置されている。 （もっと読む）

【課題】光干渉断層撮像装置において、評価領域によって画質評価指標を切り替える。脈絡膜に着目した診断で主に行われるEDI撮像では、網膜断層像の輝度値が低い部分が多いために画質評価指標が小さくなり、正確な評価が出来ないという課題がある。
【解決手段】光源から出射された光を参照光と測定光に分割し、測定光を被測定検体に照射し、その戻り光と参照光とを干渉させ、被測定検体の画像を取得する光干渉断層撮像装置において、画像の撮像条件を設定する手段と、撮像条件に応じて画質評価指標を選択する手段と、設定された撮像条件に応じて撮像された画像から特徴量を取得する手段と、特徴量と画質評価指標に基づいて画像の画質を評価する手段とを有する事。 （もっと読む）

【課題】波長可変ダイオードレーザ吸収分光法（TDLAS）の実現の問題点を克服する。
【解決手段】選択されたレーザ発振周波数を有する２つ以上のダイオードレーザ１２の出力に光学結合されたマルチプレクサ１６が、ピッチ側の光ファイバに光学結合される。多重化レーザ光が、プロセスチャンバ２２に関連付けられたピッチ光学部品２０にピッチ側光ファイバを通して伝送される。ピッチ光学部品２０は、プロセスチャンバの中を通して多重化レーザ出力を放射するように方向配置される。キャッチ光学部品２４が、放射された多重化レーザ出力を受け取る。キャッチ光学部品２４は、デマルチプレクサ２８に多重化レーザ出力を伝送する光ファイバに光学結合される。デマルチプレクサ２８はレーザ光を逆多重化し、光の選択されたレーザ発振周波数を検出器２５に光学結合し、この検出器は、選択されたレーザ発振周波数の１つに対し感度を有する。 （もっと読む）

【課題】濃度センサの取り付け誤差の影響を正反射成分及び乱反射成分の２つに分けて取り除けるようにすると共に、画像の濃度を高精度に検知できるようにする。
【解決手段】ベルト素面に測定光Ｌ０を照射して正反射成分の反射光Ｌｐ及び乱反射成分の反射光Ｌｓを受光し、反射光Ｌｐ，Ｌｓを各々光電変換して２成分のＰ波検知信号Ｓｐ及びＳ波検知信号Ｓｓを出力する濃度センサ７１と、ベルト素面と濃度センサ７１の取り付け面との間の離隔距離を測定して測距検知信号Ｓ８２を出力する測距センサ８２と、この測距検知信号Ｓ８２に基づいてベルト素面に対する濃度センサ７１の取り付け誤差を算出し、ベルト素面の濃度値に対する濃度検知電圧をプロットした正反射及び乱反射成分の電圧検知特性を各々作成する演算部７０７とを備える。濃度センサ７１の取り付け誤差に基づいて各々の電圧検知特性を補正し、第１及び第２のオフセット除去特性を作成するものである。 （もっと読む）

【課題】テラヘルツ波の反射波を利用して金属の腐食を防ぐための塗膜や半導体ウェーハのエピ層等の積層物中の欠陥（気泡）検査を行う際に測定対象物の位置合わせを容易に行えるテラヘルツ波を用いた検査装置及び検査方法。
【解決手段】第１レーザ光の照射によりテラヘルツ波を発振するテラヘルツ波発振アンテナ５、第２レーザ光に時間遅延を与える時間遅延機構７と、第２レーザ光に基づいた検出タイミングでテラヘルツ波を検出し、検出したテラヘルツ波の強度に応じた検出信号を生成するテラヘルツ波受信アンテナ８、測定対象物１００の位置と傾きとが所定の状態にあるか否かを検出する状態検出部、測定対象物の位置と傾きとが所定の状態にあり、時間遅延機構７で与えられる時間遅延を変化させた場合のテラヘルツ波受信アンテナで生成された検出信号に基づく時系列信号強度データのピーク値に基づいて測定対象物の欠陥の有無を検査する検査部部５４を備える。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコン太陽電池表面上に成膜された反射防止膜の膜厚および屈折率を有効に測定するためのエリプソメーター装置を得ること。
【解決手段】実施の形態にかかるエリプソメーター装置１０は、反射防止膜が形成された測定試料１の反射防止膜が形成された面へレーザー光を照射する光源５と、前記測定試料から反射された反射光に基づいて反射光の偏光変化量を測定することにより前記反射防止膜の膜厚および屈折率を測定する検出器６と、前記測定試料を試料設置面にて保持し、前記試料設置面と垂直な方向を軸にして前記測定試料を回転する回転角度調節部と、前記測定試料を傾斜させる傾斜調節部とを有するステージ２と、前記ステージをステージ設置面上に保持する支持部７と、を備える。 （もっと読む）