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Fターム[2G059LL01]の内容

光学的手段による材料の調査、分析 (110,381) | 光学系の特徴及び補助機能 (1,276) | 光軸合せ、焦点合せ、位置合せ、光路長設定 (719)

Fターム[2G059LL01]に分類される特許

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【課題】簡単な構成で、樹脂片の高さの測定可能な許容範囲を大幅に増大できて、大量評価が可能で、かつ作業環境を損なうことのない樹脂識別装置を得る。
【解決手段】この発明に係る樹脂識別装置は、樹脂片8に赤外光源1からの赤外線を照射し、樹脂片8からの反射あるいは乱反射された赤外線を検出器10で検出し、その検出結果に基づいて樹脂片8の種類を識別する、赤外分光光度計を用いた樹脂識別装置において、赤外光源1からの赤外線を受ける第1のミラーである、曲面ミラー部12a,12b,12c、赤外光源1と樹脂片8との光路の途中であって、焦点位置が樹脂片8の高さ方向で異なった位置に複数存在するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】臨床診断において散乱分析および吸光分析を行うための光学システムを提供する。
【解決手段】本発明の光学システムは、光路において光軸と平行な平行光を発するための光源と、少なくとも1つの試料把持位置を含む試料把持ユニットと、試料把持位置において光路上に配置されている試料を透過した光を測定する光学検出器とを含む。この光学システムはさらに調節可能な光角セレクタを含み、この光角セレクタは、散乱分析が行われている場合には、試料を透過し、かつ一定の値よりも大きな角度で光軸から発散する光が検出器に到達することを妨げるように調整される。またこの光角セレクタは、吸光分析が行われている場合には、試料を透過し、かつ一定の値よりも小さな角度で光軸から発散する光を検出器に到達させるように調整される。 (もっと読む)


【課題】マイクロチップを構成する基板の厚みにばらつきが存在する場合でも、観測結果に誤差が生じないようにするとともに、効率的かつ短時間で測定を可能とすること。
【解決手段】溝部が形成されている第1のマイクロチップ基板11と、金属薄膜13が成膜されている第2のマイクロチップ基板12とを接合したマイクロチップ10において、両側の側面に突出部16を形成し、その一方の面を第1、第2のマイクロチップ基板の接合面LLと同一平面とする。SPRセンサ装置は測定基準面Lが下面側に設定された試料固定部24を有し、この測定基準面Lにマイクロチップ10の突出部分16を押付けてマイクロチップ10を保持・固定する。このため、接合面LLは第2のマイクロチップ基板12の厚みのばらつきに左右されることなく測定基準面Lに一致し、金属薄膜13の裏面で反射した反射光のCCD受光面上での到達位置もばらつかない。 (もっと読む)


【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】プラズマ雰囲気の原子又は分子密度を吸光分光により測定する粒子密度測定プローブである。プラズマ雰囲気に設けられる円柱状の導光体20であって、その先端部13に、導光体を伝搬した光を反射する反射板14と、その反射板の手前に、導光体の長手方向に垂直な断面において一部の壁面が欠落した部分が長手方向に所定長だけ形成され、この部分を通過する光とプラズマ雰囲気の原子又は分子とが接触可能にしたプラズマ導入部15を有する。光伝搬体32は、プラズマ導入部15の手前に位置し側壁による全反射により光を軸方向に案内する。 (もっと読む)


【課題】構造色を呈する物体表面にも適用可能な、新たな光沢度の測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】サンプル表面に対して入射角φで測定光を照射し、散乱光強度の角度分布関数を測定し、前記散乱光強度の角度分布関数の散乱角に関する微分値に基づいて光沢度Gφを決定することを特徴とする光沢度の測定方法。 (もっと読む)


【課題】送受信器間に定在波が立つと被測定物の位置によって受信器で受信する電磁波の強度が異なるため、被測定物を透過した電磁波の強度を測定するだけでは被測定物に含有している所定の材料の含有量を精度よく計測することが難しい。
【解決手段】
受信器を定在波の波長λの1/2より長い距離に亘って移動しながら電磁波の強度の最大値などの規定値を測定し、予め採ってある検量データを用いて被測定物中に含まれる所定の材料の含有量を計測する。 (もっと読む)


【課題】OCTにおいて、広帯域の光の広い波長帯域に渡って、分散補償を行うのは困難である。
【解決手段】光源から照射された光を参照光と測定光とに分割し、測定光を被測定検体に照射し、当該被測定検体で反射された戻り光と参照光とを干渉させ、被測定検体の断層像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、参照光を、波長帯域ごとに複数の参照光に分割する参照光分割部と、複数の参照光のそれぞれを分散補償する分散補償部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】被検物の屈折率を短時間で高精度に計測すること
【解決手段】第1の媒質60と被検物50に光を入射させて第1の容器40内の第1の媒質と被検物の光路長の和Zを計測し、被検物を配置せずに第1の媒質に光を入射させて第1の容器内の第1の媒質の光路長Z10を計測し、第1の媒質とは異なる屈折率を有する第2の媒質61と被検物に光を入射させて第2の容器41内の第2の媒質と被検物の光路長の和Zを計測し、被検物を配置せずに第2の媒質に光を入射させて第2の容器内の第2の媒質の光路長Z20を計測する。Z、Z10、Z、Z20と、第1の容器の被検物を挟む面間隔Lと、第2の容器の被検物を挟む面間隔Lから被検物の屈折率を算出する。 (もっと読む)


【課題】安定的に干渉光を形成することができる干渉計と、干渉計を有する分光分析装置を提供する。
【解決手段】分光分析装置10では、光源11から出射された光が、光ファイバF1〜F28により伝送される。光源11から出射される光は、第1光ファイバF1で伝送され、第1ファイバカプラFC1で分岐される。分岐された各光は、固定鏡16及び可動鏡14で反射し、各鏡14,16で反射した反射光が、第6ファイバカプラFC6で合波されることで干渉光が生成される。光源11から第6ファイバカプラFC6までに存在する各ファイバカプラFC1〜FC6では、光源11からの光がクロスポートを2回ずつ通過し、ストレートポートを3回ずつ通過する。 (もっと読む)


【課題】較正用構造体を用いて較正を行うことによって血液成分測定装置の測定誤差をより一層低減し、測定精度の向上を図る。
【解決手段】較正用構造体10は、内部に光散乱体22を有した本体部24と、較正液26の充填されたフローセル28とを備え、前記フローセル28は、血液成分測定装置12の発光部18から照射される近赤外光を透過させる透過体40と、該透過体40に接続されるチューブ42とからなる。そして、透過部は、近赤外光の光路長が短い第1透過部44と、前記第1透過部44と接合され前記近赤外光の光路長が長い第2透過部46とを備え、較正用構造体10スライド変位させることによって発光部18に対する透過体40の位置を切り換える。 (もっと読む)


【課題】光干渉断層撮像装置において、簡便に画質を向上する。
【解決手段】本発明は、複数のフレームの信号を取得する第一の工程、前記複数のフレームの信号をフーリエ変換し、複素数のデータをそれぞれ得る第二の工程、前記それぞれの複素数のデータを用いて、前記複数のフレームの合成を行う第三の工程、前記合成したデータに基づき、断層画像を生成する第四の工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】迷光が他の測光部の受光部に入るのを防止し分析精度を確保して分析できる分析装置、分析方法および収容部材を提供する。
【解決手段】分析装置1は、特定成分の分離を行う分離流路21を有する少なくとも2つのマイクロチップ20と、分離流路21の両端に電圧を印加する電極と、マイクロチップ20の分離流路21に光を照射する、個々のマイクロチップ20に対応して備えられる照射用導光部および受光用導光部と、分析測定部40に形成されるマイクロチップ20の光経路相互の間にあって他のマイクロチップ20への光を遮る遮光壁42と、照射用導光部で照光した光量および受光用導光部で受光した光量を用いて測光し、マイクロチップ20で分離した特定成分を検出する検出部30と、を備える。 (もっと読む)


【課題】測定対象体の検出内部情報を取り出す際の深さ分解能を向上させることで計測精度を向上させ、且つ、光量効率を上げることができる内部情報計測装置を提供する。
【解決手段】光学的内部情報計測装置としての黄疸計は、測定ヘッドHdにおいて、被測定者の体表に平行に接触させる面を計測基準面FPに形成した計測窓WMの法線NLから傾斜した方向に、LED21,22から投光を行う。この光が体内の長光路LRおよび短光路SRを経由して体外へ出た複数の反射光を、受光素子PD1、PD2で個別に検出して、体内脂肪層PIのビリルビン濃度を算出する。斜め入射によって長光路LRと短光路SRとの深さ分布をシャープにすることが容易となり、深さ分解能が向上する。また、入射光の指向性を利用して光量効率を上げることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、テラヘルツ波を用いて物性の測定を行うテラヘルツ波測定装置およびテラヘルツ波測定方法に関する。
【解決手段】 本発明のテラヘルツ波測定装置は、本発明のテラヘルツ波測定装置は、パルスレーザーをポンプ光とプローブ光とに分割するビームスプリッターと、ポンプ光の入射によりテラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生器と、入射されたプローブ光から複数のパルスを生成するパルス列発生部と、パルス列をテラヘルツ波検出器に入射し、テラヘルツ波検出器に入射されたテラヘルツ波の電場の時間的変化を複数のパルスに基づいて測定するテラヘルツ波測定部とを備える、よう構成する。 (もっと読む)


【課題】測定の高速性を維持し、プロセスラインから発光部および受光部を取り外すことなく、安価に現場でのゼロ・スパン校正が可能なレーザガス分析計を実現する。
【解決手段】レーザガス分析計において、校正時の基準となる校正ガスが充填される校正セルと、発光部からのレーザ光を測定時にはプロセスラインに出射し、校正時には校正セルに出射する第1の光スイッチと、測定時にはプロセスラインを通過したレーザ光を受光部へ出射し、校正時には校正セルを通過したレーザ光を受光部へ出射する第2の光スイッチと、第1の光スイッチからのレーザ光をプロセスラインへ導く光ファイバーとプロセスラインを通過したレーザ光を第2の光スイッチへ導く光ファイバーを固定する第1の光ファイバー接続部と、第1の光スイッチからのレーザ光を校正セルへ導く光ファイバーと校正セルを通過したレーザ光を第2の光スイッチへ導く光ファイバーを固定する第2の光ファイバー接続部とを備える。 (もっと読む)


【課題】粉末試料の発光測定において、簡便に優れた測定精度が得られる発光測定方法、及びその発光測定に用いるホルダを提供する。
【解決手段】粉末試料60に励起光を照射した際に生じる発光を測定する方法であって、励起光および発光を吸収しない材料からなる一組のプレート42を用いて、該一組のプレート42で粉末試料60を挟んで圧着し、一枚のプレート状のプレート化試料40を形成するプレート化工程と、プレート化試料40を着脱自在に保持するホルダを、励起光の光路上から外れた位置に設けて、プレート化試料40の圧着面に励起光の光軸が交差するように、該プレート化試料40を設置する設置工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】 異なる撮影装置で得られる複数の画像から抽出される構造を表示する。
【解決手段】 画像取得部11が取得した断層画像に基づいて投影画像生成部12は深さ方向に垂直な面に投影した投影画像を生成する。患者データ確認部13は撮影された断層画像に対応する表面画像またはSLO画像を保存部30にて探索する。位置合わせ部14は断層画像と表面画像またはSLO画像の位置合わせを行う。解析部15は断層画像と表面画像またはSLO画像のそれぞれから血管等の構造を抽出する。表示画像作成部19は抽出結果を眼底の画像に重畳して表示するための画像データを作成する。表示部40は作成された画像データを表示する。 (もっと読む)


【課題】光プローブの取り回しが容易であり、且つ、回転ぶれがなく高品質な断層画像を取得できるようにする。
【解決手段】フレキシブルシャフト626の回転軸(シース620の長手軸)から径方向にシフトされた位置に光ファイバ628を並設するとともに、キャップ622に形成された凸部642と多面体ミラー624及びフレキシブルシャフト626に形成された凹部644を回転自在に嵌合することによって構成される回転軸規制手段を設けたことにより、シース620の先端部を短く構成できる。これによって、光プローブ600を容易に取り回すことが可能となるとともに、回転ぶれのない高精度な断層画像を取得することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 複数のビームにより同時に撮影するOCT装置では、ビーム毎に参照光路長の調整機構を持つ。そのため撮影する断層画像の深さが、ビーム毎に異なり、断層画像を並べて表示すると、断層画像毎に撮影した深さが異なり、操作者にとり断層画像間の位置関係がわかりにくい。
【解決手段】 複数のビームにより得られた断層画像を表示する際に、ビーム毎の参照光路長の調整値に基づき、表示位置を調整することで各断層画像の高さを揃え、操作者に断層画像間の位置関係がわかりやすい形で提示する。 (もっと読む)


【課題】単一の光伝導素子を用いたテラヘルツ波トランシーバにおいて、高感度にテラヘルツ波の信号を検出することである。
【解決手段】テラヘルツ波の発生と検出を行なうテラヘルツ波トランシーバは、単一の光伝導素子101と、バイアス印加部102と、電流検出部103と、電流引き込み部104を有する。光伝導素子は、光伝導膜106上で励起光照射領域109を介し対向配置される第1及び第2の電極107、108を備える。バイアス印加部は、第1及び第2電極の間に、励起光照射領域にテラヘルツ波を発生させるためのバイアスを印加する。電流検出部は、励起光照射領域から生じる電流のうち、テラヘルツ波の電界によるテラヘルツ波電流を検出する。電流引き込み部は、バイアス印加部から印加されたバイアスによる電流を引き込む。電流引き込み部は、引き込む電流の量を、バイアス印加部に印加されるバイアスの量を参照して決定する。 (もっと読む)


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