【課題】段差シリコン基板等に設けられた微細な有底の孔部や溝部における内壁面及び底面に対して、均一な被膜を高精度且つ容易に形成することができる被膜形成方法及びそれに用いるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本被膜形成方法は、［１］（ａ）開口部の面積が２５〜１００００μｍ^２であり且つ深さが１０〜２００μｍである孔部１１及び（ｂ）開口部の線幅が５〜２００μｍであり且つ深さが１０〜２００μｍである溝部１２のうちの少なくとも一方を有する段差基板１に、溶剤１３を塗布する溶剤塗布工程と、［２］ポジ型感光性樹脂組成物を、孔部１１及び溝部１２内の溶剤１３と接触するように、段差基板１に塗布する樹脂組成物塗布工程と、［３］塗膜１４を乾燥する乾燥工程と、を備えており、且つ、孔部１１並びに溝部１２における内壁面及び底面に樹脂成分を含む被膜１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】微細分散性と分散安定性とを有する顔料微粒子の分散組成物を用いて作製した、色特性が良好でコントラストの高いカラーフィルタ、及びそれを用いた優れた表示特性を示す液晶表示装置を提供する。
【解決手段】良溶媒に有機顔料を溶解した溶液と該良溶媒に相溶する前記有機顔料の貧溶媒とを混合することにより形成した有機顔料粒子を含む顔料分散組成物と、グラフト型高分子化合物とを含有する画素を有して成るカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される高分子化合物〔Ｒ^１：（ｍ＋ｎ）価の有機連結基；Ｒ^２：単結合あるいは２価の有機連結基；Ａ^１：フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基（ｎ個のＡ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい）；ｍ：１〜８；ｎ：２〜９；ｍ＋ｎ：３〜１０；Ｐ^１：高分子骨格（ｍ個のＰ^１は、同一であっても、異なっていてもよい）〕。


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【課題】
現像処理した後ウエハ周辺部を、現像液やイソプロピルアルコールのようなアルコール類の溶剤でリンスしても、ウエハ周辺部に異物が付着している。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、被加工層を有する半導体ウエハの表面上方に、周辺部を除いて、レジスト膜を塗布し、塗布したレジスト膜にパターンを露光し、潜像を形成し、潜像を形成したレジスト膜を現像し、現像後の半導体ウエハの周辺部にシンナを供給し、クリーニングした後、現像したレジスト膜を用いて半導体ウエハの被加工層に加工処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】光重合開始剤をより幅広く選択し輝度の高い優れた青色画素を形成し得る青色カラーフィルタ用感放射線性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）青色着色剤を含有してなる着色剤と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｃ）多官能性単量体と、（Ｄ）下記式（３）で表される化合物、オキシムエステル系化合物及びビイミダゾール系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる光重合開始剤と、（Ｅ）フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びイオウ系酸化防止剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる酸化防止剤とを含む青色カラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物。
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【課題】本発明は、着色感光性樹脂組成物並びにかかる着色感光性樹脂組成物を使用したカラーフィルター及び液晶表示ディスプレイを提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）リン酸エステル化合物及び（Ｄ）着色剤を含有する感光性樹脂組成物による。特に、（Ｃ）リン酸エステル化合物が、一般式（１）
Ｏ＝Ｐ（ＯＲ^１）（ＯＲ^２）（ＯＲ^３） （１）
［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシアルキル基、及び炭素数６〜２０のアリール基からなる群から選択される。］で表される化合物又はその縮合物である感光性樹脂組成物による。 （もっと読む）

【課題】高イミド化率を有する感光性ドライフィルム、感光性積層フィルムおよびそれらを用いた樹脂パターンを提供する。
【解決手段】特定の可塑剤を添加した感光性樹脂組成物を用いた、感光性ドライフィルム、感光性積層フィルムおよびそれらを用いた、樹脂パターン。 （もっと読む）

【課題】高イミド化率を有する感光性ドライフィルム、およびそれらを用いた積層フィルム、樹脂パターンを提供する。
【解決手段】特定の可塑剤を添加した感光性樹脂組成物を用いた、感光性ドライフィルム、およびそれらを用いた積層フィルム、樹脂パターン。 （もっと読む）

【課題】反りを低減する効果を有するポリアミド樹脂組成物、感光性ポリアミド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するポリアミド樹脂を含む樹脂組成を用いた、感光性ドライフィルム、感光性積層フィルム、樹脂パターン。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置用カラーフィルタの着色層の顔料由来の成分の液晶への溶出（耐液晶性）を改善し、液晶の比抵抗の低下を抑制し、表示品質を良好に保つ電圧保持率を確保するカラーフィルタ。
【解決手段】青色着色層中に顔料としてＰＢ１５：１、１５：２、１５：３、１５：４を１種以上を含有し、又はＰＢ１５：１、１５：２、１５：３、１５：４を１種以上とＰＶ２３を含有し、ＰＢ１５：１、１５：２、１５：３、１５：４の総重量をＢ、ＰＶ２３の重量をＶとするとき、Ｂ／Ｖが１００／０〜７５／２５であること。Ｂ／Ｖが８８／１２〜８０／２０であること。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物からなる所定の厚みの感光性樹脂組成物層１を形成する工程と、感光性樹脂組成物層１が光の照射された露光部１ａと、光の照射されていない未露光部１ｂとを有するように、かつ露光部１ａの厚みが未露光部１ｂの厚みよりも相対的に薄くなるように、感光性樹脂組成物層１を部分的に露光する工程と、露光後、現像を行わずに、露光部１ａ及び未露光部１ｂの感光性樹脂組成物層１を焼成する工程とを備えるパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単一波長のレーザー光でコンタクトコピーを試みても、体積ホログラムの模倣を困難とする体積ホログラム積層体および簡易な工程で製造できるその製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】本発明の体積ホログラム積層体は、基材上に部分的に樹脂層が設けられると共に、該樹脂層上に隣接し、かつ前記基材上に体積ホログラム層が積層された体積ホログラム積層体であって、前記樹脂層には体積ホログラムが形成されると共に、体積ホログラム積層体における樹脂層が設けられた部分と樹脂層が設けられていない部分とで再生中心波長が相違するものである。 （もっと読む）

【課題】集積回路製造のための上塗りのフォトレジスト層と共に使用されるのに有用な反射防止コーティング組成物の提供。
【解決手段】第１の態様では、有機コーティング組成物が提供され、特にはスピンオン反射防止コーティング組成物であって、ポリエステル樹脂成分を有するものが提供される。さらなる態様においては、多ヒドロキシ化合物の重合により得られる樹脂成分を含むコーティング組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】光透過率およびコントラスト比が高い画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）塩素が２〜６個および臭素が１０〜１４個含まれる亜鉛フタロシアニン顔料、（Ｂ）（ｂ１）（メタ）アクリル酸と、（ｂ２）Ｎ−位置換マレイミドと、（ｂ３）特定のスチレン誘導体、特定の（メタ）アクリレート誘導体、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群の単独または２種以上の混合物を含む、該（ｂ１）成分および（ｂ２）成分以外の重合性不飽和化合物との共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 導体層転写シート２２によれば、感光性導体ペースト１８は転写支持体１２の一面にビヒクル層１０を介して塗着されていることから、所定のパターンの導体層１８を形成するための露光および現像時において、必ずしも十分な露光・現像性能を必要とせず、感光性樹脂、重合開始剤等の樹脂成分である樹脂量の少ない導体ペーストを用いることができる。したがって、感光性導体ペースト１８中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題が生じない。 （もっと読む）

【課題】新規な光ラジカル重合開始剤、光硬化性組成物、及び感光性レジストを提供する。
【解決手段】 式（Ｉ）で表される、光ラジカル重合開始剤。


（式（Ｉ）中、Ａは環状脂肪族炭化水素基、芳香環を有する基、又は複素環を有する基を表し、Ｒ１は鎖状又は環状脂肪族炭化水素基、芳香環を有する基、スチレン系ポリマー又は共役ジエン系ポリマーを表し、Ｒ２は水素原子、鎖状又は環状脂肪族炭化水素基、芳香環を有する基、アニオン重合ポリマー、又はリビングラジカル重合ポリマーを表す。） （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、下層膜１０２は、フッ素系の界面活性剤又は無機のナノパーティクルを添加物として含み、酸素系プラズマに対する耐性が付与されている。 （もっと読む）

【課題】緑色レーザのみならず青色レーザを用いたホログラフィックメモリ記録においても、多重記録特性に優れ、且つ、経時安定性に優れた体積型ホログラム記録に適したホログラム記録材料、及びホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】金属化合物微粒子と光重合性化合物とを少なくとも含むホログラム記録材料であって、前記金属化合物微粒子として、金属原子と有機基と酸素原子とを含み、金属原子と有機基の炭素原子との直接結合（金属−炭素結合）と、酸素原子を介した金属原子同士の結合（金属−酸素−金属）とを有する有機金属微粒子を含み、且つ 前記金属化合物微粒子同士は互いに架橋されていない、ホログラム記録材料。ホログラム記録材料層２１を有するホログラム記録媒体１１。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できる樹脂、及びレジスト組成物、ならびに半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）


で表されるモノマー単位を有するフォトレジスト用高分子化合物。 更に、前記高分子化合物が、重合温度に制御された溶媒中へモノマー溶液及び重合開始剤溶液を添加しながら重合することを特徴とする前記記載のフォトレジスト用高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】臭素イオンの溶出量が少なく、液晶表示装置に用いた場合に液晶汚染が少なく、表示ムラが発生しにくいカラーフィルタ用感光性樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）樹脂バインダー、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）着色剤及び（Ｅ）溶剤を含有するカラーフィルタ用感光性着色組成物であって、前記（Ｂ）樹脂バインダーは、メラミン樹脂と、イソシアネート基を含有する化合物及び／又は酸無水物とを反応させてなる熱硬化性樹脂を含み、前記（Ｄ）着色剤は、少なくとも塩素化及び臭素化した金属フタロシアニン又は臭素化した金属フタロシアニンを含有し、該感光性着色組成物の硬化物をＮ−メチルピロリドンで溶出したときの臭素イオンが１０ｎｇ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）