高分子化合物及びその製造方法、樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
【課題】高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される高分子化合物〔Ｒ１：（ｍ＋ｎ）価の有機連結基；Ｒ２：単結合あるいは２価の有機連結基；Ａ１：フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基（ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい）；ｍ：１〜８；ｎ：２〜９；ｍ＋ｎ：３〜１０；Ｐ１：高分子骨格（ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい）〕。
【解決手段】下記一般式（１）で表される高分子化合物〔Ｒ１：（ｍ＋ｎ）価の有機連結基；Ｒ２：単結合あるいは２価の有機連結基；Ａ１：フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基（ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい）；ｍ：１〜８；ｎ：２〜９；ｍ＋ｎ：３〜１０；Ｐ１：高分子骨格（ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい）〕。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な高分子化合物及びその製造方法、樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
【０００３】
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法はいずれも、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる点で共通している。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題もある。
【０００４】
これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。
【０００５】
前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。
【０００６】
上記に関連して、例えば、フルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光性樹脂及び有機溶剤を含有するコーティング用組成物に関する開示がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、ヘキサフルオロプロピレンなどのビニル系単量体とエステル基を３以上持つ他のビニル系単量体との共重合体を含む組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。また、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、及び感光体を含有するレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００４−２７３３号公報
【特許文献２】特開平３−２４４６０４号公報
【特許文献３】特開２００５−３１５９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の重合体の配合割合からなる組成物、特許文献２に記載の共重合体を含む組成物では、撥水・撥油性が不足する。また、特許文献３に記載のビニル系重合体では、現像液耐性及び現像時の密着性が不足する。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、下記目的を達成することを課題とする。
本発明は、高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物及び該高分子化合物を工業的に有利に製造できる製造方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、高い撥水性及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することを目的とする。また、
本発明は、撥水性及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその製造方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、ポリマー末端に、３つ以上のフッ素原子を有する構造あるいは官能基を導入することが、撥水性及び撥インク性の向上に有効であること、さらにはポリマー末端への複数の前記構造あるいは官能基の導入には、多官能のメルカプタン化合物の利用が合成の容易化および撥インク部位の局在化が可能となる点で有用であるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
【００１１】
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（１）で表される高分子化合物である。
【００１２】
【化１】
【００１３】
式中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００１４】
＜２＞ 下記一般式（２）で表されることを特徴とする＜１＞に記載の高分子化合物である。
【００１５】
【化２】
【００１６】
式中、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基を表す。ｎ個のＡ２、Ｒ４は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ２は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ２、Ｒ５は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。
【００１７】
＜３＞ ＜１＞又は＜２＞に記載の高分子化合物を製造する方法であって、下記一般式（３）で表される化合物存在下で、ラジカル重合反応を行なうことを特徴とする高分子化合物の製造方法である。
【００１８】
【化３】
【００１９】
式中、Ｒ６は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ７は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ３は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ３、Ｒ７は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
【００２０】
＜４＞ ＜１＞又は＜２＞に記載の高分子化合物を含有する樹脂組成物である。
＜５＞ 開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする＜４＞に記載の樹脂組成物である。
＜６＞ 仮支持体上に、＜５＞に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料である。
【００２１】
＜７＞ 基板の少なくとも一方の面に、＜５＞に記載の樹脂組成物又は＜６＞に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像により得られた感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を有する離画壁の製造方法である。
【００２２】
＜８＞ ＜７＞に記載の離画壁の製造方法より製造された離画壁である。
＜９＞ ＜８＞に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法である。
＜１０＞ 前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行うことを特徴とする＜９＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１１＞ ＜９＞又は＜１０＞に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタである。
＜１２＞ ＜１１＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物及び該高分子化合物を工業的に有利に製造できる製造方法を提供することができる。また、
本発明によれば、高い撥水性及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することができる。また、
本発明によれば、撥水性及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその製造方法を提供することができる。さらに、
本発明によれば、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の高分子化合物及びその製造方法、感光性樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、カラーフィルタ、並びに表示装置について詳細に説明する。
【００２５】
＜高分子化合物＞
本発明の高分子化合物は、下記一般式（１）で表される高分子化合物である。下記一般式（１）で表される高分子化合物は、ポリマーの末端に、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を複数有するので、フッ素化合物の有機溶媒中でのミセル形成性に優れていたり、塗布液中の分散性、安定性に優れていたり、充分な撥インク性を有していたり、様々な特徴を有する。例えば有機素材をはじく、特にインクジェットカラーフィルター用の撥インク素材として好適に用いることができる。
【００２６】
【化４】
【００２７】
前記一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１はフッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００２８】
前記一般式（１）中、Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含む１価の有機基を表す。前記Ａ１は、ＣＦ３基を有する１価の有機基であることがより好ましい。
また、前記Ａ１は、フルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を有することが好ましく、フルオロアルキル基を有することがより好ましい。
【００２９】
前記フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基（以下、「ペンタフルオロエチル基」ともいう）、ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基がより好ましく、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が特に好ましい。
また、前記フルオロアルキル基としては、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００３０】
前記Ａ１において、前記「フッ素原子を３つ以上有する部位」以外の部位としては、２価の有機連結鎖が好ましく、２価の有機連結鎖としては、アルキレン鎖、アリーレン鎖、エステル鎖、アミド鎖、エーテル鎖、から選ばれる一つ又はこれらを組み合わせた２価の有機連結鎖が好ましい。
前記アルキレン鎖としては、総炭素数１〜２０のアルキレン鎖が好ましく、総炭素数１〜１０のアルキレン鎖がより好ましい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、ドデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。これらは、分岐／環状構造を有していてもよく、官能基を有していてもよい。中でも、メチレン基、エチレン基、オクチレン基が好ましい。
前記アリーレン鎖としては、総炭総数６〜２０のアリーレン鎖が好ましく、総炭総数６〜１２のアリーレン鎖がより好ましい。
具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基などが挙げられる。これらは分岐、官能基を有していてもよい。中でも、フェニレン基、ビフェニレン基が好ましい。
【００３１】
前記一般式（１）中、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。ｎ個のＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
２価の有機連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
【００３２】
前記２価の有機連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される基を挙げることができる。
【００３３】
【化５】
【００３４】
Ｒ２としては、単結合、あるいは、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が好ましく、単結合、あるいは、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基がより好ましく、単結合、あるいは、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が特に好ましい。
【００３５】
上記のうち、２価の有機連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。
【００３６】
前記一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
【００３７】
前記（ｍ＋ｎ）価の有機連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
【００３８】
【化６】
【００３９】
（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。
【００４０】
上記のうち、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。
【００４１】
前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基の具体的な例〔具体例（１）〜（１７）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
【００４２】
【化７】
【００４３】
【化８】
【００４４】
上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｍ＋ｎ）価の有機連結基は下記の基である。
【００４５】
【化９】
【００４６】
前記一般式（１）中、ｍは１〜８を表す。ｍとしては、１〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、前記一般式（１）中、ｎは２〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００４７】
前記一般式（１）中、Ｐ１は高分子骨格を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
ポリマーの中でも、高分子骨格を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
更には、前記ポリマーは有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、例えば、顔料分散剤として使用した場合、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。
【００４８】
前記ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリル、酸性基を有するビニルモノマーなどが好ましい。
以下、これらのビニルモノマーの好ましい例について説明する。
【００４９】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸２−フェニルビニル、（メタ）アクリル酸１−プロペニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−アリロキシエチル、（メタ）アクリル酸プロパルギル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。
【００５０】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、およびクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、および安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、およびフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、およびイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００５１】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、ビニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００５２】
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、およびα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００５３】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルおよびフェニルビニルエーテルなどが挙げられる。
ビニルケトン類の例としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げられる。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
マレイミド類の例としては、マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミドなどが挙げられる。
【００５４】
（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
【００５５】
上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、またはウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、またはアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、または水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
【００５６】
前記酸性基を有するビニルモノマーの例としては、カルボキシル基を有するビニルモノマーやスルホン酸基を有するビニルモノマーが挙げられる。
カルボキシル基を有するビニルモノマーとして、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
【００５７】
また、スルホン酸基を有するビニルモノマーとして、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸などが挙げられ、リン酸基を有するビニルモノマーとして、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２−アクリロイルオキシエチルエステル）などが挙げられる。
【００５８】
更に、酸性基を有するビニルモノマーとして、フェノール性ヒドロキシル基を含有するビニルモノマーやスルホンアミド基を含有するビニルモノマーなども利用することができる。
【００５９】
前記一般式（１）で表される高分子化合物の中でも、下記一般式（２）で表される高分子化合物が好ましい。
【００６０】
【化１０】
【００６１】
前記一般式（２）において、Ａ２はフッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含む１価の有機基を表す。前記Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基であることが好ましい。ｎ個のＡ２は同一であっても、異なっていてもよい。
なお、Ａ２は、前記一般式（１）における前記Ａ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００６２】
前記一般式（２）において、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。ｎ個のＲ４、ｍ個のＲ５は、各々独立に、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｒ４、Ｒ５は、前記一般式（１）における前記Ｒ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００６３】
前記一般式（２）において、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
前記Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
前記Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、前記Ｒ１における（ｍ＋ｎ）価の有機連結基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００６４】
前記一般式（２）中、ｍは１〜８を表す。ｍとしては、１〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、前記一般式（２）中、ｎは２〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００６５】
また、一般式（２）中のＰ２は、高分子骨格を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ２は、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの好ましい態様については、前記一般式（１）におけるＰ１と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００６６】
前記一般式（２）で表される高分子化合物のうち、以下に示すＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たすものが特に好ましい。
Ｒ３：前記具体例（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、または（１７）
Ｒ４：単結合あるいは、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される「１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子」から成り立つ２価の有機連結基（置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。）
【００６７】
【化１１】
【００６８】
Ｒ５：単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基（ａ）、または下記基（ｂ）
なお、下記基中、Ｒ２５は水素原子またはメチル基を表し、ｌは１または２を表す。
【００６９】
【化１２】
【００７０】
Ｐ２：ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびこれらの変性物
ｍ：１〜３
ｎ：３〜６
【００７１】
前記一般式（２）で表される高分子化合物の好ましい形態（前述のＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たす形態）の中でも、Ａ２が、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘキサフルオロイソプロピル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロオクチル、パーフルオロドデシルである形態が特に好ましい。
【００７２】
本発明における高分子化合物の酸価は特に限定されないが、酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であることが好ましく、１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下がより好ましく、１２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下が特に好ましい。酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であれば、塗布液の安定性をより良好に保つことができる。
【００７３】
また、本発明における高分子化合物を顔料と共にアルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に用いる場合、その酸価は、３０〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることが好ましく、４０〜１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）がより好ましく、５０〜１２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が特に好ましい。酸価が３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上であれば、光硬化性組成物のアルカリ現像性をより良好に保つことができ、酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であれば、塗布液の安定性をより良好に保つことができる。
【００７４】
本発明における高分子化合物の分子量としては、重量平均分子量で、３０００〜１０００００が好ましく、５０００〜８００００がより好ましく、７０００〜６００００が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の「フッ素原子を３つ以上有する部位」の効果が十分に発揮され、撥水性及び撥インク性、固体表面への吸着性、ミセル形成能、界面活性性に優れた性能を発揮する。
【００７５】
以下、本発明における高分子化合物の具体例（例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−１６）を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｚ中の「＊」は結合手を表す。
【００７６】
【化１３】
【００７７】
【化１４】
【００７８】
【化１５】
【００７９】
【化１６】
【００８０】
【化１７】
【００８１】
＜高分子化合物の製造方法＞
前記一般式（１）で表される高分子化合物（一般式（２）で表される高分子化合物を含む）は、特に制限されないが、下記高分子化合物の製造方法などにより合成することができる。下記合成方法のうち、合成上の容易さから、下記２、３、４、５等の合成方法がより好ましく、下記３、４、５等の合成方法が特に好ましい。
１．カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等から選択される官能基を末端に導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含む酸ハライド、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むアルキルハライド、又はフッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むイソシアネート等と、を高分子反応させる方法。
２．末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタンと、をマイケル付加反応させる方法。
３．末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタンとをラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
４．末端に複数のメルカプタンを導入したポリマーと、炭素−炭素二重結合を導入した、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
５．フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタン化合物を連鎖移動剤として、ビニルモノマーをラジカル重合する方法。
【００８２】
上記のうち、本発明の高分子化合物（特に一般式（２）で表される高分子化合物）は、例えば、前記２、３、４、５のいずれかの方法で合成することができるが、合成上の容易さから、前記５の方法で合成することが最も好ましい。
【００８３】
より具体的には、下記一般式（３）で表される化合物を連鎖移動剤として用いて、ビニルモノマーをラジカル重合させる方法が好ましい。
【００８４】
【化１８】
【００８５】
前記一般式（３）において、Ｒ６、Ｒ７、Ａ３、ｍ、およびｎは、それぞれ前記一般式（２）におけるＲ３、Ｒ４、Ａ２、ｍ、およびｎと同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００８６】
前記ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、酸性基を有するビニルモノマーなどが好ましい。このような例としては例えば以下のような化合物が挙げられる。
【００８７】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。
【００８８】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
【００８９】
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
【００９０】
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９１】
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９２】
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９３】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００９４】
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ-Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００９５】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００９６】
上記の化合物の以外にも、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（たとえばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
上記の化合物以外にも、例えばウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、又はウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
【００９７】
上記のビニルモノマーは一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよく、このようなラジカル重合体は、それぞれ相当するビニルモノマーを公知の方法で常法に従って重合させることで得られる。
例えば、これらのビニルモノマー、および連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃〜２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
【００９８】
溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる単量体、及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【００９９】
また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１００】
前記一般式（３）で表される化合物は、以下の方法等で合成することができるが、合成上の容易さから、下記７の方法がより好ましい。
６．フッ素原子を３つ以上有する部位を含むハライド化合物からメルカプタン化合物に変換する方法（チオ尿素と反応させ、加水分解する方法、ＮａＳＨと直接反応させる方法、ＣＨ3ＣＯＳＮａと反応させ、加水分解させる方法などが挙げられる）
７．一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物と、フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物、とを付加反応させる方法
【０１０１】
前記方法７における「メルカプト基と反応可能な官能基」としては、酸ハライド、アルキルハライド、イソシアネート、炭素−炭素二重結合などが好適に挙げられる。
「メルカプト基と反応可能な官能基」が炭素−炭素二重結合であり、付加反応がラジカル付加反応で合成することが特に好ましい。炭素−炭素二重結合としては、メルカプト基との反応性の点で、１置換もしくは２置換のビニル基がより好ましい。
【０１０２】
一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例（１８）〜（３４）〕として、以下の化合物が挙げられる。
【０１０３】
【化１９】
【０１０４】
【化２０】
【０１０５】
上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、以下の化合物である。
【０１０６】
【化２１】
【０１０７】
フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物としては特に制限されないが、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
【０１０８】
【化２２】
【０１０９】
【化２３】
【０１１０】
前記「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」と、前記「フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物」とのラジカル付加反応生成物は、例えば、上記「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」及び「フッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル発生剤を添加して、約５０℃〜１００℃で、付加させる方法（チオール−エン反応法）を利用して得られる。
【０１１１】
前記方法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」、「フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつメルカプト基と反応可能な官能基（例えば炭素−炭素二重結合）を有する化合物」、及び生成するラジカル付加反応生成物の溶解性に応じて任意に選択できる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【０１１２】
また、ラジカル発生剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１１３】
前記５の合成方法で用いられるビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、前記一般式（１）のＰ１で表される高分子骨格を得る際に用いられるビニルモノマーと同様のものが用いられる。
【０１１４】
上記のビニルモノマーは一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよい。
また、アルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に適用する場合、本発明の高分子化合物は、１種以上の酸性基を有するビニルモノマーと、１種以上の酸性基を有さないビニルモノマーと、を共重合させることがより好ましい。
【０１１５】
本発明の高分子化合物としては、これらのビニルモノマーと前記一般式（３）で表される化合物とを用いて、公知の方法で常法に従って重合させることで得られるものが好ましい。なお、本発明における前記一般式（３）で表される化合物は、連鎖移動剤として機能するものであり、以下、単に「連鎖移動剤」と称することがある。
例えば、これらのビニルモノマー、および前記連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃〜２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
【０１１６】
溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる単量体、および生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【０１１７】
また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１１８】
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、既述の本発明の高分子化合物（以下、「本発明の含フッ素高分子化合物」又は「含フッ素高分子化合物」ともいう）の少なくとも１種を用いて構成されるものであり、必要に応じて更に、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、顔料等の色材などの他の成分を用いて好適に構成することができる。
例えば、既述の本発明の含フッ素高分子化合物と共に、開始剤及びエチレン性不飽和化合物を含有することによって、感光性の樹脂組成物を構成することができる。
【０１１９】
本発明の（感光性）樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を含有するので、例えば膜形成後に加熱処理すると、良好な撥水・撥インク性と基板密着性が得られる。これより、ブラックマトリクス等の離隔壁でのインク乗り上げや基板面からの剥離や欠け等の欠陥の発生が抑制され、ひいては離隔壁で隔離された凹状領域にインクを例えば液滴付与（例えばインクジェット法による打滴など）した際の混色、白抜け、色ムラ等の画像故障の発生を防止され、高品位なカラーフィルタ及び表示装置を提供できる。
また、本発明の（感光性）樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を含有するので、塗布液としたときの安定性に優れる。
【０１２０】
本発明の樹脂組成物を構成する高分子化合物（含フッ素高分子化合物）については、既述した通りであり、好ましい態様も同様である。
含フッ素高分子化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜２０質量％であり、最も好ましくは０．１〜１０質量％である。含フッ素高分子化合物の含有量が前記範囲内であると、より良好な撥水・撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性も高めることができる。例えば、黒色顔料等の着色剤を含んでブラックマトリクス等の離隔壁を形成する場合は、インクジェット法により液滴付与して着色領域を形成するときのインクの離画壁上への乗り上げを抑制でき、混色を防止できると共に、基板密着性及び色濃度の高い離画壁を作製することができる。
【０１２１】
以下、含フッ素高分子化合物以外の各成分について詳細に説明する。
１）開始剤
本発明の樹脂組成物は、開始剤の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。
樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。
【０１２２】
光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述のエチレン性不飽和化合物の重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤もしくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【０１２３】
光重合開始剤もしくは光重合開始剤系としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【０１２４】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【０１２５】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【０１２６】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、などが挙げられる。
【０１２７】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特にトリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【０１２８】
特に好ましくは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールであり、前記トリアジン系化合物としては、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンであり、前記アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、前記アセトフェノン系化合物としては、ミヒラーズケトンであり、前記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【０１２９】
前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
開始剤（特に光重合開始剤）の樹脂組成物における総量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が前記範囲内であると、樹脂組成物の光硬化を効率良く行なえ、現像の際に欠落や表面荒れの発生のない画像パターンを得ることができる。
【０１３０】
なお、本発明において、樹脂組成物の全固形分（質量）とは、樹脂組成物中の溶剤を除いた全成分を意味する。
【０１３１】
前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、下記メルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【０１３２】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【０１３３】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【０１３４】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【０１３５】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【０１３６】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【０１３７】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【０１３８】
２）バインダー
本発明の樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を用いて好適に構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。また、このほかに水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。
【０１３９】
また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【０１４０】
バインダーの樹脂組成物中における含有量は、樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０１４１】
３）エチレン性不飽和化合物
本発明の樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。
【０１４２】
具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【０１４３】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【０１４４】
エチレン性不飽和化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。エチレン性不飽和化合物の含有量が前記範囲内であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性を確保でき、樹脂組成物としたときのタッキネスが増加するのを抑えて取り扱い性を保つことができる。
【０１４５】
４）色材
本発明の感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を用いて構成することができる。
色材としては、公知の着色剤（染料、顔料など）を使用することができ、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを好適に用いることができる。
【０１４６】
本発明の樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができる。特に本発明の樹脂組成物を遮光性の離隔壁形成用に構成するときには、炭素材料（カーボンブラックなど）、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光材料、及び赤色、青色、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
顔料を用いる場合は、樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
【０１４７】
色材の樹脂組成物中における含有量としては、現像時間を短縮する観点から、樹脂組成物の全固形分に対して、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
【０１４８】
顔料は分散液として使用されることが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁）に記載のニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、同文献の３１０頁に記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１４９】
色材（顔料）の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒子径で０．００１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０８μｍがより好ましい。なお、「粒子径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から求めた粒子面積をこれと同面積の円で表したときの直径をいい、「数平均粒子径」とは、１００個の粒子の粒子径を求めて平均した平均値をいう。
【０１５０】
５）その他
樹脂組成物には、前記１）〜４）の成分の他に、下記の溶剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等、及び特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」その他の添加剤等の他の成分を添加してもよい。
【０１５１】
−溶剤−
本発明における樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に溶剤を用いてもよい。溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【０１５２】
−界面活性剤−
本発明の樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止する観点から、該樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。
【０１５３】
−熱重合防止剤−
本発明における樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【０１５４】
−紫外線吸収剤−
本発明における樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
【０１５５】
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【０１５６】
＜感光性転写材料＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を設けて構成されたものである。感光性転写材料を用いることで、離画壁を容易かつ低コストに形成することができる。また、必要に応じて更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう）や熱可塑性樹脂層などの他の層を設けてもよい。
【０１５７】
酸素遮断層を用いた場合、感光性樹脂層は酸素遮断層に大気から保護されるため、自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため、露光を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用し、高感度化、高硬度化できる利点がある。後述するように、仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよく、この場合は酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数削減に寄与する。
【０１５８】
感光性転写材料には、仮支持体と感光性樹脂層との間、あるいは酸素遮断層を有する場合は仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層を設けてもよい。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有し、少なくとも実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂成分を含み、クッション性を備えた層である。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を得ることができる。
【０１５９】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【０１６０】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【０１６１】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【０１６２】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【０１６３】
感光性転写材料を構成する仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが前記範囲内であると、仮支持体を破れないように容易に剥離でき、仮支持体を介しても解像度の良い露光が行なえる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１６４】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【０１６５】
−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【０１６６】
＜離画壁及びその製造方法＞
本発明の離画壁の製造方法は、基板の少なくとも一方の面に、既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物、又は本発明の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像する現像工程と、現像により得られ、前記感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を少なくとも設けて構成される。
【０１６７】
本発明における離画壁は、２以上の画素群（例えば色相の異なる複数色の画素群）の各画素間を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色剤としては、有機物（染料、顔料などの各種色素、炭素材料）、無機物が好ましい。
【０１６８】
（感光性樹脂層形成工程）
感光性樹脂層形成工程は、基板の少なくとも一方の面（以下、単に「基板上」ともいう）に、既述の本発明の樹脂組成物のうち感光性を有する感光性樹脂組成物を用いることにより、又は既述の本発明の感光性転写材料を用いることにより感光性樹脂層を形成する。
【０１６９】
感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより形成することができる。また、必要に応じて、塗布後にプリベークを行なってもよい。
【０１７０】
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、
仮支持体上に該仮支持体側から順に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上を保護するカバーシートとが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体である基板上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層を酸素遮断層と共に転写形成することができる。
【０１７１】
（露光工程及び現像工程）
露光工程では、前記積層体の仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、該積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、フォトマスク面と該酸素遮断層との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１７２】
露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）等を用いて行なえ、露光量は適宜（例えば３００ｍＪ／ｃｍ２）選択すればよい。
露光に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１７３】
離画壁は、光感度、すなわち硬化度を高める点で、感光性樹脂層を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像して形成されることが好ましい。ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう。）下にあることを指し、詳しくは以下の通りである。
【０１７４】
前記不活性ガス下とは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２などの不活性気体やＨｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類などのガス雰囲気に曝されていることをいう。中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、不活性ガスはＮ２が好適である。
【０１７５】
前記減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態をいう。
【０１７６】
前記酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。
また、ポリビニルアルコールは、鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は、アルカリ可溶な感光性樹脂層の固形分に対し、１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１７７】
また、酸素遮断層には、各種フィルムを用いることもできる。例えば、ＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは、必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
特に感光性転写材料を用いて離隔壁を形成する場合には、仮支持体を酸素を遮断しうる保護層として好適に用いることが可能である。
【０１７８】
仮支持体を酸素遮断層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１７９】
酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）の酸素透過係数は、２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、最も好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が前記範囲内であると、酸素遮断により光硬化が良好に進行し、離画壁を所望の形状に形成するのに有効である。
【０１８０】
次いで、現像工程が施され、露光後の感光性樹脂層を所定の現像液を用いて現像処理する。引き続き、必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。なお、現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
【０１８１】
現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【０１８２】
前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の希薄水溶液は、アルカリ性物質の濃度としては０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１８３】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。
更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１８４】
現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像時間が前記範囲内であると、非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像進行が良好であり、硬化部（ネガ型の場合は露光部）がエッチングされることもなく、良好な形状の離画壁を得る点で有効である。
また、現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【０１８５】
（加熱処理工程）
前記現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、撥水・撥インク性に優れた離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱することで、硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、含フッ素高分子化合物による撥水・撥インク性をより発揮させることができる。
【０１８６】
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【０１８７】
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度により適宜選択できるが、例えばベーク温度を２４０℃とした場合は１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。
【０１８８】
また、離画壁の製造方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。
【０１８９】
ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１９０】
本発明の離画壁の製造方法によって作製できる離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましい。特に離隔壁としてカラーフィルタを構成するブラックマトリクスを形成するときには、遮光性を付与しより鮮明でくっきりとした多色画像を表示する観点から、光学濃度２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、感光性樹脂層は好ましくは光開始系にて硬化されるため、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、所望形状の離画壁を形成することができる。
【０１９１】
また、離画壁の幅及び高さについては、幅（すなわちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）としては１５〜１００μｍが好ましく、高さ（すなわち基板法線方向における基板面から離画壁の頂点までの距離）としては１．０〜５．０μｍが好ましい。
離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。
【０１９２】
〜離画壁の接触角測定〜
加熱処理（ベーク処理）前後での離画壁（例えばブラックマトリクス）のインク接触角及び水接触角の変化が重要である。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法、具体的にはＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさのインク滴、水滴をつくり、針先からインク滴、水滴を出して、パターン状に形成された離隔壁上面に接触させてインク滴、水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴からインク滴、水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。また、ここでの「加熱処理後」とは、２４０℃で５０分間加熱した後、１時間室温にて放冷した後のことをさす。
【０１９３】
ここで、離隔壁の上面について図１を参照して説明する。
離画壁の上面とは、離画壁１の表面のうち基板６と接する面と反対側の露出面をいう（図１の上面４）。なお、離画壁の側面とは、離画壁の露出する表面のうち、離画壁の上面以外の表面をいう（図１の側面５）。また、基板上の凹部とは、離隔壁で取り囲まれ、離画壁側面と基板の離画壁が形成されていない基板面とからなる凹状領域をいう（図１の凹部３）。後述の本発明のカラーフィルタの製造方法では、この基板上の凹部に、着色液体組成物が付与されて、着色領域（例えば、図１の着色画素（着色領域）２）が形成される。
【０１９４】
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の離画壁の製造方法により形成された離隔壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（着色領域形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物を付与し、（好ましくは２色以上の）複数の着色領域（例えば、赤、緑、青、白、紫等の着色画素など）を形成するものである。
【０１９５】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を用いた離隔壁（例えばブラックマトリクス）を有する基板上に着色液体組成物を付与し、着色領域を形成するので、インクの離隔壁上への乗り上げ等に伴なう混色が回避でき、離隔壁の剥がれや欠け欠陥等の発生も抑えられるので、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタを作製することができる。
本発明のカラーフィルタもまた、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を用いた離隔壁を備えるので、色ムラがなく色純度が高く、白抜け等の画像故障が抑制されており、鮮やかでくっきりとした表示特性を有する。
【０１９６】
着色液体組成物を付与する方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スリットコート法やストライプギーサー法等の塗布法など、公知の方法を適宜用いることができる。ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。
本発明においては、特にインクジェット法を好適に用いることができる。
【０１９７】
〜インクジェット法〜
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。
インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１９８】
本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により基板上に吐出して着色領域（例えば画素）が形成されたカラーフィルタである場合が好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクをインクジェット法により吐出して少なくとも３色の着色画素を有するカラーフィルタが好ましい。
カラーフィルタのパターン形状は、特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であってもよいし、格子状、デルタ配列状であってもよい。
【０１９９】
作製されたカラーフィルタには、耐性向上のため、全面にオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、着色領域（例えばＲＧＢ画素）を保護すると共に、表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える観点からは設けないことが好ましい。
【０２００】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性に優れ、カラーフィルタを構成する硬化性組成物の樹脂成分が一般にアクリル系樹脂を主成分として含み、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品としてＪＳＲ社製の「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」が挙げられる。
【０２０１】
また、着色領域（例えばＲＧＢ画素）上には、必要に応じて、透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、ＩＴＯ膜が挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
【０２０２】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを設けて構成されたものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いることができる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０２０３】
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【０２０４】
本発明のカラーフィルタを設けて構成される表示装置としては、液晶表示装置が好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。
本発明が適用できる液晶表示装置には特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門 ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０２０５】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表 良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
【０２０６】
用途としては、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０２０７】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。尚、分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の質量平均分子量を表し、また、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２０８】
〔実施例１〕
本発明の高分子化合物（含フッ素高分子化合物）である前記例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−９、Ｐ−１２の合成例を以下に示す。
＜例示化合物Ｐ−１の合成＞
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕１９．２ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ、堺化学工業（株）製〕１８．７ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温９０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ１８ｇに２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕４０ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２ｇにジ−ｔ−ブチルパーオキサイド〔ＰＢＤ、アルドリッチ社製〕０．６ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、１００℃にて５時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
得られた溶液を、さらに窒素気流下、パラフィン入りのウォーターバス中で内温８０℃まで加熱したところへ、ベンジルメタクリレート〔ＢｚＭＡ、共栄社化学（株）製〕５５ｇ、メタクリル酸〔ＭＡＡ、三菱瓦斯化学（株）製〕５ｇ、ＭＭＰＧ−Ａｃ８０ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０．８ｇに２、２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ６０１、和光純薬（株）製〕１．１ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで３時間かけて滴下した。滴下終了後、６時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
以上のようにして、例示化合物Ｐ−１のＭＭＰＧ−Ａｃ溶液が得られた。重量平均分子量は１．３万であった。
【０２０９】
＜例示化合物Ｐ−２〜Ｐ−９、Ｐ−１２の合成＞
各構成モノマー及び組成比を以下のように変更した以外は上記例示化合物Ｐ−１の合成法に従い、例示化合物Ｐ−２〜Ｐ−９、Ｐ−１２を合成した。数値は質量部を表す。
【０２１０】
〜例示化合物Ｐ−２〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ４：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１９．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．１万
〜例示化合物Ｐ−３〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ８：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２０．１：４０：５５：５
・重量平均分子量０．９万
〜例示化合物Ｐ−４〜
・ＤＰＭＰ：Ｖ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２２．６：４０：５５：５
・重量平均分子量１．２万
〜例示化合物Ｐ−５〜
・ＤＰＭＰ：ＶＥ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２０．１：４０：５５：５
・重量平均分子量１．０万
〜例示化合物Ｐ−６〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ６：ＦＭ５：ＭＡＡ＝１８．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．２万
【０２１１】
〜例示化合物Ｐ−７〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ６：Ｍ２３０Ｇ：ＭＡＡ＝１８．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．５万
〜例示化合物Ｐ−８〜
・ＤＰＭＰ：ＡＥ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１９．４：４０：５５：５
・重量平均分子量０．８万
〜例示化合物Ｐ−９〜
・ＤＰＭＰ：Ｆｕｍ−Ｃ４：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１７．２：４０：５５：５
・重量平均分子量０．９万
〜例示化合物Ｐ−１２〜
・ＰＥＭＰ：Ｉｔ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝５．９：４０：５５：５
・重量平均分子量１．５万
【０２１２】
なお、上記記載中のコモノマーは、以下の通りである。
・ＤＰＭＰ ・・・ ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔堺化学工業（株）製〕
・ＰＥＭＰ ・・・ ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）〔堺化学工業（株）製〕
・ＦＡＡＣ４ ・・・ ２−パーフルオロブチル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＡＣ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＡＣ８ ・・・ ２−パーフルオロオクチル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・Ｖ−Ｃ６ ・・・ パーフルオロヘキシルエチレン〔ダイキン（株）製〕
・ＶＥ−Ｃ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルビニルエーテル〔下記化合物（Ａ）〕
・ＡＥ−Ｃ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルアリルエーテル〔下記化合物（Ｂ）〕
・Ｉｔ−Ｃ６ ・・・ ビス（２−パーフルオロヘキシル-エチル）イタコネート〔下記化合物（Ｃ）〕
・Ｆｕｍ−Ｃ４ ・・・ ビス（２−パーフルオロブチル-エチル）フマレート〔下記化合物（Ｄ）〕
・ＢｚＭＡ ・・・ ベンジルメタクリレート〔共栄社化学（株）製〕
・ＭＡＡ ・・・ メタクリル酸〔三菱瓦斯化学（株）製〕
・ＦＭ５ ・・・ ポリカプロラクトン（カプロラクトンの繰返し単位≒５）メタクリレート〔ダイセル化学工業（株）製〕
Ｍ２３０Ｇ ・・・ ポリエチレングリコール（ポリエチレングリコールの繰返し単位≒２３）メタクリレート〔新中村化学工業（株）製〕
【０２１３】
〜 化合物（Ａ）の合成 〜
フラスコに［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２を１．９７ｇ、炭酸ナトリウムを１８．７ｇ、トルエンを３００ｍｌおよび２−パーフルオロヘキシルエタノールを１０７ｇ加え、窒素雰囲気下、室温で攪拌しているところに酢酸ビニルを５０．６ｇ滴下した。滴下終了後、９５℃で加熱還流し、１時間後ＮＭＲにより２−パーフルオロヘキシルエタノールの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を蒸留水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し褐色油状物１２８．３ｇを得た。これを減圧蒸留により精製し、化合物（Ａ）として、無色の油状物６３．２ｇ（沸点４０℃／６ｍｍＨｇ、収率５５％）を得た。
【０２１４】
〜 化合物（Ｂ）の合成 〜
フラスコにアリルブロミドを１０ｇ、２−パーフルオロヘキシルエタノールを７０ｇおよびｔＢｕＯＨを２９０ｍｌ加え、４０℃で攪拌しているところにｔＢｕＯＫを２１．５ｇ分割添加した。
４２時間後、ＮＭＲにより２−パーフルオロヘキシルエタノールの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を蒸留水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を１Ｎ塩酸および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｂ）として、褐色油状物７８．１ｇ（収率８８．８％）を得た。
【０２１５】
〜 化合物（Ｃ）の合成 〜
フラスコにイタコン酸無水物を１５ｇ、２−パーフルオロヘキシルエタノールを１０２ｇ、濃硫酸を０．７ｍｌおよびトルエンを１５０ｍｌ加え、加熱還流した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｃ）として、黄濁油状物９２ｇ（収率８４％）を得た。
【０２１６】
〜 化合物（Ｄ）の合成 〜
フラスコにフマル酸を７．０ｇ、２−パーフルオロブチルエタノールを４６ｇ、濃硫酸を０．３ｍｌおよびトルエンを７０ｍｌ加え、加熱還流した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｄ）として、白色結晶４３ｇ（収率８９％）を得た。
【０２１７】
〔実施例２〕
＜感光性樹脂組成物の調製＞
まず、下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍにて１０分間攪拌し、次いで表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１、及び上記で得た例示化合物Ｐ−１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍにて３０分間攪拌することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
このとき、例示化合物Ｐ−１の感光性樹脂組成物Ｋ１中における固形分質量に対する割合は５％であった。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０２１８】
〜Ｋ顔料分散物１〜
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） ・・・１３．１％
・下記分散剤１ ・・・ ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ・・・ ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・７９．５３％
【０２１９】
【化２４】
【０２２０】
〜バインダー２〜
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合物、分子量３．８万） ・・・ ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ７３％
【０２２１】
〜ＤＰＨＡ液〜
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ・・・ ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ２４％
【０２２２】
〜界面活性剤１〜
・下記構造物１ ・・・ ３０％
・メチルエチルケトン ・・・ ７０％
【０２２３】
【化２５】
【０２２４】
【表１】
【０２２５】
＜離画壁の形成＞
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
このガラス基板を冷却し２３℃に温調した後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た（感光性樹脂層形成工程）。
次に、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した（露光工程）。
【０２２６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た（現像工程）。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光した。続いて、２４０℃で５０分間ポストベーク処理を行ない（加熱処理工程）、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。
なお、離画壁の基板密着性及び離隔壁の撥水・撥インク性については後述する。
【０２２７】
＜カラーフィルタの作製＞
（１）画素用着色インク組成物の調製
下記の組成のうち、まず顔料、高分子分散剤、及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〜赤色画素用着色インク組成物の組成〜
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４） ・・・ ５部
・ソルスパース２４０００（ＡＶＥＣＩＡ社製；高分子分散剤） ・・・ １部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（分子量：３．７万、バインダー） ・・・ ３部
・エピコート１５４（油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂） ・・・ ２部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（エポキシ樹脂） ・・・ ５部
・トリメリット酸（硬化剤） ・・・ ４部
・３−エトキシプロピオン酸エチル（溶剤） ・・・８０部
【０２２８】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。また、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２２９】
（２）着色画素の形成
次に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁で取り囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行ない、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターン（着色画素）からなるカラーフィルタを作製した。続いて、このカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分間ベークし、離画壁及び各画素がともに完全に硬化されたカラーフィルタ基板を得た。
【０２３０】
＜カラーフィルタの混色評価＞
得られたカラーフィルタ基板を下記のように評価した。評価結果は下記表２に示す。
カラーフィルタの画素が形成された側と反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察し、画素間の混色の有無を観察した。評価は、１０００画素を観察して下記ランクに分けて行なった。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。
・Ａランク：混色は全くなかった。
・Ｂランク：混色は１〜２箇所であった。
・Ｃランク：混色は３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：混色は１１箇所以上であった。
【０２３１】
＜液晶表示装置の作製＞
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ１２Ω／□であり、非常に低い値を示した。
【０２３２】
（柱状スペーサパターンの形成）
スペーサパターン形成用の下記感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
〜感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１〜
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、分子量４００００；高分子物質） ・・・ １０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性モノマー）
・・・ ６４．７部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン ・・・ ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ・・・ ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製） ・・・ ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤） ・・・ ０．８５６部
・メチルエチルケトン ・・・ ３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・ ４７５部
・メタノール ・・・ １６．６部
【０２３３】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０２３４】
（液晶配向分割用突起の形成）
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１から中間層用塗布液を塗布し、乾燥膜厚１．６μｍの中間層を設けた。
【０２３５】
〜突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａ〜
・ポジ型レジスト液 ・・・ ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン ・・・ ４６．７部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．０４部
【０２３６】
〜中間層用塗布液の処方Ｐ１〜
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、鹸化度＝８８％、重合度５５０） ・・・ ３２．２部
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部
【０２３７】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成した。
【０２３８】
更に、得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。具体的には、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、このＴＦＴ基板及び上記より得たカラーフィルタ基板を、ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向分割用突起等が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサ分の間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入することにより画像表示を担う液晶層を設け、液晶セルを得た。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、これを液晶セルの偏光板が設けられた側と反対側（背面側）に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０２３９】
＜評価＞
（１）離画壁の撥水・撥インク性
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、前記Ｒ画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角θ１を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順で水接触角θ２を測定した。
ポストベーク後の値を撥水・撥インク性を評価する指標とし、下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
【０２４０】
〜インク接触角の評価基準〜
・Ａランク：インク接触角が５０°以上
・Ｂランク：インク接触角が４０°以上５０°未満
・Ｃランク：インク接触角が３５°以上４０°未満
・Ｄランク：インク接触角が３５°未満
【０２４１】
〜水接触角の評価基準〜
・Ａランク：水接触角が１００°以上
・Ｂランク：水接触角が９０°以上１００°未満
・Ｃランク：水接触角が８５°以上９０°未満
・Ｄランク：水接触角が８５°未満
【０２４２】
（２）離画壁の基板密着性
上記「離画壁の形成」において同条件で露光工程までを終了したガラス基板３枚を用意し、現像時間を９０秒、１００秒、１１０秒と長くして処理を行なったこと以外は同様の現像条件にて現像処理し、それぞれの現像時間での離画壁の欠けの発生の有無を、１０００画素分目視により下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
〜評価基準〜
・Ａランク：離画壁欠けは全くなかった。
・Ｂランク：離画壁欠けは１〜２箇所であった。
・Ｃランク：離画壁欠けは３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：離画壁欠けは１１箇所以上であった。
【０２４３】
（３）液晶表示装置の表示ムラ
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。評価結果は下記表２に示す。
〜評価基準〜
・Ａランク：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
・Ｂランク：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
・Ｃランク：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
・Ｄランク：表示部にムラがみられた。
【０２４４】
〔実施例３〜４〕
実施例２において、例示化合物Ｐ−１の含有量を５．０％から１．０％、０．１％にそれぞれ変更したこと以外、実施例２と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４５】
〔実施例５〜１３）
実施例３において、例示化合物Ｐ−１を表２に示すように変更した以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４６】
〔比較例１〕
実施例３において、例示化合物Ｐ−１を、以下に示す比較化合物（１）に代えたこと以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４７】
−比較化合物（１）の合成−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕５０ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温９０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ８０ｇに２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕４０ｇ、アクリル酸〔東京化成工業（株）製〕５ｇ、ベンジルアクリレート〔大阪有機化学（株）製〕５５ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０ｇに２、２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ６０１、和光純薬（株）製〕４．５ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで３時間かけて滴下した。滴下終了後、６時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
以上のようにして、下記構造の比較化合物（１）のＭＭＰＧ−Ａｃ溶液が得られた。重量平均分子量は１．５万であった。
【０２４８】
【化２６】
【０２４９】
【表２】
【０２５０】
前記表２に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
これに対し、比較例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に劣り、混色防止効果が不充分であり、また、基板密着性にも劣っていた。そのため、液晶表示装置では、表示ムラの発生のない画像表示が困難であった。
【０２５１】
〔実施例１４〕
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という。）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、さらに純水シャワーにより洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０２５２】
シランカップリング処理後のガラス基板に、下記の感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去して露出した感光性樹脂組成物層の表面を、該ガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネータ（ＬａｍｉｃII型、株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２５３】
次いで、ＫＯＨ現像液〔富士フイルム（株）製のＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）〕にて現像して、熱可塑性樹脂層及び中間層を除去し、引き続き感光性樹脂組成物層の未露光部分を除去してガラス基板上にパターンを形成した。続いて、大気下アライナーにてガラス基板のパターン形成面側からガラス基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、２４０℃で５０分間ポストベークを行なった。以上により、光学濃度４．０の離画壁（ブラックマトリックス）を得た。
【０２５４】
その後、実施例２と同様にして、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、実施例２と同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２５５】
＜感光性転写材料Ｋ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ仮支持体）上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、形成された熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層（酸素遮断膜）を積層した。更に、この中間層上に実施例３で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層Ｋ１を積層した。このとき、感光性樹脂組成物Ｋ１中における例示化合物Ｐ−１の固形分質量に対する割合は１．０％である。
このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層とを積層し、さらに感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層Ｋ１とが一体となった感光性転写材料Ｋ１を作製した。
【０２５６】
〜熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１〜
・メタノール ・・・ １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ６．３６部
・メチルエチルケトン ・・・ ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ・・・ ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ・・・ １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製） ・・・ ９．１部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．５４部
【０２５７】
〜中間層用塗布液の処方Ｐ１〜
・ＰＶＡ２０５ ・・・ ３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部
【０２５８】
〔実施例１５〜１６〕
実施例１４において、例示化合物Ｐ−１を、上記より得た例示化合物Ｐ−５、例示化合物Ｐ−９に代えたこと以外、実施例１４と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ、液晶表示装置を作製した。また、実施例２と同様の評価を行なった。評価結果を下記表３に示す。
【０２５９】
【表３】
【０２６０】
前記表３に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０２６１】
【図１】離画壁の上面、側面、並びに基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。
【符号の説明】
【０２６２】
１・・・離画壁
２・・・着色画素（着色領域）
３・・・凹部
４・・・離画壁上面
５・・・離画壁側面
６・・・基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な高分子化合物及びその製造方法、樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
【０００３】
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法はいずれも、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる点で共通している。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題もある。
【０００４】
これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。
【０００５】
前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。
【０００６】
上記に関連して、例えば、フルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光性樹脂及び有機溶剤を含有するコーティング用組成物に関する開示がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、ヘキサフルオロプロピレンなどのビニル系単量体とエステル基を３以上持つ他のビニル系単量体との共重合体を含む組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。また、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、及び感光体を含有するレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００４−２７３３号公報
【特許文献２】特開平３−２４４６０４号公報
【特許文献３】特開２００５−３１５９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の重合体の配合割合からなる組成物、特許文献２に記載の共重合体を含む組成物では、撥水・撥油性が不足する。また、特許文献３に記載のビニル系重合体では、現像液耐性及び現像時の密着性が不足する。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、下記目的を達成することを課題とする。
本発明は、高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物及び該高分子化合物を工業的に有利に製造できる製造方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、高い撥水性及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することを目的とする。また、
本発明は、撥水性及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその製造方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、ポリマー末端に、３つ以上のフッ素原子を有する構造あるいは官能基を導入することが、撥水性及び撥インク性の向上に有効であること、さらにはポリマー末端への複数の前記構造あるいは官能基の導入には、多官能のメルカプタン化合物の利用が合成の容易化および撥インク部位の局在化が可能となる点で有用であるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
【００１１】
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（１）で表される高分子化合物である。
【００１２】
【化１】
【００１３】
式中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００１４】
＜２＞ 下記一般式（２）で表されることを特徴とする＜１＞に記載の高分子化合物である。
【００１５】
【化２】
【００１６】
式中、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基を表す。ｎ個のＡ２、Ｒ４は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ２は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ２、Ｒ５は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。
【００１７】
＜３＞ ＜１＞又は＜２＞に記載の高分子化合物を製造する方法であって、下記一般式（３）で表される化合物存在下で、ラジカル重合反応を行なうことを特徴とする高分子化合物の製造方法である。
【００１８】
【化３】
【００１９】
式中、Ｒ６は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ７は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ３は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ３、Ｒ７は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
【００２０】
＜４＞ ＜１＞又は＜２＞に記載の高分子化合物を含有する樹脂組成物である。
＜５＞ 開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする＜４＞に記載の樹脂組成物である。
＜６＞ 仮支持体上に、＜５＞に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料である。
【００２１】
＜７＞ 基板の少なくとも一方の面に、＜５＞に記載の樹脂組成物又は＜６＞に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像により得られた感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を有する離画壁の製造方法である。
【００２２】
＜８＞ ＜７＞に記載の離画壁の製造方法より製造された離画壁である。
＜９＞ ＜８＞に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法である。
＜１０＞ 前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行うことを特徴とする＜９＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１１＞ ＜９＞又は＜１０＞に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタである。
＜１２＞ ＜１１＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、高い撥水性及び撥インク性が得られる高分子化合物及び該高分子化合物を工業的に有利に製造できる製造方法を提供することができる。また、
本発明によれば、高い撥水性及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することができる。また、
本発明によれば、撥水性及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその製造方法を提供することができる。さらに、
本発明によれば、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の高分子化合物及びその製造方法、感光性樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、カラーフィルタ、並びに表示装置について詳細に説明する。
【００２５】
＜高分子化合物＞
本発明の高分子化合物は、下記一般式（１）で表される高分子化合物である。下記一般式（１）で表される高分子化合物は、ポリマーの末端に、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を複数有するので、フッ素化合物の有機溶媒中でのミセル形成性に優れていたり、塗布液中の分散性、安定性に優れていたり、充分な撥インク性を有していたり、様々な特徴を有する。例えば有機素材をはじく、特にインクジェットカラーフィルター用の撥インク素材として好適に用いることができる。
【００２６】
【化４】
【００２７】
前記一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１はフッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００２８】
前記一般式（１）中、Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含む１価の有機基を表す。前記Ａ１は、ＣＦ３基を有する１価の有機基であることがより好ましい。
また、前記Ａ１は、フルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基を有することが好ましく、フルオロアルキル基を有することがより好ましい。
【００２９】
前記フルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基（以下、「ペンタフルオロエチル基」ともいう）、ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基がより好ましく、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が特に好ましい。
また、前記フルオロアルキル基としては、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００３０】
前記Ａ１において、前記「フッ素原子を３つ以上有する部位」以外の部位としては、２価の有機連結鎖が好ましく、２価の有機連結鎖としては、アルキレン鎖、アリーレン鎖、エステル鎖、アミド鎖、エーテル鎖、から選ばれる一つ又はこれらを組み合わせた２価の有機連結鎖が好ましい。
前記アルキレン鎖としては、総炭素数１〜２０のアルキレン鎖が好ましく、総炭素数１〜１０のアルキレン鎖がより好ましい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、ドデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。これらは、分岐／環状構造を有していてもよく、官能基を有していてもよい。中でも、メチレン基、エチレン基、オクチレン基が好ましい。
前記アリーレン鎖としては、総炭総数６〜２０のアリーレン鎖が好ましく、総炭総数６〜１２のアリーレン鎖がより好ましい。
具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基などが挙げられる。これらは分岐、官能基を有していてもよい。中でも、フェニレン基、ビフェニレン基が好ましい。
【００３１】
前記一般式（１）中、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。ｎ個のＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
２価の有機連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
【００３２】
前記２価の有機連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される基を挙げることができる。
【００３３】
【化５】
【００３４】
Ｒ２としては、単結合、あるいは、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が好ましく、単結合、あるいは、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基がより好ましく、単結合、あるいは、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が特に好ましい。
【００３５】
上記のうち、２価の有機連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。
【００３６】
前記一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
【００３７】
前記（ｍ＋ｎ）価の有機連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
【００３８】
【化６】
【００３９】
（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。
【００４０】
上記のうち、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。
【００４１】
前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基の具体的な例〔具体例（１）〜（１７）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
【００４２】
【化７】
【００４３】
【化８】
【００４４】
上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｍ＋ｎ）価の有機連結基は下記の基である。
【００４５】
【化９】
【００４６】
前記一般式（１）中、ｍは１〜８を表す。ｍとしては、１〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、前記一般式（１）中、ｎは２〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００４７】
前記一般式（１）中、Ｐ１は高分子骨格を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
ポリマーの中でも、高分子骨格を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
更には、前記ポリマーは有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、例えば、顔料分散剤として使用した場合、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。
【００４８】
前記ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリル、酸性基を有するビニルモノマーなどが好ましい。
以下、これらのビニルモノマーの好ましい例について説明する。
【００４９】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸２−フェニルビニル、（メタ）アクリル酸１−プロペニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−アリロキシエチル、（メタ）アクリル酸プロパルギル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。
【００５０】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、およびクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、および安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、およびフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、およびイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００５１】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、ビニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００５２】
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、およびα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００５３】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルおよびフェニルビニルエーテルなどが挙げられる。
ビニルケトン類の例としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げられる。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
マレイミド類の例としては、マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミドなどが挙げられる。
【００５４】
（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
【００５５】
上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、またはウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、またはアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、または水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
【００５６】
前記酸性基を有するビニルモノマーの例としては、カルボキシル基を有するビニルモノマーやスルホン酸基を有するビニルモノマーが挙げられる。
カルボキシル基を有するビニルモノマーとして、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
【００５７】
また、スルホン酸基を有するビニルモノマーとして、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸などが挙げられ、リン酸基を有するビニルモノマーとして、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２−アクリロイルオキシエチルエステル）などが挙げられる。
【００５８】
更に、酸性基を有するビニルモノマーとして、フェノール性ヒドロキシル基を含有するビニルモノマーやスルホンアミド基を含有するビニルモノマーなども利用することができる。
【００５９】
前記一般式（１）で表される高分子化合物の中でも、下記一般式（２）で表される高分子化合物が好ましい。
【００６０】
【化１０】
【００６１】
前記一般式（２）において、Ａ２はフッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含む１価の有機基を表す。前記Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基であることが好ましい。ｎ個のＡ２は同一であっても、異なっていてもよい。
なお、Ａ２は、前記一般式（１）における前記Ａ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００６２】
前記一般式（２）において、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。ｎ個のＲ４、ｍ個のＲ５は、各々独立に、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｒ４、Ｒ５は、前記一般式（１）における前記Ｒ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
【００６３】
前記一般式（２）において、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
前記Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
前記Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の有機連結基としては、前記Ｒ１における（ｍ＋ｎ）価の有機連結基と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００６４】
前記一般式（２）中、ｍは１〜８を表す。ｍとしては、１〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、前記一般式（２）中、ｎは２〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００６５】
また、一般式（２）中のＰ２は、高分子骨格を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ２は、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの好ましい態様については、前記一般式（１）におけるＰ１と同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００６６】
前記一般式（２）で表される高分子化合物のうち、以下に示すＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たすものが特に好ましい。
Ｒ３：前記具体例（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、または（１７）
Ｒ４：単結合あるいは、下記の構造単位または該構造単位が組み合わさって構成される「１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子」から成り立つ２価の有機連結基（置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。）
【００６７】
【化１１】
【００６８】
Ｒ５：単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基（ａ）、または下記基（ｂ）
なお、下記基中、Ｒ２５は水素原子またはメチル基を表し、ｌは１または２を表す。
【００６９】
【化１２】
【００７０】
Ｐ２：ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびこれらの変性物
ｍ：１〜３
ｎ：３〜６
【００７１】
前記一般式（２）で表される高分子化合物の好ましい形態（前述のＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たす形態）の中でも、Ａ２が、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘキサフルオロイソプロピル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロオクチル、パーフルオロドデシルである形態が特に好ましい。
【００７２】
本発明における高分子化合物の酸価は特に限定されないが、酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であることが好ましく、１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下がより好ましく、１２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下が特に好ましい。酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であれば、塗布液の安定性をより良好に保つことができる。
【００７３】
また、本発明における高分子化合物を顔料と共にアルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に用いる場合、その酸価は、３０〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることが好ましく、４０〜１６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）がより好ましく、５０〜１２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が特に好ましい。酸価が３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上であれば、光硬化性組成物のアルカリ現像性をより良好に保つことができ、酸価が２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であれば、塗布液の安定性をより良好に保つことができる。
【００７４】
本発明における高分子化合物の分子量としては、重量平均分子量で、３０００〜１０００００が好ましく、５０００〜８００００がより好ましく、７０００〜６００００が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の「フッ素原子を３つ以上有する部位」の効果が十分に発揮され、撥水性及び撥インク性、固体表面への吸着性、ミセル形成能、界面活性性に優れた性能を発揮する。
【００７５】
以下、本発明における高分子化合物の具体例（例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−１６）を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Ｚ中の「＊」は結合手を表す。
【００７６】
【化１３】
【００７７】
【化１４】
【００７８】
【化１５】
【００７９】
【化１６】
【００８０】
【化１７】
【００８１】
＜高分子化合物の製造方法＞
前記一般式（１）で表される高分子化合物（一般式（２）で表される高分子化合物を含む）は、特に制限されないが、下記高分子化合物の製造方法などにより合成することができる。下記合成方法のうち、合成上の容易さから、下記２、３、４、５等の合成方法がより好ましく、下記３、４、５等の合成方法が特に好ましい。
１．カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等から選択される官能基を末端に導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含む酸ハライド、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むアルキルハライド、又はフッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むイソシアネート等と、を高分子反応させる方法。
２．末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタンと、をマイケル付加反応させる方法。
３．末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタンとをラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
４．末端に複数のメルカプタンを導入したポリマーと、炭素−炭素二重結合を導入した、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
５．フッ素原子を３つ以上有する部位を複数含むメルカプタン化合物を連鎖移動剤として、ビニルモノマーをラジカル重合する方法。
【００８２】
上記のうち、本発明の高分子化合物（特に一般式（２）で表される高分子化合物）は、例えば、前記２、３、４、５のいずれかの方法で合成することができるが、合成上の容易さから、前記５の方法で合成することが最も好ましい。
【００８３】
より具体的には、下記一般式（３）で表される化合物を連鎖移動剤として用いて、ビニルモノマーをラジカル重合させる方法が好ましい。
【００８４】
【化１８】
【００８５】
前記一般式（３）において、Ｒ６、Ｒ７、Ａ３、ｍ、およびｎは、それぞれ前記一般式（２）におけるＲ３、Ｒ４、Ａ２、ｍ、およびｎと同義であり、その好ましい態様も同様である。
【００８６】
前記ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、酸性基を有するビニルモノマーなどが好ましい。このような例としては例えば以下のような化合物が挙げられる。
【００８７】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。
【００８８】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
【００８９】
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
【００９０】
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９１】
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９２】
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００９３】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００９４】
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ-Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００９５】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００９６】
上記の化合物の以外にも、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（たとえばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
上記の化合物以外にも、例えばウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、又はウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物または１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマーまたは１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
【００９７】
上記のビニルモノマーは一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよく、このようなラジカル重合体は、それぞれ相当するビニルモノマーを公知の方法で常法に従って重合させることで得られる。
例えば、これらのビニルモノマー、および連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃〜２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
【００９８】
溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる単量体、及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【００９９】
また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１００】
前記一般式（３）で表される化合物は、以下の方法等で合成することができるが、合成上の容易さから、下記７の方法がより好ましい。
６．フッ素原子を３つ以上有する部位を含むハライド化合物からメルカプタン化合物に変換する方法（チオ尿素と反応させ、加水分解する方法、ＮａＳＨと直接反応させる方法、ＣＨ3ＣＯＳＮａと反応させ、加水分解させる方法などが挙げられる）
７．一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物と、フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物、とを付加反応させる方法
【０１０１】
前記方法７における「メルカプト基と反応可能な官能基」としては、酸ハライド、アルキルハライド、イソシアネート、炭素−炭素二重結合などが好適に挙げられる。
「メルカプト基と反応可能な官能基」が炭素−炭素二重結合であり、付加反応がラジカル付加反応で合成することが特に好ましい。炭素−炭素二重結合としては、メルカプト基との反応性の点で、１置換もしくは２置換のビニル基がより好ましい。
【０１０２】
一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例（１８）〜（３４）〕として、以下の化合物が挙げられる。
【０１０３】
【化１９】
【０１０４】
【化２０】
【０１０５】
上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、以下の化合物である。
【０１０６】
【化２１】
【０１０７】
フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物としては特に制限されないが、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
【０１０８】
【化２２】
【０１０９】
【化２３】
【０１１０】
前記「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」と、前記「フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物」とのラジカル付加反応生成物は、例えば、上記「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」及び「フッ素原子を３つ以上有する部位を少なくとも１種含み、かつ炭素−炭素二重結合を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル発生剤を添加して、約５０℃〜１００℃で、付加させる方法（チオール−エン反応法）を利用して得られる。
【０１１１】
前記方法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる「一分子中に３〜１０個のメルカプト基を有する化合物」、「フッ素原子を３つ以上有する部位を含み、かつメルカプト基と反応可能な官能基（例えば炭素−炭素二重結合）を有する化合物」、及び生成するラジカル付加反応生成物の溶解性に応じて任意に選択できる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【０１１２】
また、ラジカル発生剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１１３】
前記５の合成方法で用いられるビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、前記一般式（１）のＰ１で表される高分子骨格を得る際に用いられるビニルモノマーと同様のものが用いられる。
【０１１４】
上記のビニルモノマーは一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよい。
また、アルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に適用する場合、本発明の高分子化合物は、１種以上の酸性基を有するビニルモノマーと、１種以上の酸性基を有さないビニルモノマーと、を共重合させることがより好ましい。
【０１１５】
本発明の高分子化合物としては、これらのビニルモノマーと前記一般式（３）で表される化合物とを用いて、公知の方法で常法に従って重合させることで得られるものが好ましい。なお、本発明における前記一般式（３）で表される化合物は、連鎖移動剤として機能するものであり、以下、単に「連鎖移動剤」と称することがある。
例えば、これらのビニルモノマー、および前記連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃〜２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
【０１１６】
溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる単量体、および生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
【０１１７】
また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
【０１１８】
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、既述の本発明の高分子化合物（以下、「本発明の含フッ素高分子化合物」又は「含フッ素高分子化合物」ともいう）の少なくとも１種を用いて構成されるものであり、必要に応じて更に、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、顔料等の色材などの他の成分を用いて好適に構成することができる。
例えば、既述の本発明の含フッ素高分子化合物と共に、開始剤及びエチレン性不飽和化合物を含有することによって、感光性の樹脂組成物を構成することができる。
【０１１９】
本発明の（感光性）樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を含有するので、例えば膜形成後に加熱処理すると、良好な撥水・撥インク性と基板密着性が得られる。これより、ブラックマトリクス等の離隔壁でのインク乗り上げや基板面からの剥離や欠け等の欠陥の発生が抑制され、ひいては離隔壁で隔離された凹状領域にインクを例えば液滴付与（例えばインクジェット法による打滴など）した際の混色、白抜け、色ムラ等の画像故障の発生を防止され、高品位なカラーフィルタ及び表示装置を提供できる。
また、本発明の（感光性）樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を含有するので、塗布液としたときの安定性に優れる。
【０１２０】
本発明の樹脂組成物を構成する高分子化合物（含フッ素高分子化合物）については、既述した通りであり、好ましい態様も同様である。
含フッ素高分子化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜２０質量％であり、最も好ましくは０．１〜１０質量％である。含フッ素高分子化合物の含有量が前記範囲内であると、より良好な撥水・撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性も高めることができる。例えば、黒色顔料等の着色剤を含んでブラックマトリクス等の離隔壁を形成する場合は、インクジェット法により液滴付与して着色領域を形成するときのインクの離画壁上への乗り上げを抑制でき、混色を防止できると共に、基板密着性及び色濃度の高い離画壁を作製することができる。
【０１２１】
以下、含フッ素高分子化合物以外の各成分について詳細に説明する。
１）開始剤
本発明の樹脂組成物は、開始剤の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。
樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。
【０１２２】
光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述のエチレン性不飽和化合物の重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤もしくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【０１２３】
光重合開始剤もしくは光重合開始剤系としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【０１２４】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【０１２５】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【０１２６】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、などが挙げられる。
【０１２７】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特にトリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【０１２８】
特に好ましくは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールであり、前記トリアジン系化合物としては、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンであり、前記アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、前記アセトフェノン系化合物としては、ミヒラーズケトンであり、前記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【０１２９】
前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
開始剤（特に光重合開始剤）の樹脂組成物における総量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が前記範囲内であると、樹脂組成物の光硬化を効率良く行なえ、現像の際に欠落や表面荒れの発生のない画像パターンを得ることができる。
【０１３０】
なお、本発明において、樹脂組成物の全固形分（質量）とは、樹脂組成物中の溶剤を除いた全成分を意味する。
【０１３１】
前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、下記メルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【０１３２】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【０１３３】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【０１３４】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【０１３５】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【０１３６】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【０１３７】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【０１３８】
２）バインダー
本発明の樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を用いて好適に構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。また、このほかに水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。
【０１３９】
また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【０１４０】
バインダーの樹脂組成物中における含有量は、樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０１４１】
３）エチレン性不飽和化合物
本発明の樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。
【０１４２】
具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【０１４３】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【０１４４】
エチレン性不飽和化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。エチレン性不飽和化合物の含有量が前記範囲内であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性を確保でき、樹脂組成物としたときのタッキネスが増加するのを抑えて取り扱い性を保つことができる。
【０１４５】
４）色材
本発明の感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を用いて構成することができる。
色材としては、公知の着色剤（染料、顔料など）を使用することができ、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを好適に用いることができる。
【０１４６】
本発明の樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができる。特に本発明の樹脂組成物を遮光性の離隔壁形成用に構成するときには、炭素材料（カーボンブラックなど）、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光材料、及び赤色、青色、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
顔料を用いる場合は、樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
【０１４７】
色材の樹脂組成物中における含有量としては、現像時間を短縮する観点から、樹脂組成物の全固形分に対して、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
【０１４８】
顔料は分散液として使用されることが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁）に記載のニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、同文献の３１０頁に記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１４９】
色材（顔料）の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒子径で０．００１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０８μｍがより好ましい。なお、「粒子径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から求めた粒子面積をこれと同面積の円で表したときの直径をいい、「数平均粒子径」とは、１００個の粒子の粒子径を求めて平均した平均値をいう。
【０１５０】
５）その他
樹脂組成物には、前記１）〜４）の成分の他に、下記の溶剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等、及び特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」その他の添加剤等の他の成分を添加してもよい。
【０１５１】
−溶剤−
本発明における樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に溶剤を用いてもよい。溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【０１５２】
−界面活性剤−
本発明の樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止する観点から、該樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。
【０１５３】
−熱重合防止剤−
本発明における樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【０１５４】
−紫外線吸収剤−
本発明における樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
【０１５５】
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【０１５６】
＜感光性転写材料＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を設けて構成されたものである。感光性転写材料を用いることで、離画壁を容易かつ低コストに形成することができる。また、必要に応じて更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう）や熱可塑性樹脂層などの他の層を設けてもよい。
【０１５７】
酸素遮断層を用いた場合、感光性樹脂層は酸素遮断層に大気から保護されるため、自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため、露光を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用し、高感度化、高硬度化できる利点がある。後述するように、仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよく、この場合は酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数削減に寄与する。
【０１５８】
感光性転写材料には、仮支持体と感光性樹脂層との間、あるいは酸素遮断層を有する場合は仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層を設けてもよい。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有し、少なくとも実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂成分を含み、クッション性を備えた層である。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を得ることができる。
【０１５９】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【０１６０】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【０１６１】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【０１６２】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【０１６３】
感光性転写材料を構成する仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが前記範囲内であると、仮支持体を破れないように容易に剥離でき、仮支持体を介しても解像度の良い露光が行なえる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１６４】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【０１６５】
−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【０１６６】
＜離画壁及びその製造方法＞
本発明の離画壁の製造方法は、基板の少なくとも一方の面に、既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物、又は本発明の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像する現像工程と、現像により得られ、前記感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を少なくとも設けて構成される。
【０１６７】
本発明における離画壁は、２以上の画素群（例えば色相の異なる複数色の画素群）の各画素間を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色剤としては、有機物（染料、顔料などの各種色素、炭素材料）、無機物が好ましい。
【０１６８】
（感光性樹脂層形成工程）
感光性樹脂層形成工程は、基板の少なくとも一方の面（以下、単に「基板上」ともいう）に、既述の本発明の樹脂組成物のうち感光性を有する感光性樹脂組成物を用いることにより、又は既述の本発明の感光性転写材料を用いることにより感光性樹脂層を形成する。
【０１６９】
感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより形成することができる。また、必要に応じて、塗布後にプリベークを行なってもよい。
【０１７０】
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、
仮支持体上に該仮支持体側から順に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上を保護するカバーシートとが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体である基板上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層を酸素遮断層と共に転写形成することができる。
【０１７１】
（露光工程及び現像工程）
露光工程では、前記積層体の仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、該積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、フォトマスク面と該酸素遮断層との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１７２】
露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）等を用いて行なえ、露光量は適宜（例えば３００ｍＪ／ｃｍ２）選択すればよい。
露光に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１７３】
離画壁は、光感度、すなわち硬化度を高める点で、感光性樹脂層を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像して形成されることが好ましい。ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう。）下にあることを指し、詳しくは以下の通りである。
【０１７４】
前記不活性ガス下とは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２などの不活性気体やＨｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類などのガス雰囲気に曝されていることをいう。中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、不活性ガスはＮ２が好適である。
【０１７５】
前記減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態をいう。
【０１７６】
前記酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。
また、ポリビニルアルコールは、鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は、アルカリ可溶な感光性樹脂層の固形分に対し、１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１７７】
また、酸素遮断層には、各種フィルムを用いることもできる。例えば、ＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは、必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
特に感光性転写材料を用いて離隔壁を形成する場合には、仮支持体を酸素を遮断しうる保護層として好適に用いることが可能である。
【０１７８】
仮支持体を酸素遮断層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１７９】
酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）の酸素透過係数は、２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、最も好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が前記範囲内であると、酸素遮断により光硬化が良好に進行し、離画壁を所望の形状に形成するのに有効である。
【０１８０】
次いで、現像工程が施され、露光後の感光性樹脂層を所定の現像液を用いて現像処理する。引き続き、必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。なお、現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
【０１８１】
現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【０１８２】
前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の希薄水溶液は、アルカリ性物質の濃度としては０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１８３】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。
更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１８４】
現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像時間が前記範囲内であると、非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像進行が良好であり、硬化部（ネガ型の場合は露光部）がエッチングされることもなく、良好な形状の離画壁を得る点で有効である。
また、現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【０１８５】
（加熱処理工程）
前記現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、撥水・撥インク性に優れた離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱することで、硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、含フッ素高分子化合物による撥水・撥インク性をより発揮させることができる。
【０１８６】
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【０１８７】
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度により適宜選択できるが、例えばベーク温度を２４０℃とした場合は１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。
【０１８８】
また、離画壁の製造方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。
【０１８９】
ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１９０】
本発明の離画壁の製造方法によって作製できる離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましい。特に離隔壁としてカラーフィルタを構成するブラックマトリクスを形成するときには、遮光性を付与しより鮮明でくっきりとした多色画像を表示する観点から、光学濃度２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、感光性樹脂層は好ましくは光開始系にて硬化されるため、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、所望形状の離画壁を形成することができる。
【０１９１】
また、離画壁の幅及び高さについては、幅（すなわちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）としては１５〜１００μｍが好ましく、高さ（すなわち基板法線方向における基板面から離画壁の頂点までの距離）としては１．０〜５．０μｍが好ましい。
離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。
【０１９２】
〜離画壁の接触角測定〜
加熱処理（ベーク処理）前後での離画壁（例えばブラックマトリクス）のインク接触角及び水接触角の変化が重要である。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法、具体的にはＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさのインク滴、水滴をつくり、針先からインク滴、水滴を出して、パターン状に形成された離隔壁上面に接触させてインク滴、水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴からインク滴、水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。また、ここでの「加熱処理後」とは、２４０℃で５０分間加熱した後、１時間室温にて放冷した後のことをさす。
【０１９３】
ここで、離隔壁の上面について図１を参照して説明する。
離画壁の上面とは、離画壁１の表面のうち基板６と接する面と反対側の露出面をいう（図１の上面４）。なお、離画壁の側面とは、離画壁の露出する表面のうち、離画壁の上面以外の表面をいう（図１の側面５）。また、基板上の凹部とは、離隔壁で取り囲まれ、離画壁側面と基板の離画壁が形成されていない基板面とからなる凹状領域をいう（図１の凹部３）。後述の本発明のカラーフィルタの製造方法では、この基板上の凹部に、着色液体組成物が付与されて、着色領域（例えば、図１の着色画素（着色領域）２）が形成される。
【０１９４】
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の離画壁の製造方法により形成された離隔壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（着色領域形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物を付与し、（好ましくは２色以上の）複数の着色領域（例えば、赤、緑、青、白、紫等の着色画素など）を形成するものである。
【０１９５】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を用いた離隔壁（例えばブラックマトリクス）を有する基板上に着色液体組成物を付与し、着色領域を形成するので、インクの離隔壁上への乗り上げ等に伴なう混色が回避でき、離隔壁の剥がれや欠け欠陥等の発生も抑えられるので、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタを作製することができる。
本発明のカラーフィルタもまた、既述の本発明の含フッ素高分子化合物を用いた離隔壁を備えるので、色ムラがなく色純度が高く、白抜け等の画像故障が抑制されており、鮮やかでくっきりとした表示特性を有する。
【０１９６】
着色液体組成物を付与する方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スリットコート法やストライプギーサー法等の塗布法など、公知の方法を適宜用いることができる。ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。
本発明においては、特にインクジェット法を好適に用いることができる。
【０１９７】
〜インクジェット法〜
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。
インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１９８】
本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により基板上に吐出して着色領域（例えば画素）が形成されたカラーフィルタである場合が好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクをインクジェット法により吐出して少なくとも３色の着色画素を有するカラーフィルタが好ましい。
カラーフィルタのパターン形状は、特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であってもよいし、格子状、デルタ配列状であってもよい。
【０１９９】
作製されたカラーフィルタには、耐性向上のため、全面にオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、着色領域（例えばＲＧＢ画素）を保護すると共に、表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える観点からは設けないことが好ましい。
【０２００】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性に優れ、カラーフィルタを構成する硬化性組成物の樹脂成分が一般にアクリル系樹脂を主成分として含み、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品としてＪＳＲ社製の「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」が挙げられる。
【０２０１】
また、着色領域（例えばＲＧＢ画素）上には、必要に応じて、透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、ＩＴＯ膜が挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
【０２０２】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを設けて構成されたものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いることができる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０２０３】
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【０２０４】
本発明のカラーフィルタを設けて構成される表示装置としては、液晶表示装置が好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。
本発明が適用できる液晶表示装置には特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門 ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０２０５】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表 良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
【０２０６】
用途としては、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０２０７】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。尚、分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の質量平均分子量を表し、また、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２０８】
〔実施例１〕
本発明の高分子化合物（含フッ素高分子化合物）である前記例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−９、Ｐ−１２の合成例を以下に示す。
＜例示化合物Ｐ−１の合成＞
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕１９．２ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ、堺化学工業（株）製〕１８．７ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温９０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ１８ｇに２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕４０ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２ｇにジ−ｔ−ブチルパーオキサイド〔ＰＢＤ、アルドリッチ社製〕０．６ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、１００℃にて５時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
得られた溶液を、さらに窒素気流下、パラフィン入りのウォーターバス中で内温８０℃まで加熱したところへ、ベンジルメタクリレート〔ＢｚＭＡ、共栄社化学（株）製〕５５ｇ、メタクリル酸〔ＭＡＡ、三菱瓦斯化学（株）製〕５ｇ、ＭＭＰＧ−Ａｃ８０ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０．８ｇに２、２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ６０１、和光純薬（株）製〕１．１ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで３時間かけて滴下した。滴下終了後、６時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
以上のようにして、例示化合物Ｐ−１のＭＭＰＧ−Ａｃ溶液が得られた。重量平均分子量は１．３万であった。
【０２０９】
＜例示化合物Ｐ−２〜Ｐ−９、Ｐ−１２の合成＞
各構成モノマー及び組成比を以下のように変更した以外は上記例示化合物Ｐ−１の合成法に従い、例示化合物Ｐ−２〜Ｐ−９、Ｐ−１２を合成した。数値は質量部を表す。
【０２１０】
〜例示化合物Ｐ−２〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ４：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１９．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．１万
〜例示化合物Ｐ−３〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ８：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２０．１：４０：５５：５
・重量平均分子量０．９万
〜例示化合物Ｐ−４〜
・ＤＰＭＰ：Ｖ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２２．６：４０：５５：５
・重量平均分子量１．２万
〜例示化合物Ｐ−５〜
・ＤＰＭＰ：ＶＥ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝２０．１：４０：５５：５
・重量平均分子量１．０万
〜例示化合物Ｐ−６〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ６：ＦＭ５：ＭＡＡ＝１８．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．２万
【０２１１】
〜例示化合物Ｐ−７〜
・ＤＰＭＰ：ＦＡＡＣ６：Ｍ２３０Ｇ：ＭＡＡ＝１８．７：４０：５５：５
・重量平均分子量１．５万
〜例示化合物Ｐ−８〜
・ＤＰＭＰ：ＡＥ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１９．４：４０：５５：５
・重量平均分子量０．８万
〜例示化合物Ｐ−９〜
・ＤＰＭＰ：Ｆｕｍ−Ｃ４：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝１７．２：４０：５５：５
・重量平均分子量０．９万
〜例示化合物Ｐ−１２〜
・ＰＥＭＰ：Ｉｔ−Ｃ６：ＢｚＭＡ：ＭＡＡ＝５．９：４０：５５：５
・重量平均分子量１．５万
【０２１２】
なお、上記記載中のコモノマーは、以下の通りである。
・ＤＰＭＰ ・・・ ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔堺化学工業（株）製〕
・ＰＥＭＰ ・・・ ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）〔堺化学工業（株）製〕
・ＦＡＡＣ４ ・・・ ２−パーフルオロブチル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＡＣ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＡＣ８ ・・・ ２−パーフルオロオクチル-エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・Ｖ−Ｃ６ ・・・ パーフルオロヘキシルエチレン〔ダイキン（株）製〕
・ＶＥ−Ｃ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルビニルエーテル〔下記化合物（Ａ）〕
・ＡＥ−Ｃ６ ・・・ ２−パーフルオロヘキシル-エチルアリルエーテル〔下記化合物（Ｂ）〕
・Ｉｔ−Ｃ６ ・・・ ビス（２−パーフルオロヘキシル-エチル）イタコネート〔下記化合物（Ｃ）〕
・Ｆｕｍ−Ｃ４ ・・・ ビス（２−パーフルオロブチル-エチル）フマレート〔下記化合物（Ｄ）〕
・ＢｚＭＡ ・・・ ベンジルメタクリレート〔共栄社化学（株）製〕
・ＭＡＡ ・・・ メタクリル酸〔三菱瓦斯化学（株）製〕
・ＦＭ５ ・・・ ポリカプロラクトン（カプロラクトンの繰返し単位≒５）メタクリレート〔ダイセル化学工業（株）製〕
Ｍ２３０Ｇ ・・・ ポリエチレングリコール（ポリエチレングリコールの繰返し単位≒２３）メタクリレート〔新中村化学工業（株）製〕
【０２１３】
〜 化合物（Ａ）の合成 〜
フラスコに［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２を１．９７ｇ、炭酸ナトリウムを１８．７ｇ、トルエンを３００ｍｌおよび２−パーフルオロヘキシルエタノールを１０７ｇ加え、窒素雰囲気下、室温で攪拌しているところに酢酸ビニルを５０．６ｇ滴下した。滴下終了後、９５℃で加熱還流し、１時間後ＮＭＲにより２−パーフルオロヘキシルエタノールの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を蒸留水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し褐色油状物１２８．３ｇを得た。これを減圧蒸留により精製し、化合物（Ａ）として、無色の油状物６３．２ｇ（沸点４０℃／６ｍｍＨｇ、収率５５％）を得た。
【０２１４】
〜 化合物（Ｂ）の合成 〜
フラスコにアリルブロミドを１０ｇ、２−パーフルオロヘキシルエタノールを７０ｇおよびｔＢｕＯＨを２９０ｍｌ加え、４０℃で攪拌しているところにｔＢｕＯＫを２１．５ｇ分割添加した。
４２時間後、ＮＭＲにより２−パーフルオロヘキシルエタノールの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を蒸留水に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を１Ｎ塩酸および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｂ）として、褐色油状物７８．１ｇ（収率８８．８％）を得た。
【０２１５】
〜 化合物（Ｃ）の合成 〜
フラスコにイタコン酸無水物を１５ｇ、２−パーフルオロヘキシルエタノールを１０２ｇ、濃硫酸を０．７ｍｌおよびトルエンを１５０ｍｌ加え、加熱還流した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｃ）として、黄濁油状物９２ｇ（収率８４％）を得た。
【０２１６】
〜 化合物（Ｄ）の合成 〜
フラスコにフマル酸を７．０ｇ、２−パーフルオロブチルエタノールを４６ｇ、濃硫酸を０．３ｍｌおよびトルエンを７０ｍｌ加え、加熱還流した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、化合物（Ｄ）として、白色結晶４３ｇ（収率８９％）を得た。
【０２１７】
〔実施例２〕
＜感光性樹脂組成物の調製＞
まず、下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍにて１０分間攪拌し、次いで表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１、及び上記で得た例示化合物Ｐ−１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍにて３０分間攪拌することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
このとき、例示化合物Ｐ−１の感光性樹脂組成物Ｋ１中における固形分質量に対する割合は５％であった。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０２１８】
〜Ｋ顔料分散物１〜
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） ・・・１３．１％
・下記分散剤１ ・・・ ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ・・・ ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・７９．５３％
【０２１９】
【化２４】
【０２２０】
〜バインダー２〜
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合物、分子量３．８万） ・・・ ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ７３％
【０２２１】
〜ＤＰＨＡ液〜
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ・・・ ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ２４％
【０２２２】
〜界面活性剤１〜
・下記構造物１ ・・・ ３０％
・メチルエチルケトン ・・・ ７０％
【０２２３】
【化２５】
【０２２４】
【表１】
【０２２５】
＜離画壁の形成＞
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
このガラス基板を冷却し２３℃に温調した後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た（感光性樹脂層形成工程）。
次に、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した（露光工程）。
【０２２６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た（現像工程）。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光した。続いて、２４０℃で５０分間ポストベーク処理を行ない（加熱処理工程）、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。
なお、離画壁の基板密着性及び離隔壁の撥水・撥インク性については後述する。
【０２２７】
＜カラーフィルタの作製＞
（１）画素用着色インク組成物の調製
下記の組成のうち、まず顔料、高分子分散剤、及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〜赤色画素用着色インク組成物の組成〜
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４） ・・・ ５部
・ソルスパース２４０００（ＡＶＥＣＩＡ社製；高分子分散剤） ・・・ １部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（分子量：３．７万、バインダー） ・・・ ３部
・エピコート１５４（油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂） ・・・ ２部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（エポキシ樹脂） ・・・ ５部
・トリメリット酸（硬化剤） ・・・ ４部
・３−エトキシプロピオン酸エチル（溶剤） ・・・８０部
【０２２８】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。また、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２２９】
（２）着色画素の形成
次に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁で取り囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行ない、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターン（着色画素）からなるカラーフィルタを作製した。続いて、このカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分間ベークし、離画壁及び各画素がともに完全に硬化されたカラーフィルタ基板を得た。
【０２３０】
＜カラーフィルタの混色評価＞
得られたカラーフィルタ基板を下記のように評価した。評価結果は下記表２に示す。
カラーフィルタの画素が形成された側と反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察し、画素間の混色の有無を観察した。評価は、１０００画素を観察して下記ランクに分けて行なった。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。
・Ａランク：混色は全くなかった。
・Ｂランク：混色は１〜２箇所であった。
・Ｃランク：混色は３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：混色は１１箇所以上であった。
【０２３１】
＜液晶表示装置の作製＞
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ１２Ω／□であり、非常に低い値を示した。
【０２３２】
（柱状スペーサパターンの形成）
スペーサパターン形成用の下記感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
〜感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１〜
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、分子量４００００；高分子物質） ・・・ １０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性モノマー）
・・・ ６４．７部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン ・・・ ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ・・・ ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製） ・・・ ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤） ・・・ ０．８５６部
・メチルエチルケトン ・・・ ３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・ ４７５部
・メタノール ・・・ １６．６部
【０２３３】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０２３４】
（液晶配向分割用突起の形成）
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１から中間層用塗布液を塗布し、乾燥膜厚１．６μｍの中間層を設けた。
【０２３５】
〜突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａ〜
・ポジ型レジスト液 ・・・ ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン ・・・ ４６．７部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．０４部
【０２３６】
〜中間層用塗布液の処方Ｐ１〜
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、鹸化度＝８８％、重合度５５０） ・・・ ３２．２部
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部
【０２３７】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成した。
【０２３８】
更に、得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。具体的には、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、このＴＦＴ基板及び上記より得たカラーフィルタ基板を、ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向分割用突起等が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサ分の間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入することにより画像表示を担う液晶層を設け、液晶セルを得た。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、これを液晶セルの偏光板が設けられた側と反対側（背面側）に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０２３９】
＜評価＞
（１）離画壁の撥水・撥インク性
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、前記Ｒ画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角θ１を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順で水接触角θ２を測定した。
ポストベーク後の値を撥水・撥インク性を評価する指標とし、下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
【０２４０】
〜インク接触角の評価基準〜
・Ａランク：インク接触角が５０°以上
・Ｂランク：インク接触角が４０°以上５０°未満
・Ｃランク：インク接触角が３５°以上４０°未満
・Ｄランク：インク接触角が３５°未満
【０２４１】
〜水接触角の評価基準〜
・Ａランク：水接触角が１００°以上
・Ｂランク：水接触角が９０°以上１００°未満
・Ｃランク：水接触角が８５°以上９０°未満
・Ｄランク：水接触角が８５°未満
【０２４２】
（２）離画壁の基板密着性
上記「離画壁の形成」において同条件で露光工程までを終了したガラス基板３枚を用意し、現像時間を９０秒、１００秒、１１０秒と長くして処理を行なったこと以外は同様の現像条件にて現像処理し、それぞれの現像時間での離画壁の欠けの発生の有無を、１０００画素分目視により下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
〜評価基準〜
・Ａランク：離画壁欠けは全くなかった。
・Ｂランク：離画壁欠けは１〜２箇所であった。
・Ｃランク：離画壁欠けは３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：離画壁欠けは１１箇所以上であった。
【０２４３】
（３）液晶表示装置の表示ムラ
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。評価結果は下記表２に示す。
〜評価基準〜
・Ａランク：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
・Ｂランク：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
・Ｃランク：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
・Ｄランク：表示部にムラがみられた。
【０２４４】
〔実施例３〜４〕
実施例２において、例示化合物Ｐ−１の含有量を５．０％から１．０％、０．１％にそれぞれ変更したこと以外、実施例２と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４５】
〔実施例５〜１３）
実施例３において、例示化合物Ｐ−１を表２に示すように変更した以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４６】
〔比較例１〕
実施例３において、例示化合物Ｐ−１を、以下に示す比較化合物（１）に代えたこと以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２４７】
−比較化合物（１）の合成−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕５０ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温９０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ８０ｇに２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕４０ｇ、アクリル酸〔東京化成工業（株）製〕５ｇ、ベンジルアクリレート〔大阪有機化学（株）製〕５５ｇを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０ｇに２、２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ６０１、和光純薬（株）製〕４．５ｇを溶解させた溶液を、プランジャーポンプで３時間かけて滴下した。滴下終了後、６時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
以上のようにして、下記構造の比較化合物（１）のＭＭＰＧ−Ａｃ溶液が得られた。重量平均分子量は１．５万であった。
【０２４８】
【化２６】
【０２４９】
【表２】
【０２５０】
前記表２に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
これに対し、比較例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に劣り、混色防止効果が不充分であり、また、基板密着性にも劣っていた。そのため、液晶表示装置では、表示ムラの発生のない画像表示が困難であった。
【０２５１】
〔実施例１４〕
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という。）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、さらに純水シャワーにより洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０２５２】
シランカップリング処理後のガラス基板に、下記の感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去して露出した感光性樹脂組成物層の表面を、該ガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネータ（ＬａｍｉｃII型、株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２５３】
次いで、ＫＯＨ現像液〔富士フイルム（株）製のＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）〕にて現像して、熱可塑性樹脂層及び中間層を除去し、引き続き感光性樹脂組成物層の未露光部分を除去してガラス基板上にパターンを形成した。続いて、大気下アライナーにてガラス基板のパターン形成面側からガラス基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、２４０℃で５０分間ポストベークを行なった。以上により、光学濃度４．０の離画壁（ブラックマトリックス）を得た。
【０２５４】
その後、実施例２と同様にして、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、実施例２と同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２５５】
＜感光性転写材料Ｋ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ仮支持体）上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、形成された熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層（酸素遮断膜）を積層した。更に、この中間層上に実施例３で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層Ｋ１を積層した。このとき、感光性樹脂組成物Ｋ１中における例示化合物Ｐ−１の固形分質量に対する割合は１．０％である。
このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層とを積層し、さらに感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層Ｋ１とが一体となった感光性転写材料Ｋ１を作製した。
【０２５６】
〜熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１〜
・メタノール ・・・ １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ６．３６部
・メチルエチルケトン ・・・ ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ・・・ ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ・・・ １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製） ・・・ ９．１部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．５４部
【０２５７】
〜中間層用塗布液の処方Ｐ１〜
・ＰＶＡ２０５ ・・・ ３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部
【０２５８】
〔実施例１５〜１６〕
実施例１４において、例示化合物Ｐ−１を、上記より得た例示化合物Ｐ−５、例示化合物Ｐ−９に代えたこと以外、実施例１４と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ、液晶表示装置を作製した。また、実施例２と同様の評価を行なった。評価結果を下記表３に示す。
【０２５９】
【表３】
【０２６０】
前記表３に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０２６１】
【図１】離画壁の上面、側面、並びに基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。
【符号の説明】
【０２６２】
１・・・離画壁
２・・・着色画素（着色領域）
３・・・凹部
４・・・離画壁上面
５・・・離画壁側面
６・・・基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される高分子化合物。
【化１】
〔式中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。〕
【請求項２】
下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１に記載の高分子化合物。
【化２】
〔式中、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基を表す。ｎ個のＡ２、Ｒ４は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ２は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ２、Ｒ５は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。〕
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の高分子化合物を製造する方法であって、下記一般式（３）で表される化合物存在下で、ラジカル重合反応を行なうことを特徴とする高分子化合物の製造方法。
【化３】
〔式中、Ｒ６は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ７は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ３は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ３、Ｒ７は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。〕
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の高分子化合物を含有する樹脂組成物。
【請求項５】
開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする請求項４に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
仮支持体上に、請求項５に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料。
【請求項７】
基板の少なくとも一方の面に、請求項５に記載の樹脂組成物又は請求項６に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、
前記現像により得られた感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、
を有する離画壁の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の離画壁の製造方法より製造された離画壁。
【請求項９】
請求項８に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行うことを特徴とする請求項９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【請求項１】
下記一般式（１）で表される高分子化合物。
【化１】
〔式中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ２は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ１は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。〕
【請求項２】
下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１に記載の高分子化合物。
【化２】
〔式中、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ２は、ＣＦ３基を有する１価の有機基を表す。ｎ個のＡ２、Ｒ４は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ２は高分子骨格を表す。ｍ個のＰ２、Ｒ５は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。〕
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の高分子化合物を製造する方法であって、下記一般式（３）で表される化合物存在下で、ラジカル重合反応を行なうことを特徴とする高分子化合物の製造方法。
【化３】
〔式中、Ｒ６は、（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ７は単結合あるいは２価の有機連結基を表す。Ａ３は、フッ素原子を３つ以上有する部位を含む１価の有機基を表す。ｎ個のＡ３、Ｒ７は、それぞれ独立に、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。〕
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の高分子化合物を含有する樹脂組成物。
【請求項５】
開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする請求項４に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
仮支持体上に、請求項５に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料。
【請求項７】
基板の少なくとも一方の面に、請求項５に記載の樹脂組成物又は請求項６に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、
前記現像により得られた感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、
を有する離画壁の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の離画壁の製造方法より製造された離画壁。
【請求項９】
請求項８に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行うことを特徴とする請求項９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【図１】
【公開番号】特開２００９−１３２７８２（Ｐ２００９−１３２７８２Ａ）
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３０９１５８（Ｐ２００７−３０９１５８）
【出願日】平成１９年１１月２９日（２００７．１１．２９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１１月２９日（２００７．１１．２９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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