【課題】加工動作中に常時ガルバノスキャナの振動特性を取得し、また取得データと加工条件から加工形状を推測することで、ガルバノスキャナの機能低下による加工形状不良が発生しないレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】指令信号と現在位置との偏差に基づいてミラーを揺動させるアクチュエータを動作させ、前記ミラーに入射する光の出射角を制御するガルバノスキャナ制御装置を持つレーザ加工装置において、偏差１１１の振動成分の特徴量を算出する偏差信号分析部２０７と、特徴量を記録する記憶部２０８と、記録された偏差波形の特徴量とレーザ光照射条件から加工形状を予測する加工形状推定部２０９と、予測された加工形状を使用者に伝える表示部２１０を持つことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】走査型顕微鏡において、低ノイズの画像を高速で取得する。
【解決手段】走査型顕微鏡は、光源ユニット１２０、対物レンズ１１５、スキャナユニット１１４、ピンホールアレイ１１３、光学的分離器１１２、光量検出器１１６、および位置検出システム１１７を有する。光源ユニット１２０は光パルスを複数の出射点から順番に繰返し出射する。対物レンズ１５は光パルスを試料上に結像させる。スキャナユニット１１４は対物レンズにより結像された光パルスを試料に走査させる。ピンホールアレイ１１３は試料に反射された反射光および蛍光の少なくとも一方の結像位置にピンホールが形成される。光学的分離器１１２は反射光および蛍光の少なくとも一方を偏向させることにより透過光の光路から分離する。光量検出器１１６は反射光または蛍光の光量を検出する。位置検出システム１１７は照射光の照射位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】振動ミラーにより光ビームを走査することで対象物上に光のパターンを投影する三次元形状計測装置において、投影する光のパターンの環境条件等による変化を補償する。
【解決手段】ＭＥＭＳミラー１４で走査されるスリット光が実効的な走査範囲のＡ端を通るタイミングを光ファイバ２０Ａ及び光検出器３６Ａにより検出する。時間間隔計測部３８は、往復走査されるスリット光がＡ端を通過するタイミング同士の時間間隔を計測する。走査角度判定部４０は、計測された時間間隔に対応する走査角度変化パターンを求め、そのパターンからレーザー駆動信号の位相に対応する走査角度を求める。変調パターン信号生成部４２は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。レーザー駆動回路３２は、求められたレーザー発光強度に従って、レーザー１０の発光を制御する。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる被走査面の走査を効率的に行う。
【解決手段】被走査面上での走査軌跡の振れ幅Ｌ₂は、振動ミラーから被走査面上までの光路長に比例して大きくなる。画像書き込み幅Ｗは転写紙のサイズで決定され、振動ミラーから被走査面上までの光路長に関わらず一定である。したがって、振動ミラーによる走査軌跡の振れ幅に対する主走査方向の画像書き込み幅の割合（有効走査期間率）は、振動ミラーから被走査面上までの光路長が大きくなるほど小さくなる。光偏向手段としてＭＥＭＳによる振動ミラーを用いた場合の、主走査１ライン中に生じるスキュー量ＳＬ₂は、副走査方向の速度Ｖ_scと、１ラインの走査時間Ｖ_lnと、有効走査期間率Ｒ_esとを乗じた値となる。光路長を大きく取り有効走査期間率を小さくすれば、スキュー量ＳＬ₂を抑制でき、往復走査時の画質を向上できる。 （もっと読む）

【課題】走査レンズの低コスト化、また、レイアウトの最適化による光学ハウジング、ひいてはそれを用いる画像形成装置全体の小型化、さらに、副走査ビームスポット径や副走査ビームピッチの像高間偏差を低減し、良好な画質を得る。
【解決手段】異なる被走査面に対応する２つの光源と、２つの光源からの光束を偏向する光偏向器と、光偏向器により偏向された２つの光源からの光束を各々対応する被走査面に集光する２枚の走査レンズとを備えた光走査装置において、２つの光源からの光束は、光偏向器の偏向反射面の法線に対し、副走査方向に角度を有して入射し、光偏向器の同一の偏向反射面により偏向反射され、２枚の走査レンズは、２つの光源からの光束の全てで共用され、かつ、少なくとも２面は、主走査位置によって副走査方向の曲率が変化する副走査曲率変化面である。 （もっと読む）

【課題】走査部によるレーザ光の走査タイミングのずれを防止し、表示される画像を安定させることのできる走査型画像表示装置を提供する。
【解決手段】 互いに異なる色の光束を画像信号に応じて出射する複数の光源を有し、複数の光源から出射する光束を合波して１本の光束として出射する光源部と、光源部から出射された光束を２次元走査する走査部と、走査部による光束の走査領域のうち、表示画像を形成する領域外である無効走査領域に設けられ、走査部による光束の走査タイミングを検出するために光源部から出射される検査用光の光量を検出する光検出部と、検査用光の各色毎の出射光量と、光検出部により検出された検査用光の光量に基づいて、検査用光の光量を調整する制御部と、を備え、前記制御部は、検査用光の各色毎の出射光量を、複数の光源の出射の優先度を定めた所定の条件に応じて調整する走査型画像表示装置とした。 （もっと読む）

【課題】種々の３次元画像データに対応して、適切な３次元画像を表示できる画像表示装置を提供する。
【解決手段】レーザビームＷは、走査駆動されるミラー部１６によりラスター走査され、スクリーン１０上に投影され、垂直方向下方に向かうときは左目用の画像を形成し、垂直方向上方に向かうときは右目用の画像を形成し、これにより高精細な３次元画像を形成できる。 （もっと読む）

【課題】複数波長の観察光を同時検出可能で省スペース化を図った共焦点顕微鏡。
【解決手段】照明光の一部を制限して複数のスリット光を形成する複数のスリットが形成された第１遮光部材１０と、走査手段１２と、走査手段１２で走査された第１遮光部材１０からの複数のスリット光を試料２に集光し、試料２上に前記複数のスリット光によるスリットパターンを投影する対物レンズ４と、第１遮光部材１０と共役な位置に配置され、対物レンズ４で集光された試料２からの観察光束の一部を制限する複数のスリットが形成された第２遮光部材２０と、第２遮光部材２０の複数のスリットを通過した光を検出する検出器２８ａとを有し、前記第２遮光部材２０の複数のスリットのうちの１つのスリットは、他のスリットと波長透過特性が異なる。 （もっと読む）

【課題】光毒性の問題を解消しながら試料の明るい観察像を取得可能な共焦点顕微鏡を提供する。
【解決手段】光源からの照明光を制限する第１遮光部材１０と、第１遮光部材１０で制限された照明光を走査する走査ミラー１２と、走査ミラー１２で走査された照明光を試料２に集光する対物レンズ４と、試料２からの観察光を制限する第２遮光部材２０と、第２遮光部材２０で制限された観察光を検出する検出器２８ａ，２８ｂとを有しており、第１遮光部材１０は複数のスリットが並んで形成された遮光部材であり、第２遮光部材２０は第１遮光部材１０の複数のスリットに対応する複数のスリットが並んで形成された遮光部材であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光ビーム走査装置において、感光体に不要に光ビームが投射されることを無くし、光源や感光体の劣化を防ぐこと
【解決手段】 振動ミラーの駆動開始後、振動ミラーの振動（光ビーム走査の動作状態）が安定するまでの立ち上げ時、走査経路の所定位置に設け、走査光ビームを検知する同期検知センサの検知タイミングでＬＤを強制点灯する期間を振動ミラーの駆動信号の位相（立ち上がり）に基づいて決め、その期間、強制点灯を行う（Ｓ１０２，１０３）。光ビーム走査の動作状態が安定した後、同期検知信号に基づいてＬＤ強制点灯期間を決める動作に切り替えて、この強制点灯を行う（Ｓ１０５，１０６）。 （もっと読む）

【課題】ｆθ特性や像面湾曲及びその他の各収差を良好に補正することができるコンパクトな光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得る。
【解決手段】光源手段１と、光源手段から出射された光束を偏向手段に導光する入射光学系ＬＡと、偏向手段４の偏向面５で偏向された光束を被走査面７上に結像させる結像光学素子ＬＢを含む結像光学系とを有する光走査装置において、偏向手段４の偏向面５から被走査面７までの結像光学系の光軸方向の間隔Ｌ（ｍｍ）、偏向手段４の偏向面５から自然収束点までの間隔Ｓｄ（ｍｍ）とし、有限な走査画角θａ（ｒａｄ）、有効走査領域における最大走査画角θｍａｘ（ｒａｄ）、ｆθ係数Ｋ（ｍｍ／ｒａｄ）、任意の走査画角θ（ｒａｄ）とし、各々適切に設定する。 （もっと読む）

【課題】内視鏡によるレーザ治療において、治療を必要とする広範囲の表面面積を自動的に撮影するための光学系を提供する。
【解決手段】撮像用ビームの回転を実現するマイクロモータ１２６０のシャフトの回転は、プリズム１２２０を回転する。撮像用光は、ファイバ１２１０を経由して遠端光学系に結合し、光は集束光学系１２１５により集束し、反射器１２２５によりプリズム１２２０上へ反射され、プリズムの回転により撮像用ビームは円周方向に掃引される。治療用光はファイバ１２００上の遠端光学系に結合され、光学系１２５０を用いて集光され、プリズム１２４５によって内側被覆１２３５に対して固定回転角度で横方向に誘導される。撮像用ビームは固定した治療用スポットの中を通って掃引を行なう。治療用スポットの併進移動は、外側被覆１２４０内で内側被覆１２３５の全体を回転させることにより実行する。 （もっと読む）

【課題】ガルバノミラーの駆動系の寿命を容易に認識することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザマーキング装置１は、軸を中心として回動可能なガルバノミラー２３ａ，２３ｂを回動させて、レーザ光源２０から出力されたレーザ光を走査しつつ加工対象物Ｗに照射して加工する。制御装置２６は、ガルバノミラーの累計の使用回数を計数して、累計の使用回数を記憶する。表示手段としての表示器７ａにおいては、記憶した累計の使用回数に基づいてガルバノミラーの寿命に関する情報を表示する。 （もっと読む）

【課題】レーザによる穴加工において、移動時間の短縮化を図ると共に、加工パターンを変更せず加工径を変更または調整する場合も、その変更を容易にし、調整に要する時間も短縮する。
【解決手段】本発明では、穴中心間を移動するポイントからポイントへの移動を機械的に動作するガルバノスキャナーで実施し、加工時に求められる滑らかな軌跡に追従する移動に音響光学素子を用いて機械的な移動ではなく周波数を制御して光学回折角を変化させることで、円滑な加工を実施するものである。 （もっと読む）

【課題】加工面の立体形状の指定を容易に行えるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】加工対象面の３次元形状と加工パターンとを設定するための加工条件設定部と、加工条件設定部で設定された加工条件に従って、加工対象面のレーザ加工データを生成する加工データ生成部と、加工データ生成部で生成されたレーザ加工データのイメージを２次元的及び／又は３次元的に表示可能な加工イメージ表示部とを備え、加工条件設定部がさらに、加工パターンを２次元情報として入力する加工パターン入力手段と、加工対象面の３次元形状を示すプロファイル情報を入力するための加工面プロファイル入力手段とを備え、加工面プロファイル入力手段が、加工パターン入力手段から入力された加工パターンの２次元情報を３次元的な加工対象面に従った３次元レーザ加工データに変換するための基準となる、３次元的な加工対象面を表す基本図形を指定可能に構成している。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光源を用いて線状パターンの投影を行いつつ、投影面でのスペックルの発生を抑制する
【解決手段】レーザビームＬ５０を、光ビーム走査装置６０によって反射させ、ホログラム記録媒体４５に照射する。ホログラム記録媒体４５には、走査基点Ｂに収束する参照光を用いて線状散乱体の像３５がホログラムとして記録されている。光ビーム走査装置６０は、レーザビームＬ５０を走査基点Ｂで屈曲させてホログラム記録媒体４５に照射する。このとき、レーザビームの屈曲態様を時間的に変化させ、屈曲されたレーザビームＬ６０のホログラム記録媒体４５に対する照射位置を時間的に変化させる。ホログラム記録媒体４５からの回折光Ｌ４５は、ステージ２１０の受光面Ｒ上に線状散乱体の再生像３５を生成する。受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光源を用いた照明装置のスペックルを抑制する。
【解決手段】レーザ光源５０で発生させたレーザビームＬ５０を、光ビーム走査装置６０によって反射させ、マイクロレンズアレイ４８に照射する。マイクロレンズアレイ４８を構成する個別レンズは、入射した光ビームＬ６０を拡散させ、照明対象物７０の受光面Ｒ上に所定の照射領域Ｉを形成する。このとき、光ビームＬ６０のマイクロレンズアレイ４８に対する入射位置にかかわらず、受光面Ｒ上の同一位置に照射領域Ｉが形成されるようにマイクロレンズアレイ４８を構成する。光ビーム走査装置６０により、光ビームＬ６０の屈曲態様を時間的に変化させ、マイクロレンズアレイ４８に対する照射位置が時間的に変化するように走査する。照射領域Ｉには、スペックルが抑制された照明スポットが形成される。 （もっと読む）

【課題】加工面の立体形状の指定を容易に行えるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】加工対象面上に、加工パターン入力手段により入力された加工パターンを仮想的に一致させるように、加工パターンをプロファイル情報に基づいて３次元形状に変形し、３次元レーザ加工データを生成する加工データ生成部と、３次元形状に変形された加工パターンを、加工対象面と共に３次元表示する３次元表示手段と、３次元表示手段に表示された加工対象面の配置位置を、第一のスキャナ及び第二のスキャナの可動範囲により定まる作業領域内において調整するための調整手段と、を備え、レーザ制御部は、加工データ生成部により生成された３次元レーザ加工データ、及び調整手段により調整された加工対象面の配置位置に基づいて、レーザ発振部、ビームエキスパンダ、第一のスキャナ及び第二のスキャナを備えるレーザ光走査系を制御するよう構成される。 （もっと読む）

【課題】 金属基板に形成した圧電膜の特性を向上させることが可能で、かつ、ミラーの反射性能を低下させない光走査素子及びその製造方法を提供すること。
【解決方法】 金属基板に形成された、ミラー２と、ミラー２を保持するヒンジ部１と、ヒンジ部１を保持する金属フレーム３と、ヒンジ部１に捩れ振動を生じさせる振動部とを有し、振動部はヒンジ部１から離れた金属フレーム３上に形成された圧電膜１０と上部電極４とからなり、圧電膜１０が金属基板に形成された窪み５の中に形成されている。圧電膜を形成した後、熱処理を施し、その後、圧電膜が形成された側の面に鏡面研磨が施されている。 （もっと読む）

【課題】標本のＸＹ平面内での解像度を向上させることができる、レーザ顕微鏡、光学装置、及び顕微鏡を提供すること。
【解決手段】顕微鏡本体と、顕微鏡本体に設けられる標本に対して照明光を射出する光源部と、標本と共役な位置であり、且つ標本から射出された光の復路上に配置されるピンホールと、少なくとも光源部から射出された照明光が前記標本に向かう往路上に配置され、照明光を標本上で２次元的にスキャンされるように偏向する光走査部を有する走査ユニットと、光源部から射出された照明光における標本に向かう往路のうち、復路と重ならない位置に配置され、光源部から出射された単一偏光成分からなる照明光を透過させることで複数の偏光成分からなるものに制御する偏光制御素子と、を備えた走査型共焦点顕微鏡である。 （もっと読む）