【課題】処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【解決手段】
処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して基板Ｐの全幅にわたって処理液を吹付ける第１ノズルユニット１０と、第１ノズルユニット１０より基板Ｐの搬送方向の下流側に当該第１ノズルユニット１０と向き合うように配置され、処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して当該基板の全幅にわたって処理液を吹付ける第２ノズルユニット２０とを有し、相互に向き合う第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０から吐出される処理液が基板Ｐの表面上でぶつかりあって基板Ｐの幅方向に延びる処理液の盛り上がり部分Ｍが形成されるように第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０からの処理液の吐出方向が設定された構成となる。 （もっと読む）

【課題】 気泡微細化に有利な高速流を大流量にて効果的に発生でき、ひいては気泡の微細化効果を劇的に向上させるとともに、マイクロバブル領域あるいはナノバブル領域の気泡の発生量を、従来達成し得なかったレベルにまで高めることができる気泡微小化ノズルを提供する。
【解決手段】 流れ方向下流側に下り勾配にて形成される流れガイド面２２Ｇと、流れ方向上流側にて流路ＦＰ内面に対し流れガイド面２２Ｇよりも急峻に立ち上がるように形成される流れ受け面２２Ａとを有する絞りギャップ材２２Ｑを流路ＦＰ内に配置する。それら流れ受け面２２Ａと流れガイド面２２Ｇとの交差位置に、流路ＦＰの軸断面内周縁上の第一位置ＰＰから該第一位置ＰＰと異なる第二位置ＰＳに向けて軸断面を横切るエッジ部２２Ｅが形成され、該エッジ部２２Ｅと流路ＦＰの内面との間に絞りギャップ２１Ｇがされる。 （もっと読む）

【課題】より簡素な構成によってダウンフローを発生させること。
【解決手段】スピンナ洗浄装置１は、ワークを保持するスピンナテーブル３０と、鉛直方向を回転軸としてスピンナテーブル３０を回転させるモータ４２と、スピンナテーブル３０に保持されたワークに洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル５０と、スピンナテーブル３０を収容するケーシング２０と、モータ４２に接続された羽３６Ａを備え、羽３６Ａは、モータ４２によってスピンナテーブル３０が回転する際に同時に回転し、ケーシング２０内にダウンフローを発生させる。 （もっと読む）

【課題】ワークを治具により姿勢制御可能な洗浄装置において、省スペースで安定した治具を提供することを目的とする。
【解決手段】治具２は、外枠３と、基台１０と接続可能な接続台４と、ワークＷを保持するための支持台５と、リンク機構とを備える。リンク機構は、外枠３に一端が回転可能にジョイントされ、他端が支持台５に回転可能にジョイントされた２つのリンク６ａと、接続台４にヒンジ８ｂにより回転可能にジョイントされたロッド８ａを備えた２つのエアシリンダ８とを有する。この構成により、エアシリンダ８のロッド８ａが動作することで、リンク６ａが回転すると共に、ワークＷの中心を回転中心としてワークＷの姿勢制御をすることができる。 （もっと読む）

【課題】 少ないアンモニアの使用量で半導体ウエハを効果的に洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】 電気伝導度が１μＳ／ｃｍ以下である純水にアンモニアを添加してその濃度を０．００５〜０．５％としたアンモニア水中において生成させた、粒径が５０μｍ以下で、レーザー光遮断方式の液中パーティクルカウンターによる計測において１０〜１５μｍに粒径のピークを有しており、そのピークの領域における個数が１０００個／ｍＬ以上である、空気および／または不活性気体を含有する微小気泡を含むアンモニア水を、半導体ウエハの表面に接触させて行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の蒸気洗浄方法及びその装置に係るもので、被洗浄物の蒸気洗浄に於いて、溶剤ガスの外部への流出を減少し環境に与える影響が少ない安全な蒸気洗浄を可能とするとともに溶剤の消費を減少し廉価な蒸気洗浄を可能にしようとするものである。
【解決手段】洗浄液２の上部に、被洗浄物７の蒸気洗浄を行う蒸気層５を蒸気発生部１１に接続して設け、この蒸気層５の厚みを、被洗浄物７の上下移動方向に於ける最大直径よりも小さい直径とすると共に、この被洗浄物７を洗浄液２側から上部側に蒸気層５を通過させながら、蒸気を被洗浄物７に接触して凝縮させることにより蒸気洗浄を行うものである。 （もっと読む）

【課題】従来の超音波発振器に比べて部品数が低減され、それによって小型化され、またコストが安価となった超音波発振器及びそれを備えた超音波振動装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子に高周波電力を出力する超音波発振器であって、少なくとも、高周波信号を発振する主発振ユニットと、該主発振ユニットの発振する高周波信号を入力し、高周波電力として出力する出力ユニットと、該高周波電力を変圧する出力トランスと、該変圧した高周波電力の周波数を調整して超音波振動子に出力するマッチング調整回路と、交流電源から入力した電力を直流として前記出力ユニットに供給する電源ユニットとを具備し、前記出力トランスとマッチング調整回路が一体となっているものであることを特徴とする超音波発振器。 （もっと読む）

【課題】２６〜４０質量％の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−５〜４０℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分として水酸化ナトリウムを２６〜４０質量％、（Ｂ）成分としてエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩、（Ｃ）成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも１種の可溶化剤、および（Ｄ）成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄液やすすぎ液を昇温するためのエネルギ使用量を大幅に削減し、しかも二酸化炭素排出量の削減にも寄与することができる、洗浄機を提供する。
【解決手段】少なくとも上部が開口された略箱状の洗浄機本体２内に、搬送手段を介して順次搬送されてくる容器８に対し、加温された洗浄液による洗浄と、加温されたすすぎ液によるすすぎとを行い、さらに洗浄に使用された洗浄液と、すすぎに使用されたすすぎ液とを、洗浄機本体２の下方に配置されたタンク１２内に戻すようにした洗浄機１０であって、洗浄機本体２の上部開口を覆うように天蓋９の内部に、排熱回収装置２０を設置し、箱状の洗浄機本体２内に充満する水蒸気を、排熱回収装置２０に導入し、導入された水蒸気から熱交換により回収した余剰熱量を供給水に蓄熱し、蓄熱され温水となった供給水を再使用することを特徴とする洗浄機。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】 構造が簡易でメンテナンス作業も容易な超音波洗浄システムを提供する。
【解決手段】 超音波洗浄槽１１内の液体に洗浄容器２０の一部が接触し得るように支持する容器支持部材としてのローラ部材１３，１４を超音波洗浄槽１１外に備えてなる。従って、洗浄容器２０をローラ部材１３，１４に支持させた状態で回転させると、超音波洗浄槽１１内の液体を介して洗浄容器２０内に超音波が照射され、洗浄容器２０内の被洗浄物の汚れを除去することができる。本発明によれば、ローラ部材１３，１４が超音波洗浄槽１１外に配置されているため、ローラ部材１３，１４のシール対策は簡易でよく、メンテナンス作業も容易で、製造コスト、メンテナンスコストの低減に寄与する。 （もっと読む）

【課題】サンプリングした高温流体のｐＨあるいは成分を高温状態のままで測定可能な成分計測装置およびその洗浄機構を提供する。
【解決手段】主管路１から流体を取り出す配管の下流側に前記流体のｐＨあるいは成分濃度を測定する計測装置３と、前記計測装置３で測定後の前記流体を細管に通して前記細管外部を空気で冷却する空冷式熱交換器４と、前記主管路１と前記計測装置３の間の配管に洗浄液を注入する三方バルブ５と、前記三方バルブ５と接続された洗浄液注入装置６と、前記三方バルブ５を開閉して前記計測装置３へ流入する洗浄液の注入有無を制御する制御部７とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来から高濃度酸素溶解水の製造は種々の方法で行われてきたが、いずれも得られる濃度が不十分であったり、コスト的に実現が難しかったりした。本発明は、高濃度酸素溶解水を簡単かつ安価で製造できる方法や装置を提供する。
【解決手段】酸素含有気泡を有する２以上の水流３４を衝突させることにより前記気泡をより微細化するとともに、気泡中の酸素を前記水流中に大量に溶解させる。両水流は両水流の流速の和に等しい速度で衝突するが、その衝撃は単独の水流が静止面に衝突する際の数倍から十数倍に達し、各水流に最大限の衝撃が与えられ、水流中の気泡が破壊されて微細化し、気泡中の酸素の水流中への溶解が促進される。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物の超音波洗浄によって発生した洗浄屑を、収納部に収納し洗浄液中に再浮上させないものとすることにより、洗浄液中の洗浄屑を効率よく回収除去することを可能とするものである。
【解決手段】超音波洗浄槽１０に設置した超音波振動子１４の表面を、超音波振動子１４と一定の間隔を介して被覆すると共に超音波振動を透過し得る被覆板１７により被覆部１８を設ける。この被覆部１８の外側に被覆部１８よりも下方に凹ませて洗浄屑２３の収納部２２を設け、この収納部２２には超音波振動を伝達しないか被覆部１８に比較し伝達しにくいものとしたものである。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄むらが発生し難く洗浄度を向上することができるシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスの少なくとも一方のガラス面を洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、回転中心軸から放射状に延び、前記シートガラスに対して摺動する複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれと隣接する洗浄ブラシとの間の回転中心軸間距離は、前記回転中心軸から前記羽根ブラシ部の先端までの長さと、前記隣接する洗浄ブラシの回転中心軸から羽根ブラシ部の先端までの長さとの合計より短い。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、前記隣接する洗浄ブラシの羽根ブラシ部と、この羽根ブラシ部に周上で隣り合う羽根ブラシ部との間に位置するように、前記複数の洗浄ブラシは同期して回転する。 （もっと読む）

【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台３０と、回収台３６と、供給台３０から回収台３６までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽２２，２４，２６と、互いに隣接する洗浄処理槽２２，２４，２６の間に配置された仮置台３２，３４と、基板が収納されたラック２，４，６，８を搬送する複数の搬送アーム部４４，４６，４８とを備える。搬送アーム部４４，４６，４８は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック２，４，６，８を、供給台３０又は仮置台３２，３４から洗浄処理槽２２，２４，２６に搬送する第１の動作と、洗浄処理槽２２，２４，２６から仮置台３２，３４又は回収台３６に搬送する第２の動作とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 ワーク載架用のステージに接離可能となる二重カップによる洗浄槽において、二重カップの内側カップに洗浄ノズルを付設し、内外側カップで構成される通路を、排液、又は排気用の流路とする構造であり、密封型の清浄槽である。渦状の流れをつくり、ワークに均一に洗浄液が噴射され、均一な清浄が可能となる。通路による吸引効果と、内側カップの周辺部には吸引力が生成し、渦の発生は可能である。しかし、渦発生力が弱いので、渦のトルネード効果は期待できないと考えられる。
【解決手段】 本発明は、カプセル型の開閉自在の洗浄室と、洗浄室の一方に設けたノズルと、他方に設けた吸引部と、洗浄室内に設けた回転自在のワーク支持台とで構成したカプセル型の洗浄機であり、洗浄室において、ノズルより噴射される洗浄液、洗浄水、又は空気を旋回するとともに、吸引部に誘導可能とする構成としたカプセル型の洗浄機である。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理装置および基板処理方法において、処理不良の基板が発生するのを未然に防止するとともに、無駄な凝固体の形成・解凍除去を抑制して稼動効率を高める。
【解決手段】基板の表面に形成される液膜の膜厚が所定範囲内となっている場合のみ、その基板に対して凍結処理（ステップＳ５）、凍結膜の解凍除去（ステップＳ６）および基板乾燥（ステップＳ７）を実行している。したがって、液膜の膜厚が所定範囲を超えて十分なパーティクル除去率が期待できない場合には、レシピの途中であるが、基板に対する凍結処理（ステップＳ５）、凍結膜の解凍除去（ステップＳ６）および基板乾燥（ステップＳ７）を行うことなく、基板処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】各種の設備や機器に沈積されたスラッジを効率よく除去する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、水、ＥＴＡ（ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）、ＮＨ_３、ＤＴＰＡ（Ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｒｉａｍｉｎｅ ｐｅｎｔａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）、ＥＤＴＡ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅｔｅｔｒａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）及びＮ_２Ｈ_２からなる群より選択される少なくとも一種を含む洗浄液に気体窒素、液体窒素、及びドライアイスからなる群より選択される少なくとも一種を注入してスラッジを除去する物理化学的洗浄方法を提供する。上記洗浄方法は、各種の設備や機器の母材の表面、構成品の表面、隙間に発生しまたは沈積されたスラッジを効率よく除去することができ、且つ原子力発電所において使用される蒸気発生器、ボイラー、熱交換器などの洗浄に活用可能である。 （もっと読む）

【課題】ノズルの動作を簡単に教示することができる基板処理装置およびティーチング方法を提供する。
【解決手段】記録開始指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、記録開始指令が入力されてからの経過時間をタイマー２５によって計測させる。さらに、ＣＰＵ２３は、ノズルの位置を検出するエンコーダ２２の出力と経過時間とをメモリー２４に記憶させる。そして、記録終了指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、エンコーダ２２の出力と経過時間の記憶を終了させる。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのエンコーダ２２の出力は、経過時間と関連付けられて１つの動作データとしてメモリー２４に記憶される。 （もっと読む）