【課題】より安全性を高めることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器の提供。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、水を含む液体を収容する液体収容部４と、気体を収容する気体収容部５と、気体収容部５中の気体を液体収容部４へ導く気体通路３ａが形成され、液体収容部４と気体収容部５とを隔てる隔壁部３と、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、第２電極１３を接地した状態で第１電極１２と第２電極１３との間に所定の電圧を印加するようにした。 （もっと読む）

【課題】金属帯の表面を電解洗浄するにあたって、板幅方向に均一に電解洗浄することを可能とする。
【解決手段】連続的に搬送される金属帯１の表面を電解洗浄する金属帯１の連続電解洗浄方法において、金属帯１の電解洗浄すべき洗浄面１ａと相対向してその金属帯１の搬送方向Ｐに順に第１電極３１及び第２電極３３を配設する。第１電極３１及び第２電極３３から金属帯１の洗浄面１ａに金属帯１の板幅以上の幅をもつ層状のラミナー流Ｗｒとしての電解液を噴射する。第１電極３１及び第２電極３３の何れか一方を陽極、他方を陰極としてこれらの間で電圧を印加して、噴射している電解液Ｗｒ及び金属帯１を通して通電させる。これにより、金属帯１の板幅方向端部での電流集中を抑えて、金属帯１の板幅方向に均一に電解洗浄することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の表面に付着した塵埃などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後に汚染物質が被洗浄物の表面に再付着することを防止した湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの洗浄を湿式で行うための洗浄槽２と、洗浄槽２の下方側から槽内へと洗浄液Ｌを供給する供給口９ａと、洗浄槽２の上方側から槽外へと洗浄液Ｌを排出する排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、基板Ｗを洗浄槽２内で搬送させる搬送機構１４とを備え、洗浄槽２内の下方から上方へと向かう洗浄液Ｌの流れと共に、基板Ｗの搬送方向Ｘとは逆向きの洗浄液Ｌの流れを発生させるように、供給口９ａと排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃとの何れかによって供給及び／又は排出される洗浄液Ｌの流れを調整する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法により微結晶シリコン膜を形成する際に副生成物として形成されるポリシラン類を安全に処理する方法の提供。
【解決手段】プラズマＣＶＤ法により、基板上に微結晶シリコン膜又はアモルファスシリコン膜を堆積する際に、真空チャンバー内で副生成物として生成し、真空ポンプ内に堆積・付着するポリシラン類を処理する方法であって、真空ポンプ内へ潤滑油から選ばれた有機溶媒を注入・充填し、所定の時間放置し、次いで真空ポンプを分解し、ポリシラン分散有機溶媒が付着している分解された構成部品を洗浄油で洗浄することからなる。 （もっと読む）

【課題】表面処理に使用した処理容器を簡単な作動で洗浄できる水洗装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器９を載せる受板７１と、受板７１に処理容器９を固定する固定機構と、受板７１及び処理容器９を共に上下反転させる反転機構と、上下反転された処理容器９を下方から覆うホッパ７４と、を備えており、上下反転された処理容器９内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器９内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置である。 （もっと読む）

【課題】ボイラによる加熱量を減少させるとともに熱効率良く温水を製造することができる温水洗浄システムを提供する。
【解決手段】温水洗浄システム１は、ボイラから得られた蒸気によって洗浄用水を加熱する温水タンク５と、温水タンク５にて得られた加熱後の洗浄用水を用いて使用済みフィルムを洗浄するフィルム洗浄装置７と、フィルム洗浄装置７から排出された洗浄後排水によって温水タンク５に供給される洗浄用水を加熱する第１熱交換器１１と、第１熱交換器１１から流出された洗浄後排水によって熱源水を加熱する第２熱交換器１２と、第２熱交換器１２によって加熱された熱源水を熱源として動作し、第１熱交換器１１によって加熱された洗浄用水を加熱するヒートポンプ１７とを備えている。ヒートポンプ１７によって加熱された洗浄用水は、温水タンク５へ供給される。 （もっと読む）

【課題】エッチングエンドのタイミングを確実に判別し、エッチングに必要な薬液の使用量を低減する。
【解決手段】エッチング室の入口から導入された処理基板を傾斜した状態で搬送する送りローラと、エッチング室内において送りローラによって搬送される処理基板に向けてエッチングに必要な薬液を吐出する吐出ノズルと、エッチング室内の入口側に設けられ傾斜した状態で搬送される処理基板の傾斜上方に位置する一端部に対向する第１センサ、エッチング室内の入口側に設けられ傾斜した状態で搬送される処理基板の傾斜下方に位置する他端部に対向する第２センサ、エッチング室内の出口側に設けられ処理基板の一端部と他端部との間の中央部に対向する第３センサを含むセンサ群と、センサ群に含まれる第１乃至第３センサの各々からの出力信号に基づいてエッチングエンドを判別する演算装置と、を備えたエッチング装置。 （もっと読む）

【課題】往復揺動による表面処理において、処理効率が高く、かつ処理時間の短い、耐久性に優れた表面処理方法を提供する。
【解決手段】揺動槽１内に処理材１２及び被処理物１３を収容し、揺動槽１を略等速で往復揺動させて被処理物１３の表面を処理する表面処理方法であって、往復揺動において、少なくとの２以上の速度の異なる揺動区間を有し、揺動区間のうち、揺動端を含む揺動区間における速度が最も小さい。 （もっと読む）

【課題】化石燃料の使用量の削減を図ることができ、ランニングコストおよびＣＯ_２排出量を抑制することができ、且つ作業者の作業環境の改善を図ることが可能な洗浄システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる洗浄システムの構成は、湯を用いて被処理体（番重１０２）を洗浄する洗浄システム１００であって、被処理体を移動させる被処理体移動経路１０４と、被処理体移動経路の下方に配置され、湯を貯留する貯湯槽１１０ａおよび１１０ｂと、貯湯槽に接続され、貯留された湯を被処理体に散水する散水手段１２０ａおよび１２０ｂと、空気を熱源として貯湯槽に供給する湯を生成するヒートポンプ１３０と、ヒートポンプで冷却された空気を被処理体移動経路が設置される室内の所定位置に噴出する冷気噴出器１０８ａ〜１０８ｃと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 簡易の構造であって廉価にて構築可能な流体加熱装置を提供する。
【解決手段】 流体加熱装置の構造を、流体の流入口と流出口をと有する流体通路、加熱源、流体通路と加熱源とを内部に包含するヒータケース、該ヒータケース内に充填されて加熱源の発する熱を流体通路に伝達する熱伝導小片と、を有するものとし、熱伝導小片は、加熱源と流体通とを覆うように充填される。 （もっと読む）

【課題】電気分解によって発生するスケールの堆積を確実に抑制することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】この洗浄装置ＡＰは、対象に向けて機能水を吐出するノズル１８と、給水源から供給された水をノズル１８に供給する給水路１２と、給水路１２に設けられ、一対の電極を有し、給水源から供給された水を電気分解して性状を変化させて機能水と成す電解槽１６と、を備え、給水源から供給された水のＳｉイオン濃度を高めるＳｉイオン濃度調整部１４を、電解槽１６よりも上流側に設けている。 （もっと読む）

【課題】
オゾンガス発生器の洗浄または乾燥を可能にし、長期間にわたり、高濃度なオゾン発生効率の維持または回復を行うことが可能なオゾン水生成器を提供するものである。
【解決手段】
オゾンガスを発生するオゾンガス発生器１０１と、前記オゾンガスと液体を混合する混合部１０２と、液体を貯液する貯液槽１０３とを備えたオゾン液生成器において、前記オゾン液生成器１００に液体を循環させる循環経路Ａとを備えていることで、オゾンガス発生器の洗浄を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤および、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤、ニトロキシラジカルおよび亜硝酸塩からなる組成を有する分離膜用洗浄剤とする。このような組成とすることにより、洗浄剤の有効成分である酸化剤が分離膜の目詰まり物質を化学的に酸化分解する際に、ニトロキシルラジカルが触媒として作用し、亜硝酸塩が助触媒として作用するので、洗浄剤の洗浄力を高めることができる。この結果、分離膜に強固に付着・堆積した目詰まり物質の除去が促進される他、酸化剤の使用量を減らしたり、洗浄時間を短くすることも可能となり、更には膜濾過装置への負荷が軽減されるので同装置の寿命を長くすることも期待される。
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【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理方法および基板処理装置において、スループットの低下を招くことなく、しかも優れた面内均一性でパーティクル等を除去する。
【解決手段】基板Ｗの回転中心Ｐ（０）から基板Ｗの外縁側に離れた初期位置Ｐ（Ｒin）の上方に冷却ガス吐出ノズル７を配置し、回転している基板Ｗの初期位置Ｐ（Ｒin）に冷却ガスを供給して、初期位置Ｐ（Ｒin）および回転中心Ｐ（０）を含む初期領域に付着するＤＩＷを凝固させる。そして、初期凝固領域ＦＲ0の形成に続いて、ノズル７から冷却ガスを供給しながら初期位置Ｐ（Ｒin）の上方から基板Ｗの外縁部の上方まで移動させることによって、凝固される範囲を基板Ｗの外縁側に広げて基板表面Ｗｆに付着していた全ＤＩＷ（凝固対象液）を凝固して液膜ＬＦ全体を凍結する。 （もっと読む）

【課題】振動モータにより容器を振動させて、容器内に収容した処理対象物に対して、洗浄、滅菌等の処理をする場合に、容器の振動を効率的に処理対象物に伝達することができる振動処理装置を提供すること。
【解決手段】両端部が壁部２１Ａ、２１Ｂにより閉塞され、処理対象物を収容する容器２０と、前記容器２０を振動させる振動モータ５０と、前記容器２０を支持する支持部材と、洗浄液供給部材６０と、蒸気供給部材６５と、前記容器２０から処理液を排出する処理液排出手段７０と、前記処理対象物を排出する処理対象物排出部２７とを備えた滅菌装置１であって、前記容器２０は、前記処理対象物と接触することで、前記振動モータ５０の振動を前記処理対象物に伝達するためのシリコンゴムライニング２３を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より洗浄性の高いハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、キレート剤（成分Ｂ）と、アンモニウム基及びアミノ基のうちの少なくとも１つを含む構成単位（ｃ１）と、陰イオン性基を含む構成単位（ｃ２）とを含む両性高分子化合物（成分Ｃ）と、水（成分Ｄ）と、を含有し、成分Ｄ以外の成分の含有量の合計を１００重量％としたとき、成分Ａの含有量が１０〜５５重量％であり、成分Ｂの含有量が５〜６０重量％であり、成分Ｃの含有量が５〜６０重量％であり、且つ、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの合計含有量が３０〜１００重量％であるハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー４０内の保持テーブル１０上にワークＷを保持し、保持テーブル１０を回転させた状態でワークＷの上面に洗浄水Ｃを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル１０の外周側面１２に形成した複数の羽１３によって保持テーブル１０の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー４０内におけるダクト５０の反対側のミストもダクト５０側に導く。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する樹脂成形体に付着した付着物を有効に洗浄できるとともに、上記樹脂成形体を脱臭することができる樹脂成形体の洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】樹脂成形体が投入される投入口１１と、水平方向に長さを有し、一端側には上記投入口１１と連通し、内部には上記樹脂成形体が収容される収容空間を有してなり下面には複数の開口が形成された処理槽３１と、この処理槽３１内に配置され、駆動装置２１により回転駆動する回転軸７２と、基端が上記回転軸７２にそれぞれ固定され、先端は上記処理槽３１の内側に位置してなる複数の回転羽根と、上記処理槽３１の他端側に形成され、上記樹脂成形体が洗浄された後に排出される排出路６９と、上記処理槽内の上流側に洗浄水を噴射する洗浄水噴射ノズル７６と、この洗浄水噴射ノズル７６よりも下流側に殺菌水を噴射する殺菌水噴射ノズル７８と、がそれぞれ配置されてなる。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で、必要十分な洗浄を行うことができる容器内洗浄装置を提供する。
【解決手段】容器内洗浄装置１は、開口部を下にした状態で被洗浄容器２を収納可能な受け容器３と、受け容器３から被洗浄容器２の開口部を通って上方に伸びる洗浄管４と、この洗浄管４に取付けられて被洗浄容器２の内壁に向かって高圧の液剤を噴射する噴射部５と、受け容器３の底面または側面に取付けられる廃液ダクト６と、被洗浄容器２を受け容器３内で回転させる回転機構７とを備えている。受け容器３内の溝８ａに被洗浄容器２の開口部の端部を嵌合させて被洗浄容器２を回転させた状態で、被洗浄容器２の内壁に高圧の液剤を噴射し、洗浄後の廃液は受け容器３から廃液ダクト６に流すようにすることで、被洗浄容器２の内壁に塗料等がへばりついている場合でも、一回の洗浄できれいに除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の研磨された端面を迅速且つ適正に洗浄して、ガラス基板の特に表面におけるパーティクル付着の問題に的確に対処する。
【解決手段】 ガラス基板製造工程で、一枚のみのガラス基板３の研磨された端面を洗浄用液体により洗浄するガラス基板洗浄装置であって、洗浄用液体７をガラス基板３の研磨された端面３ａの微小凹部内に存する異物を掻き出すために必要な噴射圧力であって且つガラス基板３を損傷させない噴射圧力で該端面３ａに対して噴射する液体噴射手段５が、ガラス基板３の端面３ａの外方側から、該端面３ａが存する辺の長手方向と直交する面内に存し且つ該ガラス基板３の表裏面と平行であって該ガラス基板３の表裏方向の中心を通る直線Ｌ、を基準として、その表側と裏側とにおけるそれぞれの角度が２０〜７０°の範囲で当該端面３ａに対して洗浄用液体７を噴射するように構成される。 （もっと読む）