【課題】 対象物が平坦面だけでなく、湾曲面や狭隘な箇所の場合にも適用可能な防護カバーを提供する。
【解決手段】 高圧洗浄機１５の噴射ノズル１９に取り付けられ、該噴射ノズル１９から噴射されて対象物３１の表面で跳ね返った洗浄液３２や、対象物３１の表面から除去された汚れ等の付着物３３を受け止める防護カバー１であって、前記噴射ノズル１９に取り付けられて、前記噴射ノズル１９の軸線を中心として開閉可能であるとともに、開閉角度の調整が可能であり、かつ開いた状態の内面側で前記対象物３１の表面で跳ね返った洗浄液３２や汚れ等の付着物３３を受け止め可能なカバー本体２と、該カバー本体２を開閉させる開閉手段８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡素な手法により２つのカップを一体に上昇させることが可能な液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１では、被処理基板の回転保持部２１を囲むように設けられた第１、第２のカップ５１、５２は、回転する被処理基板Ｗから飛散した処理液を下方側へ案内し、第１の駆動部６１０及び第２の駆動部６２０は、処理液を受け止める位置と、その下方側の位置との間で第１のカップ５１及び第２のカップ５２昇降させる。制御部７は、第１、第２のカップ５１、５２の同時上昇時、第１のカップ５１の上昇速度を第２のカップ５２の上昇速度よりも大きくし、第１のカップ５１またはその第１の昇降部材は、前記第２のカップ５２またはその第２の昇降部材に下方側から重なり合って、第１の駆動部の駆動力を伝達させることにより、これら第１のカップ５１と第２のカップ５２とを同時に上昇させる （もっと読む）

【課題】非常に繊細でかつ高価な医療器具（例えば、眼科用器具）を洗浄するのに好適なスチーム器具洗浄装置を提供する。
【解決手段】耐熱性弾性突起群が表面にブラシ状に分散配置された載置マット板２１、耐熱性弾性突起群が裏面にブラシ状に分散配置された押圧マット板２２、および載置マット板２１の耐熱性弾性突起群と押圧マット板２２の耐熱性弾性突起群との間に医療器具ＭＴを挟持したものを収納するトレイケース２３からなる洗浄トレイ２０と、洗浄トレイ２０を中心支軸２３ａ，２３ｂを中心に回転させる回転駆動部１３と、洗浄トレイ２０に挟持された医療器具ＭＴにスチームを噴射して洗浄するスチーム噴射ノズル３２ａ，３２ｂと、洗浄トレイ２０に挟持された医療器具ＭＴに空気を吹き付けて乾燥するエアーブロー吹出口４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】高圧水の吐出圧の調整可能範囲の下限をより低く設定できるようにする。
【解決手段】この高圧洗浄機１０は、駆動源３２でポンプ４１を駆動し、供給される水をポンプ４１で加圧して高圧水を発生させる洗浄機本体１１と、洗浄機本体１１とホースを介して接続され、洗浄機本体１１から送られてくる高圧水を吐出する吐出装置２１と、駆動源３２の回転数を設定する設定部１５と、設定部１５によって設定された回転数となるように駆動源３２の駆動制御を行う制御部３５，３６と、を備えている。そして、制御部３５，３６は、駆動源３２の回転数を検出する回転数検出部３５と、回転数検出部３５で検出された駆動源３２の回転数を取得するとともに、設定部１５で設定された回転数を駆動源３２が維持するように駆動源３２に対して駆動制御信号を発信する制御回路３６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の減圧と復圧とを繰り返す洗浄装置において、復圧時にもパッキンによる気密が破壊されないようにする。
【解決手段】洗浄装置１は、洗浄槽２内を減圧する減圧手段９と、洗浄槽本体３へのドア４のロック機構１８を備える。洗浄槽本体３の開口部を閉じるようドア４を配置した状態で、洗浄槽２内の気体を減圧手段９によって外部へ吸引排出して、その吸引力でドア４を洗浄槽本体３の側へ引きつけて、復圧時にもパッキン１４による気密を保つようパッキン１４を圧縮した状態で、ロック機構１８により洗浄槽本体３にドア４をロックする。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】昼夜の別を問わず、店舗が営業している最中なら店舗側が望む時間帯に清掃作業が行え、清潔感溢れる店舗を創出することが可能となり、清掃作業の間、客は通常通り買い物をすることができる陳列棚板の洗浄方法および陳列棚板の洗浄装置。
【解決手段】洗浄手段を積載した車両を店舗へ伺わせ、予備用陳列棚板を前記洗浄手段で洗浄し、洗浄を終えた予備用陳列棚板を取り付けた後に、取り外された陳列棚板を前記洗浄手段で洗浄し、洗浄を終えた陳列棚板を別のゴンドラの陳列棚板と差し替えて取り付ける、という手順を順次繰り返すことにより、前記店舗内に設置された前記ゴンドラの陳列棚板を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学ガラスの洗浄時に生じるダメージを定量的に評価し、硝材に対して好適な洗浄条件の調査に有用な光学ガラスの潜傷評価方法及び潜傷評価装置を提供する。
【解決手段】評価対象の光学ガラスの表面に潜傷を付与する潜傷付与手段２と、潜傷付与手段２により付与された潜傷の形状を測定する第１の形状測定手段３と、第１の形状測定手段３により潜傷の形状を測定された光学ガラスの表面に洗浄液を接触させ、潜傷を拡大させる洗浄手段４と、洗浄手段４による洗浄後に、潜傷の形状を測定する第２の形状測定手段５と、第１の形状測定手段３及び第２の形状測定手段５で得られた結果から光学ガラスの洗浄前後の潜傷の状態を対比する対比手段６と、を有する光学ガラスの潜傷評価装置１。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微生物が関与する様々な分野において、硬質表面等に形成されたバイオフィルムを効果的に除去でき、更に除菌作用も発揮できるバイオフィルム除去用組成物を提供することである。
【解決手段】定構造の第四級アミン化合物を使用することにより、バイオフィルムを効果的に除去でき、しかも微生物の除菌も可能になる。 （もっと読む）

【課題】基板のダメージを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、基板Ｗの上面内の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル５と、基板Ｗを保護する保護液を基板Ｗの上面に向けて吐出する保護液ノズル６とを含む。保護液ノズル６は、保護液が基板Ｗの上面に沿って噴射領域Ｔ１の方に流れるように基板Ｗの上面に対して斜めに保護液を吐出し、噴射領域Ｔ１が保護液の液膜で覆われている状態で処理液の液滴を噴射領域Ｔ１に衝突させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物に対する損傷を抑制するとともに、洗浄性の高い洗浄液を生成する装置を提供する。
【解決手段】洗浄液生成装置は、気体が過飽和に溶存している液体に、物理的刺激と電気的刺激の少なくとも一方の刺激を付与して、液体に気泡が含有された洗浄液を生成する刺激付与部１を備える。刺激付与部１は、洗浄液を吐出する吐出口２の前段に配置されている。好ましくは、気体が過飽和に溶存している液体を生成する過飽和溶存液生成機構５を備えている。物理的刺激は、振動、熱、光、撹拌、圧力変化のいずれかであってよい。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】微小気泡の安定供給を実現する。
【解決手段】送液装置１は、微小気泡を含む液体が流れる配管３と、その配管３の途中に設けられ、配管３内を流れる液体に旋回運動を与えて配管３内に旋回流を発生させる旋回流発生部８とを備える。これにより、前述の旋回流が配管３内に発生するため、液体中の微小気泡が配管３の内周面に付着することが抑止されるので、微小気泡の安定供給を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面の検査結果に応じて基板を適正に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置における搬入部１１と、第１処理部１２と、第２処理部１３と、搬出部１４とは、昇降用モータ２０の駆動により、それらが水平面に対して平行に向く位置と水平面から傾斜した位置との間を、軸１５を中心に一体となって揺動する。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面に対して傾斜させる。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が不均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面と平行に向く位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】基板の全面を十分に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板を保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗに向けて処理液の液滴を吐出するノズル４とを含む。ノズル４には、処理液の液滴を吐出する複数の吐出口３３が一列に並べられた列Ｌ１が複数列配置されている。ノズル４はノズルアーム１８に保持されて、スピンチャック２に保持された基板Ｗの主面に垂直な垂直方向Ｄ１から見たときに基板Ｗの主面の回転中心Ｃ１を通る軌跡Ｘ１に沿って移動する。ノズル４は、垂直方向Ｄ１から見たときに複数の列Ｌ１と軌跡Ｘ１とが交差するようにノズルアーム１８に保持される。 （もっと読む）

【課題】 エアシステムによりパイプから内容物を除去するための方法。
【解決手段】 この方法は、内容物がパイプ内で移動を開始するまで高圧且つ低速でエアシステムにより空気を供給するステップと、パイプから内容物の大部分が除去されるまで、低圧且つ高速でエアシステムにより空気を供給するステップと、実質的に残りの内容物全部がパイプから除去されるまで、低圧且つ高速で空気の供給を引き続き行うステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Ａは、プリント基板Ｐを収容する洗浄槽１と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ１０と、洗浄槽１内に設けら、コンプレッサ１０から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル６と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽１内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル６の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構７とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Ｐに噴霧され、予備洗浄ノズル６の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル６から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Ｐに噴霧される。 （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】配管の内壁に付着した凝集体等の付着物を、薬剤等の化学的作用や高圧ガスによる圧力を用いるのではなく、液体が衝突するときの衝撃により除去できる、低コストの洗浄方法を提供する
【解決手段】液状流体を移送するための配管の洗浄方法であって、内径Ｄの配管を、複数の洗浄液のドメインと複数の気体のドメインとを交互且つパルス状に連続して通過させる工程を備え、配管内を通過する、洗浄液の各ドメインが占める平均長さをＬ_W、気体の各ドメインが占める平均単位長さをＬ_Gとした場合、Ｌ_W／（Ｌ_W＋Ｌ_G）が０．１５〜０．８５であり、且つ、Ｌ_W＋Ｌ_G≦５０・Ｄである、を満たす。 （もっと読む）