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Fターム[3B201BB92]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 清浄流体の種類 (4,381) | 液体、蒸気 (3,917)

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【課題】防護フェンスに用いる簡易最適な床面清掃用の防護体及びその製造方法を提供せんとする
【解決手段】床面清掃用の防護体は、袋体1内に液体吸収材2が収容された棒状体3である。袋体1は液が浸透する折曲可能な素材で形成されていること、液体吸収材2は棒状体3が折曲可能な状態で袋体1内に収容されていること、液体吸収材2には中和剤液5が含浸されている。袋体1内に、液体吸収材2を折曲可能な状態で収容した棒状体3を、両端面が閉鎖された樋状容器4へ注入した中和剤液5に浸し、中和剤液5を液体吸収材2に吸収させた。 (もっと読む)


【解決手段】 物品洗浄装置1は、洗浄液13を貯溜した洗浄槽3と、洗浄液13を攪拌する攪拌手段21とを備えている。攪拌手段21は、対向する壁面3A,3A’に配置された複数の噴射ノズル22と、複数の電磁開閉弁25とを備えており、それらの作動は制御手段26によって制御される。
複数の金属部品Wを収容した洗浄カゴBを洗浄液13内に浸漬させ、その状態において制御手段26がポンプPを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁25を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁25と対応する噴射ノズル22から洗浄液13が噴射されて、洗浄槽3内の洗浄液13は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Wを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置100はウエハWを上方から支持する回転自在の基板支持部10と、基板支持部10の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハWに対して供給するトッププレートノズル10nとを備えている。トッププレートノズル10nは基板支持部10に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル10nを基板支持部10から離間した状態でトッププレートノズル10nからリンス液をウエハWに対して供給する。トッププレートノズル10nを基板支持部10に接近させた状態で、トッププレートノズル10nからリンス液を基板支持部10の下面に供給して洗浄する。 (もっと読む)


【課題】極めて微細且つ高精度パターンを洗浄乾燥するための、フッ素イオンを遊離せず、且つ引火点を持たない洗浄乾燥剤、および基板の洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄乾燥剤は、一般式(1)


で表される含フッ素3級アルコールまたは一般式(2)


で表される含フッ素3級ジオールを含む。 (もっと読む)


【課題】ゴム栓内部の狭くて奥まった凹部に付着残存する塵等のを十分に除去できるようにしたゴム栓洗浄方法を提供する。
【解決手段】ゴム栓Gを貯留槽1に投入して、その下部の洗浄用配管2に導入し、洗浄用配管2の基端部側に設けた加速用ノズル3より供給される高圧水流によって配管長手方向に移送しながら、洗浄用配管2の複数箇所に設置した、洗浄用配管径方向及び軸線方向に対し斜め方向に高圧噴射水を噴射する複数の洗浄用ノズル4によって洗浄用配管2内に渦巻き状の乱流16を発生させて、この乱流16によりゴム栓Gを洗浄し、この洗浄によりゴム栓Gから除去された異物を洗浄用配管2の先端部側に設けた異物排出ポート5より排出させると共に、貯留槽1に設けたオーバーフロー口6から水及び水より軽い異物をオーバーフローさせて排出し、洗浄されたゴム栓Gを水と共に貯留槽1に戻して回収する。 (もっと読む)


【課題】気体を液体から分離するための気液分離器であって、当該気液分離器に供給される液体が当該気液分離器の内部から噴出することが防止された気液分離器、それを備えたオゾン水生成装置、およびそれを備えた衛生器具用洗浄装置を提供する。
【解決手段】気液分離部140は、容器104と仕切部材147と仕切部材148とを備えている。仕切部材147は、容器104の底面145から上方に向かって延びている。仕切部材148は、天井面146から下方に向かって延びている。容器104の内部は、仕切部材147と仕切部材148とによって、空間41と空間42と空間43とに区画されている。周壁149には、流入口141と流出口142とが形成されている。天井面146には、流出口143が形成されている。流出口143は、空間43の上方に配置され、空間43と容器104の外部とを連通する。 (もっと読む)


【課題】金属の洗浄において、低起泡性能、防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)と下記一般式(2)で表される非イオン界面活性剤とを含有するものとする。




式(1)中、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nは1〜30の数であり、式(2)中、POはオキシプロピレン基、EOはオキシエチレン基、p、rはそれぞれ平均付加モル数として、p=0〜5、r=3〜15である。 (もっと読む)


【課題】高価な宝石を容器に大量に収納する場合に、宝石が損傷せず、かつ今までになかった多岐に渡る楽しみ方ができるようにする。
【解決手段】無色透明又は有色透明の容器に宝石を収納する際に、前記容器の容積の80±15%まで宝石を収納し、かつ収納した状態の宝石の全面が液体中に浸漬されるまで、前記液体を充填するので、容器を倒したり振ったりしても、宝石の移動距離が小さくかつ液体が緩衝作用をすることにより、宝石の受ける衝撃が小さくなり、損傷し難い。その結果、高価な宝石を沢山収納する場合に好適である。この場合、各種の光学作用が遺憾なく発揮されるので、美しい光景を多岐に楽しむことかできる。また、液体の減少に伴って、虹色に屈折させたり、通常と違った見え方以上の煌く変化を楽しむことができる。 (もっと読む)


【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 (もっと読む)


【課題】外壁を洗浄するための洗浄剤を洗い流す工程に関連し、環境汚染を防ぐための新規な技術を提案する。
【解決手段】酸性洗浄剤を建物外壁の汚れ部分に直接塗布する第3工程S3と、アルカリ性洗浄水により酸性洗浄剤を洗い流す第4工程S4を有する。酸性洗浄剤を含む排水を中性に近づけることができ、そのまま下水に排水してしまう場合と比較して、環境負荷を低減することができ、環境汚染を防ぐことが可能となる。また、アルカリ性洗浄水による中和の作用によって、残留してしまった酸性洗浄剤のpHを高めて中性に近づけることができるため、仮に、酸性洗浄剤が完全に洗い流されない場合であっても、酸性洗浄剤を中性に近づけることによって、外壁10の変色や劣化を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成でかつ効率良く木材を洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置1は、傾斜しつつ回転可能に設けられた円筒状のドラム10と、突出部がドラム10の内周側に突出するように配置された複数の鋲11と、ドラム10の内周に水を噴霧するノズル12と、ノズル12に水を供給するパイプ13と、を備える。突出部は、ドラム10の側面に対してらせん状に設けられる。パイプ13は、ドラム10の外周側に沿って配置され、ドラム10と一体回転可能に設けられるとともに、ドラム10の一端側に開口する吸水口13aを有する。吸水口13aは、ホース14により水源と接続され、ホース14と吸水口13aは、連結器15によって互いに相対回転可能に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 基板の搬送速度を変更した場合においても、基板を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板100を水平方向に搬送する搬送ローラ9と、処理液吐出口21が形成され、この処理液吐出口21とガラス基板100の表面との間が処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された処理液吐出ノズル2と、処理液保持面31を備え、処理液吐出口21と処理液保持面31との間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材3と、ガラス基板100の表面に供給された処理液がガラス基板100の搬送方向に対して上流側に流出することを防止するためのエアナイフ5と、ガラス基板100の裏面に洗浄液を供給する一対の裏面洗浄部4とを備える。 (もっと読む)


【課題】 従来洗浄困難であった被洗浄面全域をコンタミが覆った場合であっても、該コンタミを好適に除去する。
【解決手段 】被洗浄面に対して垂直な方向から洗浄流体を吹き付ける第一の洗浄工程と、第一の洗浄工程により部分的に露出した被洗浄面に対して垂直とは異なる所定の角度を以って洗浄流体を吹き付ける第二の洗浄工程と、によって被洗浄面とコンタミとの剥離部分を拡大させてコンタミの除去を図る。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の均一な洗浄が行え、かつダメージを低減できる超音波洗浄装置を実現すること。
【解決手段】超音波洗浄装置は、被洗浄物8を洗浄液7で浸した洗浄槽2と、前記洗浄槽2の底面に配置され、前記洗浄液7を振動させる複数の超音波振動素子302と、前記素子毎の共振周波数を記憶するメモリ部409と、発振周波数を切り替え可能な発振部402と、前記素子302をランダムに切り替えて、前記メモリ部409に記憶された素子毎の共振周波数に基づいて前記発振部402を制御し、前記素子に高周波電力を供給する制御部401とを具備する。 (もっと読む)


【課題】止まり穴に照射して止まり穴内を洗浄した洗浄液を回収し、再利用することができる止まり穴洗浄装置を提供する。
【解決手段】止まり穴洗浄装置は、被洗浄物に形成された止まり穴に洗浄液を供給する供給口と止まり穴から洗浄液を回収する回収口とを備え止まり穴の開口を覆う蓋部材と、洗浄液を循環用タンクから供給口へ供給する供給路と洗浄液を回収口から循環用タンクへ回収する回収路とを備えた循環路と、洗浄液を循環路で循環させる循環用ポンプと、供給口へ供給する洗浄液に微細気泡を生成する気泡生成手段とを備えている。循環用ポンプにより循環用タンクから取り出された洗浄液は、気泡生成手段により微細気泡が生成され、蓋部材の供給口から止まり穴内に照射される。止まり穴内を洗浄した洗浄液は蓋部材の回収口から循環用タンクに回収され、止まり穴の洗浄に再利用される。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】清掃対象表面に付着した汚染物質を効率的に清掃して分離回収する。
【解決手段】清掃対象A表面に対向して周縁部が接触配置される清掃ヘッド1と、清掃流体Fが清掃ベッド1の内部空間1cを介して循環する流体循環配管2と、清掃流体Fが補充可能に貯留される貯留タンク3と、貯留タンク3に貯留される清掃流体Fを流体循環配管2に循環させる循環駆動源4と、清掃流体Fに対し汚染物質Cがイオン結合する塵物質Wから分離可能となる特性の分離因子を供給する分離因子供給手段5と、流体循環配管2を循環する清掃流体Fを加圧した状態で清掃ヘッド1の流体吐出口1aから清掃ヘッド1の内部空間1cに吐出させる加圧吐出手段6と、流体循環配管2のうち清掃ヘッド1の流体回収口1bから貯留タンク3に至る途中に設けられ、循環する清掃流体F中に含まれる塵物質Wと汚染物質Cとを分離した状態で回収する回収手段7と、を備える。 (もっと読む)


【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第1の処理液を分別回収して第2の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Gに第1の処理液Dを供給する第1の処理液供給手段9と、前記第1の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段21と、前記被処理基板の基板面に対し前記第2の処理液Sを吐出する第2のリンス手段23と、前記気体供給手段と前記第2のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第2の処理液を吐出する第1のリンス手段22と、前記基板搬送路上において、前記第1のリンス手段により供給された第2の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段27とを備える。 (もっと読む)


【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置1は、内部空間S1を有するチャンバー2と、チャンバー2内で基板Wを保持して回転軸線A1まわりに回転させるスピンチャック3と、チャンバー2内で基板Wの上面に対向する遮断板4と、遮断板4と基板Wとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構5と、基板Wに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Wの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル29と、処理液ノズル29に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 (もっと読む)


【課題】銅系材や亜鉛系材について付着有機物の除去を適切に行いつつ、耐食層の除去に基づいて生じる洗浄上がりおよびめっき後の外観不良を抑制することが可能な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性リン酸イオン物質、当該水溶性リン酸イオン物質以外の水溶性アルカリ性イオン物質、キレート剤、および界面活性剤を含有し、pHが10〜12であって、腐食抑制剤を含有しない水系組成物。 (もっと読む)


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