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Fターム[3B201BB92]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 清浄流体の種類 (4,381) | 液体、蒸気 (3,917)

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Fターム[3B201BB92]に分類される特許

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【課題】 鉄道車両の車軸に配設されるころ軸受の内周面に塗布されている古いグリースの除去を十分に行う。
【解決手段】 本発明に係る鉄道用軸受洗浄装置1は、鉄道車両の車軸に配設される円環状のころ軸受Bの洗浄を行う。そして、鉄道用軸受洗浄装置1は、回転軸240に対して回転可能に配設され、ころ軸受Bの中心軸と回転軸240とが略同軸に配置されるように、ころ軸受Bを支持する回転支持部材250,290と、回転軸240の上端部に配設され、該回転軸240の内部を介して圧送される洗浄用液体を、ころ軸受Bの内周面に対して噴射可能な液体噴射手段270と、を備える。 (もっと読む)


【課題】フィルタの濾材内部まで効果的に洗浄し、濾材内部に捕集された異物を押し出す高性能でコンパクトなフィルタ洗浄装置及びフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄装置1は、フィルタ2を移送するコンベア3と、コンベア3上においてフィルタ2に洗浄液を噴射する複数の洗浄液噴射ノズル24からなる洗浄液噴射ノズル群4と、コンベア3上において洗浄液噴射ノズル群4の下流側でフィルタ2に高圧ガスのみを噴射する複数の高圧ガス噴射ノズル25からなる高圧ガス噴射ノズル群5と、を備え、フィルタ洗浄方法は、フィルタ2をコンベア3に搭載するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に洗浄液を噴射するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に高圧ガスのみを噴射するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ122U,122Lがそれらの間を通過する基板Gに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ122U,122Lの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Gの上で発生したミストの大部分は、下流側のFFU136から隙間Kを通って廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に上部排気口124に吸い込まれる。基板Gの下で発生したミストは、その全部がFFU136から廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に下部排気口126,128に吸い込まれる。 (もっと読む)


【課題】加圧ポンプを設けることなく、通常の上水圧力で被散水物を効率的に洗浄する。被散水物表面における上水の拡散性、流動性を高めて上水の消費量を低減する。
【解決手段】上水管(1)から供給される上水をバブル発生手段(5)によりマイクロバブル化またはナノバブル化して生成された散水用上水を被散水物へ散水する。 (もっと読む)


【課題】海水に浸かった瓦礫を再利用可能な品質まで洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】周面30をスクリーンで構成し、一端側31の開口を瓦礫投入口3Aとし、他端側32の開口を瓦礫排出口3Bとした筒状の回転筒体3を、回転駆動手段35によって回転可能に、かつ、回転筒体3の一端側31から他端側32に向けて下り傾斜となるように設置し、回転筒体3の他端側32の内部に洗浄水供給源Pから供給される洗浄水を供給する第1洗浄水供給手段33と、回転筒体の他端側の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第1排水槽T1と、回転筒体の一端側の内部に第1排水槽T1から供給される洗浄水を供給する第2洗浄水供給手段34と、回転筒体3の一端側31の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第2排水槽T2とを配設する。 (もっと読む)


【課題】離れた位置でも高圧洗浄装置を操作することが可能な操作盤の提供。
【解決手段】フレーム上に搭載され、洗浄水を貯留する水タンクと、水タンクに吸引側が接続され、エンジンにより駆動される水ポンプと、水ポンプの吐出側に一端が接続され、他端が大ホースリールおよび小ホースリールに接続された配管と、大ホースリールおよび小ホースリールにそれぞれの基端が接続されて巻き付けられた大ホースおよび小ホースの先端にそれぞれ噴射器具を備えた高圧洗浄装置の操作盤4であって、水ポンプにより圧送される洗浄水を噴出するホースを大ホースまたは小ホースに切り換える大小ホース切換スイッチ20と、大ホースリールの回転速度調整ハンドル21とを備えた操作盤本体4aと、操作盤本体4aに着脱可能であり、大ホースリールから大ホースを巻取、停止および繰出可能なスイッチ33と、エンジンの増減速スイッチ32とを備えたリモコン装置4bとを含む。 (もっと読む)


【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板10は、第1、第2の剥離部35、36に搬送され、レジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板10は、洗浄液噴出ノズル51からその長辺に洗浄液が噴出され、その長辺を洗浄処理されるとともに、第1洗浄部37において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。次に、電子ペーパ製造用基板10は、第1洗浄部37から第2洗浄部38、第3洗浄部39および第4洗浄部40に順次搬送され、それらの洗浄部において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。このとき、第2洗浄部38においては、洗浄液噴出ノズル52からその短辺に洗浄液が噴出され、その短辺を洗浄処理される。 (もっと読む)


【課題】洗浄対象物の洗浄作業を容易におこなうことができるノズルを提供することを課題とする。
【解決手段】水の流出口に接続されて、水の流出口からの水が流入する流入部11と、流入部から流入した水の流れを絞って水の流速を増加させる絞り部12と、絞り部12から下流側へ流出する水に気泡が混入するように空気を導入する空気導入部13と、洗浄液が溜められる容器2内と連通するように構成され、絞り部12から下流側へ流出する水に容器内2の洗浄液が混入するように洗浄液を導入する洗浄液導入部14と、を具備し、流入部11から流入した水に気泡および洗浄液を混入させて洗浄液混入気泡水とし、洗浄液混入気泡水を噴射するように構成されるノズル1とする。 (もっと読む)


【課題】従来の超音波洗浄装置において、微細気泡を含有する洗浄液を供給して、被洗浄物を洗浄する場合、洗浄液の微細気泡によって、超音波が減衰し、被洗浄物の表面に超音波が伝達せず、洗浄力が落ちてしまうという課題があった。
【解決手段】被洗浄物の一面に微細気泡を含有する第一の洗浄液を供給する第一の洗浄液供給経路と、前記被洗浄物の他面に微細気泡を含有しない第二の洗浄液を供給する第二の洗浄液供給経路と、前記被洗浄物の他面側から前記被洗浄物を通して前記第一の洗浄液と接する前記被洗浄物の一面に超音波を付与する超音波振動子とを有することを特徴とする超音波洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】硬質材料表面に付着するスケールを材料表面の腐食・劣化を発生させることなく、効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】難除去性無機系スケール付着硬質材料表面に対し、以下に示す三つの処理ステップを実施する。第1ステップ:スケールが付着している硬質材料表面に対する酸性洗浄剤による洗浄処理の実施。なお、酸性洗浄剤としてメタンスルホン酸とヒドロキシカルボン酸との混合液の使用が特に好ましい。第2ステップ:第1ステップ処理面に対する乾燥処理の実施。第3ステップ:第2ステップ処理面に対するアルカリ性洗浄剤による洗浄処理の実施。 (もっと読む)


【課題】物品に付着しているよごれなどの有機物を大気中に飛散させることなく分解または除去でき、かつ物品の損傷が抑えられる表面処理方法、物品の損傷を抑えながら、物品表面をエッチングする表面処理方法、および表面を高度に洗浄し、損傷がほとんどない物品や表面をエッチングしながら、損傷のない物品を提供する。
【解決手段】水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、該液体中において、水に対する接触角が90度以下である材料に付着している有機物に接触させて、該有機物を材料から除去する表面処理方法;水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、前記液体中において、水に対する接触角が90度以下である材料に接触させて、該材料を破壊せずに、該材料の表面をエッチングするエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】溶剤系洗浄剤は引火の危険性や揮発による環境や人体への影響があり、水系洗浄剤は洗浄後の界面活性剤やアルカリ剤などの残留物を除去するために、さらに水ですすぐといった手間があり、また洗浄面の腐食といった問題があった。
【解決手段】非水溶性溶剤、界面活性剤およびアルカリ剤を使用せず、(A)界面活性化作用および耐腐食性を有する気化性化合物、(B)水、(C)水溶性溶剤を使用し、pHの範囲が5.0〜13.5である水系洗浄剤を用いて前記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】被洗浄処理対象部に付着した物理的汚れを除去することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄浄化装置40は、プラズマ発生装置1により生成された洗浄液中で洗浄対象物51を洗浄し、洗浄仕上げ時に洗浄対象物51に向けて注水部60より液体を注水する。 (もっと読む)


【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Wの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル2と、ノズル2に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路30と、過酸化水素水供給路30上においてノズル2までの流路長が異なる複数の混合位置MP1,MP2,MP3,MP4にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路31,32,33,34と、硫酸供給源25からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット35とを含む。 (もっと読む)


【課題】中水の表面電位特性及びラジカル密度を高めて洗浄効率を向上させる。また、中水の流動性や拡散性が高めて被洗浄物の付着した異物を効率的に除去可能にする。
【解決手段】第1貯水槽に貯められた雨水等の排水中の異物をろ過手段により除去して中水に生成した後、該中水をバブル発生手段によりマイクロバブル化またはナノバブル化して散水用中水に生成し、散水手段から被散水物へ散水可能にする。 (もっと読む)


【課題】被洗浄基板へのダメージの発生を抑えることができ、また、エレクトロニクス産業等で使用される高精密度の基板等に対して高清浄度の洗浄を行うことが可能な超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供すること。
【解決手段】被洗浄物を超音波振動子の振動面から延びた垂線の液面までの成す領域(超音波照射領域)外の洗浄液の液面下の近傍に位置するように保持して、超音波によって洗浄液の表面に表面張力波を励起させ、被洗浄物に超音波を直接照射することなしに、表面張力波による音圧によって被洗浄物の微粒子汚染物を剥離するようにして、被洗浄基板へのダメージの発生を抑える。 (もっと読む)


【課題】幅方向に長く先端で開口しているスリット7が内部に形成されている口金3において、従来では振動波(振動波に基づくキャビテーション)の伝播が充分にされず残っていた固着物を、浮かび上がらせることが可能となり、短時間で所望の洗浄結果を得る。
【解決手段】洗浄槽11内の振動波を与えた洗浄液Lに口金先端9を浸漬させ、スリット7を通じて当該洗浄液Lを口金内部へ流入させる。この状態から、スリット7を通じて口金内部に気体を、スリット7の幅方向全長にわたって、流入させる。この後、口金先端9を洗浄槽11内の振動波を与えた洗浄液Lに浸漬させ、スリット7を通じて当該洗浄液Lを口金内部へ流入させる。 (もっと読む)


【課題】低インパクトでの現像を可能にすると共に、現像時間の短縮及び現像精度の向上が図れ、かつ、回路パターン部に残渣するスカムの除去効果の向上が図れるようにした超音波現像処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】露光処理された基板Gの回路パターンP表面に現像液を接触例えば液盛りさせて、現像処理を行う現像処理において、現像液が接触した状態にある基板の回路パターンの近傍の該基板側面に発振面7bが当接される超音波振動子7Bと、該超音波振動子の高周波駆動電源31とを具備する。基板表面に現像液を液盛りした後、基板の回路パターンの近傍の該基板側面に超音波振動子の発振面を当接した状態で、超音波振動子より発生する超音波振動が回路パターン上の現像液に伝播しながら現像処理を行う。 (もっと読む)


【課題】洗浄効率の向上を図ることにより環境負荷となる洗浄水自体の使用量を低減し、洗浄後の洗浄水の処理に要するコストを低減する。
【解決手段】洗浄水が自由に流入出可能な構造を有すると共に複数の被洗浄体を収容する洗浄用籠、上記洗浄用籠を設置する洗浄槽、上記洗浄用籠を回転させる回転装置、上記洗浄用籠内の上記被洗浄体が集合する受噴射籠面に向けて洗浄水と気体との気液混合物を噴射する少なくとも2個の互いに分散設置されたインゼクター、上記洗浄槽の上方から流出する洗浄済み水を回収すると共に重量差を利用して上記洗浄済み水を汚れ成分と洗浄水とに分離する回収分離槽、上記回収分離槽において分離された上記洗浄水を上記各インゼクターに再供給する洗浄水再供給装置を備え、上記各インゼクターは、洗浄時間の後半では噴射を停止、あるいは弱めるように構成した。 (もっと読む)


【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準(100重量%)として、有機酸(A)を0.5重量%以上25重量%以下含有し、有機酸(A)に対する中和率が100%以上150%以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が80%以上となるように有機酸(B)及び/又は無機酸を含有し、有機酸(A)が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも1種であり、有機酸(B)が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも1種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも1種である、さび除去剤水溶液とする。 (もっと読む)


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