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Fターム[3C034AA07]の内容

研削盤の構成部分、駆動、検出、制御 (11,657) | 用途 (2,428) | 平面研削 (630)

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【課題】簡単な装置構成で、処理対象の表裏両面のバリ取りやドロス除去などの表面処理を行うことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置10は、複数の下部駆動ローラ12及び上部駆動ローラ14と、一対の上部回転ブラシ16A及び16B,一対の下部回転ブラシ22A及び22B,複数の跳ね上げ防止ブロック30により構成されている。下部駆動ローラ12と上部駆動ローラ14は、回転ブラシ16A,16B,22A,22Bの入口部及び出口部において、搬送面と略直交する方向で相対しており、その駆動力によってワークWを搬送する。前記入口部及び出口部の下部駆動ローラ12及び上部駆動ローラ14と、前記上部回転ブラシ16A及び16B,下部回転ブラシ22A及び22Bの間に前記跳ね上げ防止ブロック30を配置することで、ワークWの跳ね上げ防止と回転ブラシへの案内を行う。 (もっと読む)


【課題】フロートガラス研磨システム用下部ユニットに関し、フロートガラスが支持されたキャリアを下部ユニットから分離した後、コンベアーなどを用いてキャリアを後工程に移送することで、研磨工程で発生し得るフロートガラスのスクラッチを最小化する。
【解決手段】回転自在のターンテーブル112に設けられたサポート116、及び研磨対象であるフロートガラスGを支持可能な支持部111と、前記支持部111との対向面に設けられ、前記サポート116に固定されて載置される載置部113とを含むキャリア118を備える。 (もっと読む)


本発明は、連続鋳造製品(1)、特にスラブを研削するための方法であって、該方法は、連続鋳造製品(1)が、横断面で見て、互いに対向して位置する2つの長辺側の面(2,3)と、互いに対向して位置する2つの短辺側の面(4,5)とを備えた方形の輪郭を有しており、少なくとも前記長辺側の面(2,3)に、少なくとも1つの研削工具(6)によって表面加工が施される方法に関する。連続鋳造製品の加工時における一層高い品質を得ると同時に、研削チップを簡単に捕集することができるようにするために、本発明の方法では、連続鋳造製品(1)の一方の長辺側の面(2,3)の研削時に、連続鋳造製品(1)の当該長辺側の面(2,3)に対する表面法線(8)が鉛直線(V)に対してゼロ度よりも大きな鋭角の角度(α)を成すように連続鋳造製品(1)をマウント台(7)によって位置決めする。さらに、本発明は、連続鋳造製品(1)を研削するための装置に関する。
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【課題】反転テーブルの往復移動速度を大幅に高められるようにした平面研削盤の反転テーブル装置を提供する。
【解決手段】駆動モータ3と、駆動モータ3の駆動軸2に歯車伝達機構4を介して接続される回転軸5と、回転軸5の端部に備えた偏心ピン6と、偏心ピン6に長孔24を介して嵌合し回転軸5の回転により偏心ピン6及び長孔24を介して一方向に往復移動する反転テーブル21と、反転テーブルの移動を案内する直動案内部とを備える。 (もっと読む)


【課題】反転テーブルの往復移動速度を大幅に高めることができ、且つ反転テーブルに起因する振動を抑制し得る平面研削盤の反転テーブル装置を提供する。
【解決手段】駆動モータ3と、駆動モータ3の駆動軸2に歯車伝達機構4を介して接続される回転軸5と、回転軸5の端部に備えた偏心ピン6と、偏心ピン6に長孔24を介して嵌合し回転軸5の回転により偏心ピン6及び長孔24を介して固定架台1上の一方向に往復移動する反転テーブル21と、反転テーブルの移動を案内する直動案内部と、反転テーブル21の往復移動に伴う固定架台1の振動を抑制する方向へ移動自在に配設されるカウンタウェイト40とを備える。 (もっと読む)


【課題】固定架台とテーブルカバーとの間から研削液が固定架台の内部へ侵入することを防止する。
【解決手段】ワークを固定する反転テーブル8と、反転テーブル8の下部に位置して反転テーブル8を水平方向に往復移動させる機構を設置した固定架台9と、反転テーブル8と一体的に移動し且つ固定架台9の上部を包囲する大きさを有するテーブルカバー19とを備える平面研削盤の反転テーブル装置7であって、固定架台9とテーブルカバー19の隙間をエアカーテンで塞ぐようにエアを噴出するエア噴出手段20と、固定架台9とテーブルカバー19の隙間に複数の板状部を配置して障害面を形成するラビリンス構造体とを備える。 (もっと読む)


【課題】加工条件の設定が不要となるとともに加工中にリアルタイムでワークの情報を取得することが可能な加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】加工対象物の形状等の状態を検出可能な測定装置と、検出部により検出された加工対象物の状態に対応する画像データを設定する画像生成装置と、加工対象物の状態を示す画像を表示させる表示部とを備えた加工装置を用いて行う加工方法であって、ワークの形状等の状態を測定する測定ステップと、測定ステップで測定したワークの状態に対応する画像データを設定するデータ設定ステップと、データ設定ステップで設定した画像データに基づいてワークを加工するための加工条件を算出する加工条件算出ステップと、加工条件算出ステップで算出した加工条件に基づいてワークの加工を行う加工ステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】比較的長寸の加工物の平面を高精度に加工でき、熱伝達性も低く、熱変位による平面度の狂いもなく、組立性のよい分離長尺テーブルを有する加工装置を提供する。
【解決手段】平面研削盤100は、ベース台2上に載置されてフレキシブルな連結具7を介して連結された分離テーブル1A,1Bからなる長尺のテーブル1を移動させるリニアモータ4等からなる移動機構部と、砥石5Bを移動及び回転支持する装置本体5Aよりなる加工手段である砥石台5と、ドレッサ6等とからなり、熱伝達や熱変位は連結具7の存在により分離構造となっているため低減される。また、分離構造のため組立性も良い。 (もっと読む)


【課題】ワークの研削面の平面度の精度を向上することができる平面研削盤を提供する。
【解決手段】ワークWの平面研削を行う際に、該ワークWを支持するテーブル13の移動速度を左方向の移動時と、右方向への移動時とで、順次ランダムに変化させることにより、ワークWの研削中におけるテーブル13の固有振動(共振)の位相を変化させる。そして、テーブル13の共振によるテーブル13の変形を防止し、テーブル13に支持されたワークWの変形を防止し、ワークWの研削面の平面度の精度を向上する。 (もっと読む)


【課題】円盤状の外周領域に補強用凸部を形成したワークにおいて、補強用凸部から接触式センサの接触子が外れないように位置合わせすることができる、位置合わせ機構、研削装置、位置合わせ方法、研削方法を提供すること。
【解決手段】表面にデバイス形成領域96と外周領域97とを有し、裏面のデバイス形成領域96に対応する領域を除去して、裏面の外周領域97に対応する領域から補強用凸部98が突出するように形成された半導体ウェーハWから補強用凸部98の内周縁部の画像データを取得し、取得した画像データから補強用凸部98の内周縁部中心の座標を算出する。そして、予め記憶した半導体ウェーハWを保持するチャックテーブル52の保持面中心の座標と半導体ウェーハWの内周縁部中心の座標とに基づいて、保持面中心に内周縁部中心を位置合わせすると共に、半導体ウェーハWをチャックテーブル52に載置する構成とした。 (もっと読む)


【課題】リテーナリングの摩耗量を高精度に管理することによって、リテーナリングの交換頻度の最適化を図ることができるCMP装置を提供する。
【解決手段】任意のタイミングにおけるウェーハWと研磨パッド7との当接位置と、研磨パッド7及びリテーナリング9の交換直後におけるウェーハWと研磨パッド7との当接位置との関係から研磨ヘッド3の移動距離を算出する。任意のタイミングにおけるドレッサ装置4と研磨パッド7との当接位置と、研磨パッド7の交換直後におけるドレッサ装置4と研磨パッド7との当接位置との関係からドレッサ装置4の移動距離を算出する。研磨パッド3及びドレッサ装置4の移動距離からリテーナリング10の摩耗量を算出する。 (もっと読む)


【課題】被加工物と保護テープとの貼り合せ構造からなる板状ワークを研削する際に、板状ワークに気泡等の異常があっても、被加工物の破損を未然に回避できるようにする。
【解決手段】保持手段に対する搬入前の位置で、板状ワーク100を撮像する撮像部14aを含み、板状ワーク100の異常を検出する異常検出手段14を備えることで、被加工物101と保護テープ102との貼り合せ構造からなる板状ワーク100に気泡105等の異常があることが異常検出手段14によって検出された場合には、保持手段に対する当該板状ワーク100の搬入を停止させる等の処置を採ることができるようにした。 (もっと読む)


【課題】 複数のセンサの計測位置を結ぶ直線とスキャン方向との相対位置関係を高精度に計測する。
【解決手段】 (a)評価対象物の表面上で計測位置を移動させることによって、表面の高さ方向の、面内における変化を計測する第1及び第2のセンサの計測位置を、1つの円周の少なくとも一部を構成する段差パターンと2箇所で交差する直線に沿って並進移動させ、第1及び第2のセンサの計測位置が、段差パターンと交差する面内位置の情報を取得する。(b)取得された情報に基づいて、第1のセンサの計測位置と第2のセンサの計測位置とを結ぶ直線と、並進移動の方向との相対位置関係を求める。 (もっと読む)


【課題】原点検出機構を構成する電極端子の交換作業を容易に実施することができる切削装置を提供する。
【解決手段】切削ブレード63の原点位置を検出するための原点検出機構7を具備する切削装置であって、原点検出機構は切削ブレードが装着された回転スピンドル62を回転支持するスピンドルハウジング61に回転スピンドルの端面と対向して装着するブラシ手段70と、ブラシ手段がスピンドルハウジングに装着された状態でブラシ手段と電気的に接続される接続端子と、接続端子とリード線を介して接続された原点検出回路80とを具備している。 (もっと読む)


【課題】 良好な品質で研削を行う。
【解決手段】 (a)作用面上の周方向に沿って第1の方向が固定的に画定された砥石であって、作用面上に交差するドレッシング痕が形成されないように、作用面をドレスされた砥石を準備する。(b)被研削面に第2の方向が固定的に画定された研削対象物を準備する。(c)ドレスされた砥石の作用面を研削対象物の被研削面に接触させ、砥石を回転させながら、回転する砥石の作用面が第2の方向と平行な方向に沿って、研削対象物の被研削面上を移動するように、砥石と研削対象物とを相対的に移動させて、研削対象物の被研削面を研削する。工程(c)は、(c1)砥石が研削対象物の被研削面と接触する位置における第1の方向と、第2の方向とを同一の方向とする条件で、砥石を、第1の方向に回転させるとともに、研削対象物上を第2の方向に移動させる工程を含む。 (もっと読む)


【課題】凹凸が形成された被加工物の面の凸部を研削して所望の厚さとする場合において、その厚さを精度良く計測して所望の厚さに形成できるようにする。
【解決手段】表面に凹凸が形成された被加工物1の裏面11を保持部材2に貼着し、チャックテーブル5において保持部材2側を保持し、研削工具60によって被加工物1の表面10を研削する場合において、被加工物1に隣接して計測小片4が保持部材2に貼着され、保持部材2を保持したチャックテーブル5を回転駆動し、被加工物1の表面10の凸部100と共に計測小片4を研削工具60で研削する研削工程と、チャックテーブル5の回転駆動を一時停止した状態で計測小片4の厚さを計測する厚さ計測工程とからなり、研削工程では、厚さ計測工程における計測値に基づき被加工物1が所望の厚さになるまで研削を行う。 (もっと読む)


【課題】被加工物にダメージを与えることなく、研削ホイールの研削面が被加工物に接触して実際に研削が開始されるまで時間を短縮して生産性を向上させる研削装置を提供する。
【解決手段】制御手段10はチャックテーブル8に保持された加工前の被加工物Wの厚さを記憶する記憶手段を備えており、研削水供給手段4を作動して研削ホイール324に研削水を供給しつつ研削ユニット送り機構5を作動して研削ユニット3を移動する際に、研削ホイールの研削面と加工前の被加工物との間隔が所定間隔に達する送り速度変更位置までは第1の送り速度で、研削ユニット送り機構を作動し、送り速度変更位置から研削ホイール回転速度が所定値まで低下するまでは第1の送り速度より遅いが、研削送り速度より速い第2の送り速度で研削ユニット送り機構を作動し、以後研削終了位置まで研削送り速度で、研削ユニットを送る。 (もっと読む)


【課題】被研削材である軸受の取り付けが容易な軸受研削用治具の提供。
【解決手段】中空回転軸12に軸承された回転テーブル7上に備えた円筒状治具ハウジング材3の頭頂部に設けた2段環状筒構造のベアリングケース4と、被研削材である軸受wが前記ベアリングケース4内に案内された後にこのベアリングケースに固定される軸受の外輪抑え5と、前記ベアリングケース4に案内された軸受wの内輪w底部を加圧固定する軸受の内輪加圧部材15を取り付けたクランプフランジ14と、前記クランプフランジを上下に移動させるクランプフランジ昇降手段21と、前記クランプフランジを軸承する回転軸12を回転させる回転駆動手段25を備える軸受研削用治具1。 (もっと読む)


【課題】被研削材である軸受の取り付けが容易な軸受研削用治具の提供。
【解決手段】ガイドリング4と、軸受を取り付けるクランプフランジ8を回転させる回転手段10,11と、前記クランプフランジ8を昇降させる手段6,12,16aと、軸受Wの内輪の内周壁を固定するクランプシリンダー26を備える軸受研削用治具1。上昇したクランプフランジ8は、クランプシリンダー26底部に当接し、クランプシリンダー26底部に背圧を懸ける。 (もっと読む)


【課題】サポートプレートを用いて薄化した基板の厚さのばらつきを小さくするための技術を提供する。
【解決手段】薄化される基板3を支持するサポートプレート1であって、面内の厚さのばらつきが、5.0μm以下であるサポートプレート1を用いる。 (もっと読む)


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