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Fターム[3C081CA15]の内容

マイクロマシン (28,028) | プロセス (6,263) | 加工方法、手段 (4,742) | 除去加工 (2,002) | エッチング (1,585) | ウェットエッチング (542)

Fターム[3C081CA15]に分類される特許

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【課題】小型で信頼性の高いセンサーデバイス、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】センサーデバイス1は、第1の面10aに第1の電極11を有する半導体装置としてのICチップ10と、基部21、前記基部21から延伸された振動部を有し、第1の面10aと対向する第2の面20aに第2の電極としての引き出し電極29を有する振動片としての振動ジャイロ素子20と、を備えている。第1の面10aには、絶縁樹脂からなり第1の電極11と配線36を介して電気的に接続された第3の電極37の少なくとも一部を露出させる開口部32aを有する筒状支持部32が設けられ、第1の面10aおよび開口部32aにより形成された凹部に導電性接着剤98が埋設され、引き出し電極29に設けられたバンプ12が凹部内に配置されている。 (もっと読む)


【課題】圧力センサーの小型化を可能とする。
【解決手段】圧力センサーの製造方法は、基板の一つの面の一部の上方に、第1の膜を形成する工程(a)と、第1の膜の上方と基板の第1の膜を囲む領域の上方とにまたがる第2の膜を形成する工程(b)と、第2の膜に貫通孔を形成することにより、第1の膜の一部を露出させる工程(c)と、第1の膜をエッチングする工程(d)と、第2の膜の貫通孔を封止する工程(e)と、基板の第1の膜がエッチングされた領域の上方に位置する第2の膜の上方に、歪みセンサー膜を形成する工程(f)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】中間部材を設けずに対向する基板間を容易に接続する光フィルターを提供する。
【解決手段】固定基板51と、固定基板51に対向する可動基板52と、固定基板51に形成された第1反射膜54と、可動基板52に設けられ、第1反射膜54とギャップを介して対向する第2反射膜55と、固定基板51に設けられた第1駆動電極561と、可動基板52に設けられ、第1駆動電極561と対向する第2駆動電極562と、固定基板51に設けられた第1接続電極571と、可動基板52に設けられ、第1接続電極571の一部と対向する位置に可動基板52の厚み方向の寸法が小さく形成された薄肉部582と、第2駆動電極562に接続され、第1接続電極571に対向して薄肉部に形成された第2接続電極572と、を備え、第1接続電極571と薄肉部582に形成された第2接続電極572とが接続されている。 (もっと読む)


【課題】MEMSによるシャッタ組立体Mにおける歪みの発生を抑えた表示装置を提供する。
【解決手段】板状に形成されるシャッタ板SHと、アクチュエータ部ACと、を有する複数の画素を備えた表示装置であって、アクチュエータ部ACは、シャッタ板SHに接続される梁部Bと、電圧が印加されることにより、梁部Bを湾曲させてシャッタ板SHを駆動する駆動電極Eと、駆動電極Eを支持し、基板B1上に固定される第1支持部S1と、梁部Bを支持し、基板上に固定される第2支持部と、を有し、第1支持部S1および第2支持部の少なくとも一方は、基板から離れた平面部分Spと、平面部分Spから窪み、基板に接続する凹部Scと、を有し、凹部Scは、平面部分からほぼ垂直に傾斜して形成される垂直形成部分Svと、垂直形成部分Svから開始して、基板B1側に進むに従って傾斜が緩くなるように形成される部分Sgを有する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第2の基板3は、その厚さ方向での位置が異なる2つの面を可動部21側に有し、2つの面のうち、一方に駆動電極33が設けられ、他方に検出電極40が設けられており、検出電極40と可動部21との間の静電容量に基づいて、駆動電極33と可動部21の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部21を変位させるとともに、固定反射膜35と可動反射膜25との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜35と可動反射膜25との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】振動子内に共振周波数制御機構を組み込むことが容易で、かつ広い周波数帯域での共振周波数制御が可能な微小機械振動子を提供する。
【解決手段】微小機械振動子は、シリコン基板1上に形成されたシリコン酸化膜2と、シリコン酸化膜2上に形成された電極4,5と、一端が電極4に接続され、電極4およびシリコン酸化膜2で固定されていない一部が開口部6内に突出するように形成される振動子部7と、一端が電極5に接続され、電極5およびシリコン酸化膜2で固定されていない方の先端部が開口部6内に突出した振動子部7の先端部と対向するように形成される制御極部8とを備える。 (もっと読む)


【課題】製造時に任意の引張応力に設定可能な微小機械振動子を簡易なプロセスで実現する。
【解決手段】シリコン基板1上に2つのエッチングマスクパターン2および2本の両持ち梁型パターン3を形成する(図1(A)、図1(B))。シリコンのウェットエッチングを行う(図1(C)、図1(D))。シリコン基板1を純水で洗浄して、大気中で自然乾燥させる。自然乾燥工程において、水の表面張力により2本の両持ち梁型パターン3が互いに引き合い、接触して固着する。シリコン基板1上に形成された2つの支持部10と、一部の箇所が接触して固着し、両端が2つの支持部10で固定されることによってシリコン基板1から浮いた状態で支持される2本の梁部11とを備えた微小機械振動子が完成する(図1(E)、図1(F))。 (もっと読む)


【課題】基板面に対して大きく傾斜した(或いは垂直に近い)半透過反射面に酸化シリコン膜を均一に形成し得る光学部品の製造方法、並びにこの方法により製造された光学部品を提供する。
【解決手段】光透過性光学部品12を製造する方法であって、板状部材のシリコン領域11をエッチングして凹部を形成する第1のエッチング工程と、凹部の内側面を熱酸化させて酸化シリコン膜14を形成する熱酸化工程と、酸化シリコン膜14を覆う窒化シリコン膜16を形成する窒化膜形成工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第2の基板3は、その厚さ方向での位置が異なる2つの面を可動部21側に有し、2つの面のうち、一方に駆動電極33が設けられ、他方に検出電極40が設けられており、検出電極40と可動部21との間の静電容量に基づいて、駆動電極33と可動部21の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部21を変位させるとともに、固定反射膜35と可動反射膜25との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜35と可動反射膜25との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】ジャイロメータは、基板と、基板の上に懸架された慣性質量部(2)であって、励振部(6)および検出部(8)を含む慣性質量部(2)と、前記慣性質量部(2)の平面内に含まれる、励振部(6)を少なくとも1つの方向(X)に移動させる手段と、前記質量部の平面の外側での前記検出部(8)の移動を検出する静電容量検出手段とを含む。
【解決手段】前記静電容量検出手段は、前記検出部(8、108)と共に可変コンデンサを形成するように、基板に面して位置する検出部(8)の上に配置された、少なくとも1つの懸架電極(16)を含み、前記電極(16)は、慣性質量部(2)を貫通する少なくとも1つの柱状体(22)によって、前記検出部(8)の上に保持される。 (もっと読む)


【課題】揺動部の慣性モーメント或いは重心位置の調整を比較的大きな範囲で比較的高速に行うことが可能な光偏向器などの揺動体装置、その製造方法を提供する。
【解決手段】揺動体装置は、揺動部と弾性支持部305、306と支持体301とを備え、揺動部が弾性支持部により揺動軸304回りに揺動可能に支持されている。揺動部は、該揺動部の質量を調整するための突出部303、321を持つ可動子302、320で構成されている。突出部は可動子から揺動軸と平行な方向に突出しており、突出方向の何れの個所でも切断可能に形成されている。突出部の揺動軸を法線とする断面積は、揺動軸方向に一定である。
【選択図】図10
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【課題】製造における可動部の形状ばらつきを従来よりも小さくして、可動部の回動時の慣性モーメントを低減することができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1は、光反射性を有する光反射部211と、光反射部211を備え、かつ所定の回動中心軸まわりに回動可能な板状の可動部21と、可動部21に連結し、かつ前記可動部21の回動に伴って捩り変形する連結部23、24と、連結部23、24を支持する支持部22と、を有し、可動部21は、可動部21の板厚方向からの平面視にて四角形の四隅の部分をそれぞれ矩形に欠いた形状(十字状)をなし、連結部23、24の回動中心軸に垂直な断面は、可動部21の第1の面から前記第1の面に対向する第2の面側に向けて幅が漸増する形状をなす。 (もっと読む)


【課題】BAWモードで共振するMEMS共振子について、製造後に周波数などを測定しながら、大量かつ安価に周波数調整が可能で、位相雑音やジッタの少ないMEMS共振子を提供する。
【解決手段】バルク・アコースティック・ウェーブモードで共振する板状の共振子を備えたMEMS共振子において、共振子が、密度とヤング率の比がそれぞれ異なる材料が積層した積層構造となっている。この積層構造の表面の一部を除去することにより、共振周波数の調整を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】製造における可動部の形状ばらつきを従来よりも小さくして、可動部の回動時の慣性モーメントを低減することができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1は、光反射性を有する光反射部211と、光反射部211を備え、かつ回動中心軸まわりに回動可能な板状の可動部21と、可動部21に連結し、かつ前記可動部21の回動に伴って捩り変形する連結部23、24と、連結部23、24を支持する支持部22と、を有し、可動部21は、前記可動部の板厚方向からの平面視にて、前記回動中心軸に平行な方向の長さが前記回動軸から離れるにつれて段階的に小さくなる形状を有し、前記可動部21、前記支持部22および前記連結部23,24は、シリコン基板を異方性エッチングすることにより形成される。 (もっと読む)


【課題】キャビティ、好ましくはMEMS又はNEMSデバイスが位置するキャビティを簡単な工程で封止するための方法を提供する。
【解決手段】薄膜層を犠牲層2上に堆積し、その後放出孔を薄膜層内でエッチングし放出工程を実施する。その際、少なくとも犠牲層の一部を放出孔を通じて除去し、キャビティを形成する。前記放出工程の前に狭窄層を放出孔の側壁に形成する。狭窄層を封止層5とする場合は封止層のリフローにより放出孔を閉鎖し、狭窄層が封止層でない場合には薄膜層上部に封止層を堆積し、直接封止層をリフローすることで放出孔を閉鎖する。 (もっと読む)


【課題】 電気機械変換装置の振動膜の特性のばらつきを低減する。
【解決手段】 本発明の電気機械変換装置は、基板と、前記基板上に形成された第一の電極と、前記第一の電極と間隙を隔てて形成されたメンブレンと、前記メンブレン上に形成され前記第一の電極と対向する第二の電極と、を有する振動膜と、を備える電気機械変換装置であって、前記第一の電極は、表面粗さの二乗平均平方根値が6nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光反射領域を確保しながら可動板の回動時の慣性モーメントを低減するとともに、可動板の寸法精度を簡単に優れたものとすることができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1は、光反射性を有する光反射部211を備える可動板21と、支持部22と、可動板21を支持部22に対して回動可能に連結する1対の連結部23、24とを有し、可動板21は、可動板21の回動中心軸(軸線X)に対して垂直な方向で両側へ突出する1対の突出部215、216と、軸線Xに対して平行な方向で両側に突出する1対の突出部213、214とを有する十字状をなし、突出部213〜216の突出長さが最適化されている。 (もっと読む)


【課題】反射率の減少が防止されたMEMS素子およびこれを用いた光スイッチ装置およびディスプレイ装置、ならびにMEMS素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持層とデバイス層との間に絶縁層が介挿された構造を有し、前記支持層と前記絶縁層とに連通する開口部と、前記開口部に対応した前記デバイス層の領域に前記支持層とは反対側に変位可能に形成されかつ前記支持層側にミラー面を有する複数のマイクロミラー部とを有する本体部と、前記マイクロミラー部を変位させるための電圧を印加する電極が形成された基板と、を備え、前記本体部のデバイス層の表面と前記基板の表面とが接合されており、前記本体部の支持層側の前記開口部から前記マイクロミラー部へ光が入力される。 (もっと読む)


【課題】出力が大きく、かつ高い周波数で駆動するMEMS振動子を提供する。
【解決手段】本発明に係るMEMS振動子100は、基板10の表面11に固定された第1電極20と、第1電極20の第1面21と対向する第2面31を備えた梁部34、および梁部34を支持し基板10の表面11に固定された支持部32を有する第2電極30と、を含み、梁部34は、梁部34の第1面21の垂線Q方向の長さTが、梁部34の先端35に向かうにつれて単調に減少する第1部分36を有する。 (もっと読む)


【課題】高アスペクト比のホールやトレンチの多段構造を高い加工精度で容易に形成することができるシリコン構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンからなる基材1に凹部4の一部である初期凹部4aを形成する初期凹部形成工程と、初期凹部4aの凹部側壁42aに保護膜を形成する保護膜形成工程と、凹部側壁42aの保護膜に隣接した基材1の一部を隔壁12として残存させて、初期凹部4aに隣接する周回領域の基材1を深さ方向に異方性エッチングするエッチング工程と、残存した突起状の隔壁を酸化してシリコン酸化物を形成する突起状隔壁酸化工程と、酸化した突起状の隔壁を除去する突起状隔壁除去工程と、を有する。 (もっと読む)


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