【課題】密閉空間内に形成されるゲッター膜が形成されたＭＥＭＳデバイスにおいて、ゲッター膜を電気的に安定化させることによりＭＥＭＳデバイスの性能劣化を防止する。
【解決手段】
密閉空間内に形成された可動部と固定部を備えたＭＥＭＳデバイス１００であって、その密閉空間が、凹部３４，３６ａ，・・・，３６ｆが形成されたガラス基板３０，３２とそのＭＥＭＳデバイス１００の母材（振動子）１０によって形成されている。さらに、その密閉空間内に形成された任意の連続するゲッター膜４０の一部４０ｃが、ＭＥＭＳデバイス１００の母材１０を介して固定部の任意の１つ又は複数の一定電位のみに、又はグラウンド電位のみに接続している。 （もっと読む）

【課題】電極を微細流路の内表面の複数形成することにより、流路内を流れる液体の濃度、あるいはまた液体中の目的物質の濃度等を正確に検出することができる微細流路構造体及び微細流路構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜からなる電極２ａ，２ｂ，２ｃが形成された基板１ａ，１ｂ，１ｃが順次積層された積層体に、所定の断面形状の微細流路３が形成された微細流路構造体１０であって、前記微細流路３が前記積層体の積層方向αに対して垂直な垂直方向βに形成されると共に、前記微細流路３の内表面３ａ、３ｂは、前記積層体の積層方向αに対して鋭角の角度θを有し、前記電極２ａ，２ｂ，２ｃが前記微細流路３の内表面３ａ、３ｂの積層方向αに複数露出して形成されている。 （もっと読む）

【課題】角速度センサ、加速度センサ、コンバインドセンサ、マイクロミラーなどのＭＥＭＳ素子の製造において、ウェーハの両面加工を必要とせず、アライメントのずれにロバストなＭＥＭＳ素子を提供する。
【解決手段】空隙４を有する基板２を用意した後、支持基板２ａに固定される固定部１１、端子部１６、台座１０などの固定要素が形成される位置のデバイス層２ｃに孔１８を開け、その孔１８を固定材１９で支持基板２ａに達するまで埋め込むことで孔１８周辺のデバイス層２ｃを支持基板２ａに固定する。 （もっと読む）

【課題】マイクロフルイディック・システムにおいて使用するバルブを提供する。
【解決手段】バルブ５０は、上流チャネル５２の中心軸６０に対してある角度をなして配された第１対向壁７４によって規定された導管によって合流させた上流チャネル５２と下流チャネル５４とを規定する基板を含む。感熱物質５６の少なくとも一部が、第１対向壁７４との衝合によって、導管を遮断する。通路に隣接したリザーバ５５に、感熱物質の一部が含まれることにより、通路が開放される。 （もっと読む）

【課題】環境温度の変化に対しても歪みが生じる虞がなく、したがって、圧力−流量特性等の諸特性が変化する虞のないノーマリクローズド型のマイクロバルブを実現することができるマイクロバルブ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクロバルブは、ＳＯＩ基板１１のダイアフラム１２の下面側に弁１３及び固定部１４が設けられ上面側かつ弁１３に相対する位置に絶縁膜１５が設けられた第１の基板１と、ガラス基板２１に溝部２２及び開孔部２３が形成された第２の基板２と、ガラス基板３１に流体の流入口及び流出口３２が形成された第３の基板３とを重ね合わせて接合一体化した構成である。 （もっと読む）

２種類以上の不混和液を接触させる方法であって、０．２から１５ミリメートルの範囲の特徴的な断面直径［１１］を有する反応体通路［２６］であって、その長手方向に沿って、順番に、反応体の進入のための２つ以上の入口［Ａ，ＢまたはＡ，Ｂ１］、その中を通る流体においてある程度の混合を誘発する形状または構造を有することにより特徴付けられる最初のミキサ通路部分［３８］、少なくとも０．１ミリリットルの容積および略滑らかで連続した形状または構造を有することにより特徴付けられる最初の滞留時間通路部分［４０］および各々の直後に対応するそれぞれの追加の滞留時間通路部分［４６］が続いている１つ以上の追加のミキサ通路部分［４４］を有する反応体通路［２６］を備えた一体型熱加減微細構造流体装置［１０］を提供し、２種類以上の不混和液を反応体通路に流動させる各工程を有してなり、２種類以上の不混和液が、これらの２種類以上の不混和液の全ての流れが最初のミキサ通路部分［３８］を流動するように２つ以上の入口［Ａ，ＢまたはＡ，Ｂ１］に流される方法が開示されている。この方法を行える一体型装置［１０］も開示されている。
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【課題】密閉空間内に形成されるゲッター膜が形成されたＭＥＭＳデバイスにおいて、ゲッター膜に起因する電気的なノイズの影響を防ぐ。
【解決手段】
密閉空間内３４に形成されたＭＥＭＳデバイス１００であって、密閉空間３４が、凹部３６ａ等が一部に形成された第１ガラス基板３０と、ＭＥＭＳデバイスの母材１０と、密閉空間３４の一部となる貫通孔３７が形成された第２ガラス基板３１と、連続の又は非連続のゲッター膜４０が形成された第３ガラス基板３２によって形成されている。さらに、第２ガラス基板３１と第３ガラス基板３２の間にゲッター膜４０の一部４０ａが挟まれている。これにより、ゲッター膜４０とＭＥＭＳデバイス１００の電極との十分な距離が確保されるため、デバイスの動作時であっても、電気的なノイズがゲッター膜４０を介してＭＥＭＳデバイスの検出用又は駆動用の電極に入り込まなくなる。 （もっと読む）

マイクロ流体装置［１０］は、少なくとも１つの反応体通路［２６］およびその中に画成された１つ以上の熱制御通路を備え、この１つ以上の熱制御通路は、各々が壁［１８，２０］により境が形成された２つの容積［１２，１４］内に位置し、配置され、それらの壁は略平面で互いに平行であり、反応体通路は、略平面の壁の間に位置し、その略平面の壁と略平面の壁の間に延在する壁［２８］により画成され、反応体通路は多数の連続チャンバ［３４］を備え、そのような各チャンバは、反応体通路を少なくとも２つの副通路［３６］に分割する分割部、および分割された副通路を合流させる合流部［３８］を備え、副通路の少なくとも一方の通路の方向を少なくとも９０度変化させる。
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【課題】密閉空間内に形成されるＭＥＭＳデバイスの性能を維持しつつ、その密閉空間の容積の低減と製造プロセスの簡略化を図る。
【解決手段】ガラス基板の凹部３４，３６ａ，３６ｂ，３６ｃで形成される密閉空間内のＭＥＭＳデバイスが、可動部（例えば、リング，サスペンション）と固定部（例えば、一次振動検出用電極）を備えた振動子１０であり、かつ前記固定部のみの表面上に形成されたゲッター膜４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄを備える。 （もっと読む）

微小電気機械（ＭＥＭＳ）装置（１３００）が、基板（２０）、該基板（２０）上の可動素子（１３４０）、及び該可動素子（１３４０）上の作動電極（１４２）を備える。可動素子（１３４０）が、可変層（１３０２）及び反射素子（１３１４）を備える。可変層（１３０２）が、反射素子（１３１４）から分離される。
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画定された表面パターンをポリマー構造の１次インプリント表面に押圧することで、該１次インプリント表面上に２次インプリントを形成する工程を有する、ポリマー構造上へのインプリント作製方法が開示されている。
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【課題】構造が単純であり、また、歩留まりを向上することができる積層構造体およびガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】湿式エッチング処理により表面１０Ａに微細凹凸構造が形成されるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面１０Ａに積層配置され、湿式エッチング処理のエッチングマスク１１が形成されるマスク材膜１１Ａと、を備えた積層構造体３０において、マスク材膜１１Ａが、低応力で構成されている。 （もっと読む）

【課題】上部磁性体部と下部磁性体部とがオーバラップし、高い磁気吸引力を発生させて動作することが可能な機構デバイスの製造方法及びその製造方法で製造された機構デバイスを提供する。
【解決手段】素子形成ガラス基材１１上の下地電極膜１２内に磁性層２１を埋没形成するための凹部を形成し、その凹部内に磁性層２１を形成する。そして、磁性層２１が埋没形成された下部電極用下地電極膜１２の表面全体を覆うように導電層２２を形成して下部電極２０を形成する。これにより、下部電極２０の上面がほぼ段差のない平面状となり、下部電極２０上に膜を積層していくことで形成される上部電極３０の梁部３１ｂは、段差のない平面状に形成される。このため、梁部３１ｂ上に形成される上部電極３０の磁性層３２ａを下部電極２０の磁性層２１上方に形成でき、磁性層３２ａと磁性層２１とが所定のオーバラップを持つ構造を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳ装置の製造において、マスキングの工程を減少させることができる方法を提供する。
【解決手段】基層１００の上に１つの層又は積み重ね層を堆積させる。１つの層又は積み重ね層の一番上の層は犠牲層１０２である。犠牲層１０２にパターンを形成し、この上に光感知ポリマーを堆積し露光することでリッジ１０６を形成する。このとき犠牲層がフォトマスクとして作用し追加のマスキング工程を必要としない。 （もっと読む）

【課題】製造コストのかからないプラスチック製の基板を用いて、耐熱性と耐薬性に優れ、かつ簡単な工程により低コストで製造することができるマイクロ流路デバイスを提供すること。
【解決手段】微量の液体を流すためのマイクロ流路２が凹んで形成されたプラスチック製の基板１に、マイクロ流路２の開放面を塞ぐと共にマイクロ流路２に連通する液体注入口４と液体排出口５とが形成された蓋板３を接合した構成を有するマイクロ流路デバイスにおいて、基板１と蓋板３との接合、及びマイクロ流路２の内面の全部又は一部に対するコーティングが共に、有機バインダーを含有するシリカゾルを主成分とする塗膜６で行われている。 （もっと読む）

【課題】製造時にＭＥＭＳデバイスが汚染される可能性が低いＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの製造方法は、ＭＥＭＳデバイスのベースとなるガラス基板２０をシリコン（Ｓｉ）基板と陽極接合するステップと、ガラス基板２０の分離予定部２１上にＳｉパターン７０が形成されるように、前記Ｓｉ基板のパターン形成を行うステップと、分離予定部２１について、ガラス基板２０とその上に形成されたＳｉパターン７０の一部とをダイシングするステップと、ダイシング後に、ＭＥＭＳデバイスが有する可動部とアクチュエータとをガラス基板２０のＳｉパターン７０が形成される側に配置するステップと、その後一部がダイシングされたＳｉパターン７０について力を加えて破断し、ガラス基板２０を分離予定部２１で分離するステップと、を具備する。 （もっと読む）

【課題】磁気吸引力や磁気効率をさらに向上させ、微小磁界であっても容易に動作することができる機構デバイスを提供する。
【解決手段】基板２の上面に設けられ、基板２の裏面に設けられた第２の裏面電極７ｂと導通する導電性の下部電極１０と、基板２の上面に設けられ、先端部側に磁性体部２２を有し基端部側が基板２上面に取り付けられて導電性を有する梁構造２１をなし、基端部側が基板２の裏面に設けられた第１の裏面電極７ａと導通する上部電極２０とを備え、上部電極２０の基端部側と第１の裏面電極７ａとの間にこれらを導通する非磁性体６を充填すると共に、下部電極１０と第２の裏面電極７ｂとの間にこれらを導通する強磁性体９を充填した。 （もっと読む）

【課題】静電気の帯電によって影響を受けるスイッチ素子の第１および第２の素子電極の誤動作を防止する機構デバイスを提供する。
【解決手段】機構デバイスは、上面に形成された第１の素子電極１１と第２の素子電極１２、これら素子電極１１、１２の両端にそれぞれ電気的に接続されたスルーホール１３ａ、１３ｂ、および各スルーホール１３ａ、１３ｂにそれぞれ電気的に接続さて回路基板３０に接合された外部接続用端子１４ａ、１４ｂを有する素子形成基板１０と、この素子形成基板１０に第１の素子電極１１と第２の素子電極１２を覆うように固着され、一方のスルーホール１３ａに接合された金属膜４０を表面に有する素子保護用基板２０とを備えている。 （もっと読む）

マイクロ流体デバイス(10)は、互いに結合された第１と第２のガラス基板(12、42)を含む。第１のガラス基板(12)は、第１及び第２の対向面(14、16)を有する。第１の対向面(14)にダイポケット(18)が形成され、ダイポケット(18)から第２の対向面(16)まで貫通スロット(22)が延在する。第２のガラス基板(42)は、第１のガラス基板(12)の第２の対向面(16)に結合され、それにより第２のガラス基板(42)に形成されたチャネル(48)の出口（Ｏ_２）が、貫通スロット(22)と実質的に位置が合う。第２のガラス基板(42)のチャネル(48)は、出口（Ｏ_２）より大きい入口（Ｉ_２）を有する。 （もっと読む）

【課題】異なる基板上に形成されたデバイス間で無線通信を行い、配線の接続不良を低減した半導体装置を提供する。
【解決手段】第１の基板上に、第１のアンテナを有する第１のデバイスを設け、第２の基板上に、第１のアンテナと通信可能な第２のアンテナを有する第２のデバイスを設け、第１の基板と第２の基板を接合して半導体装置を作製する。第１の基板と第２の基板は、接着層を介した接合、陽極接合、又は表面活性化接合により接合される。 （もっと読む）