【課題】圧電型マイクロスピーカー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】圧電型マイクロスピーカーは、振動板が第１領域と第２領域とに区分される。この際、第１領域は、その加振力を最大化させる材質で構成し、第２領域は、第１領域より相対的に初期応力が小さくてヤング率の低い材質で構成することができる。これにより、振動板の変形効率を高めることができて出力音圧が高くなる効果がある。 （もっと読む）

【課題】流路壁を構成するために可撓性部材を必要とすることなく、マイクロ流体を長い距離に渡って搬送することができ、製造工程及び製造コストを低減することができるマイクロ流体送液装置を提供する。
【解決手段】基板２内にマイクロ流路７が形成されており、マイクロ流路７の流路方向においてマイクロ流路の複数の位置において、外部刺激によりガスを発生する複数のマイクロポンプ８〜１３がそれぞれ接続されている、マイクロ流体送液装置１。 （もっと読む）

【課題】熱効率の改善によって駆動力の発生における応答性を向上させることができる技術を提供する。
【解決手段】固定部と、一端が該固定部に固設され、且つ一方向に延設される板状の可動部と、を備えるアクチュエータにおいて、該可動部が、一端が固定部に固設され、且つ上記一方向に延設される板状の支持層と、加熱に応じて上記一方向に膨張または収縮する駆動部層とを含む複数層が積層されて形成される。そして、該可動部が、上記一端とは反対側の他端近傍に断熱部材を有するようにしている。 （もっと読む）

【課題】可動子の大変位が可能なムービングマグネット型の電磁駆動型アクチュエータの提供。
【解決手段】固定部２と、可動子１と、可動子１を固定部２に連結して支持する１又は複数の可撓性の支持部３と、可動子１に形成された永久磁石４と、永久磁石４の周囲に磁界を発生させるコイル５とを備え、コイル５が発生させた磁界により可動子１を変位させる電磁駆動型アクチュエータ。可動子１及び支持部３は、シリコン窒化膜により一体形成されており、永久磁石４は、ＲＥ₂ Ｆｅ₁₄ＢとＭとを交互に堆積させた多層膜構造を有する膜状の永久磁石である。但し、ＲＥは希土類金属元素の何れか１つ、ＭはＴａ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｚｒ及びＭｏの内の少なくとも１つ。 （もっと読む）

【課題】長期駆動時の信頼性を向上させるとともに、下部電極と外部との電気的接続が容易な振動ミラー素子を提供する。
【解決手段】この振動ミラー素子１００は、ベース部材１０と、ミラー部２１と、ミラー部２１を両側から揺動可能に支持するとともに下部電極として機能する可動部２２と、可動部２２を支持するとともにベース部材１０に取り付けられる取り付け部２３とが一体的に形成されたチタンからなる基板２０と、基板２０の可動部２２上に設けられるとともに、周期的な電圧が印加されることによりミラー部２１を振動させる圧電膜３２と、圧電膜３２上に設けられた上部電極３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズモニック材料またはメタマテリアルとしての機能を発現する微小構造体と、これを基板上に担持した光制御素子、及びそれらの簡易で安価な製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に,硫黄化合物および酸化ケイ素(SiO₂)を含む混合材料からなる薄膜層を形成し(工程1a),薄膜層上にレーザ光を照射して微細孔を形成すると共に,該微細孔を囲う外壁を構成する領域を変質させ(1b),微細孔内に,Au、Ag,Cu,Al,Ti,Cr,Si,Geもしくは前記金属の合金から選ばれる１種の材料を充填し(1c),選択的なエッチング処理により微細孔を囲う外壁を残し,凸状構造体に形成(1d)して、ナノメートル乃至マイクロメートルサイズの微小構造体及び光制御素子を作製する。 （もっと読む）

一つまたは複数の多孔質膜で分離された中央マイクロチャネルを有する本体を含むシステムおよび方法を提供する。膜は、中央マイクロチャネルを二つ以上の並列した中央マイクロチャネルに分割するように形成され、一つまたは複数の第一流体が第一中央マイクロチャネルを通じて適用され、一つまたは複数の第二流体が第二以降の中央マイクロチャネルを通じて適用される。各多孔質膜の表面は細胞の付着を支持するため細胞接着分子でコートすることができ、かつ膜の上面または下面における細胞の組織化を促進する。細孔は、ガスおよび小さい化学物質を交換できる程度の大きさ、または大きいタンパク質および生体細胞全体の移行とチャネル通過ができる程度の大きさにすることができる。流体圧力、流量およびチャネルの形態を変えることによっても、一方または両方の組織層に所望の機械力を印加することができる。

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本発明は、少なくとも１種の液体で充填され且つ少なくとも１つの膜で閉鎖された少なくとも１つの閉鎖筐体が設けられたデバイスを作製する方法であって、
ａ）液体状態の少なくとも１つの所定の材料を支持体（１００）上に堆積する段階と、
ｂ）所定の材料（１３０）を少なくとも部分的に凝固させるかまたはゲル状態にする段階と、
ｃ）膜及び支持体が、所定の材料で充填された少なくとも１つの閉鎖筐体を形成するように、凝固した材料上に膜を作製する段階と、
ｄ）閉鎖筐体中で所定の材料が再度液化するように、所定の材料（１３０）を融解させる段階と、を含む方法に関する。
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【課題】複雑な機構を用いることなく、迅速に作動させることができ、使用環境の制約が少なく、作動温度をより厳密に決めることができ、繰り返し使用することが可能となる可動部をラッチする温度ラッチデバイスを提供する。
【解決手段】所定の温度に応じて可動部を特定された位置にラッチする温度ラッチデバイスであって、
前記可動部は、温度変化に応じて固相である状態と液相である状態の間で繰り返し可逆的に変化する熱活性部材により、少なくとも一部が被覆された可撓性部材によって構成され、
前記構成体は、前記熱活性部材が固相であるとき剛性を有し、前記熱活性部材が液相であるとき柔軟性を有する構造とされている。 （もっと読む）

【課題】支持基板の小型化が可能な圧電薄膜デバイス、および、その製造方法を提供する。
【解決手段】矩形板状の単結晶基板からなる支持基板１と、支持基板１の一表面側に形成された可動部１０とを備え、可動部１０が、支持基板１の一表面側に立設され、支持基板１の厚み方向に直交する規定方向において離間した一対の短冊状の電極１２，１２と、支持基板１の一表面側に形成した圧電薄膜を用いて形成され、規定方向において一対の電極１２，１２間に介在する短冊状の圧電層１１とを有する。また、可動部１０は、一対の電極１２，１２および圧電層１１を覆う形で支持基板１の厚み方向に板状の変位量増大部１４が立設されている。一対の電極１２，１２間に電圧を印加していない状態で、発光デバイス（例えば、半導体レーザなど）からの光を阻止し、一対の電極１２，１２間に電圧を印加した状態で光を通過させることができる光スイッチを構成できる。 （もっと読む）

【課題】圧電膜が製造プロセス中の損傷および／または汚染から十分に保護されうる、ＭＥＭＳ素子用圧電膜構造を製造するための方法および装置を提供すること
【解決手段】例示的実施形態によれば、第１の面、前記第１の面と反対側の第２の面、および前記第１の面と前記第２の面との間に形成された空隙とを備える基板と、前記基板の前記第１の面に形成された第１の圧電薄膜構造と、前記基板の前記第２の面に形成された第２の圧電薄膜構造とを有するＭＥＭＳ素子が提供される。 （もっと読む）

【課題】可動接点と両固定接点との間の寄生容量を低減しつつ、より低消費電力で所望の接圧を確保することが可能なＭＥＭＳスイッチおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】構造体部２は、ベース基板１の厚み方向に直交する面内の中央部に可動接点２５が設けられ、支持部２２が平面視において可動接点２５を中心として可動板部２１を囲む仮想四角形ＶＳの４つの角それぞれに設けられ、可撓部２３が仮想四角形ＶＳの各辺のうち固定接点３５，３５の並設方向に直交する辺に沿って配置され、可撓部２３における支持部２２側とは反対側の端部が上記並設方向に沿った連結部２８を介して可動板部２１と連結され、圧電アクチュエータ４は、可動接点２５を中心として４つの可撓部２３それぞれの同じ位置に設けられ、静電アクチュエータ５は、上記並設方向において隣り合う可撓部２３，２３の間に設けられ、圧電アクチュエータ４よりも平面視の面積が大きい。 （もっと読む）

【課題】 マイクロマシンの振動を収まりやすくすることにより、出力信号のノイズを低減できるマイクロマシン装置及びマイクロマシン装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 主面上に信号用配線１５が設けられた基板１１と、前記基板１１の前記主面上に搭載され、導電材から梁状に構成され、電界の作用により前記信号用配線に接離するように弾性変形するとともに、該変形に伴って電気特性を変化させるマイクロマシン１６と、前記導電材よりも粘性係数が高い材料で構成され、前記マイクロマシン１６の前記信号用配線１５と反対側に設けられ、前記マイクロマシン１６の前記信号用配線１５から離間する方向への変形を規制する変形規制部１８と、前記基板１１の主面上に設けられ、中空部を介して前記マイクロマシンを覆う封止体２１、２２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】機械共振器の共振周波数をより高くし、加えて、Ｑ値をより高くできるようにする。
【解決手段】ＧａＡｓの結晶からなる基板１０１の上に、Ｉｎ_0.1Ｇａ_0.9Ａｓからなる膜厚３μｍのバッファ層１０２が形成され、バッファ層１０２の上にＩｎ_0.1Ａｌ_0.9Ａｓからなる膜厚２μｍの歪み印加層１０３が形成され、歪み印加層１０３の上にＧａＡｓからなる膜厚２００ｎｍの振動部形成層１０４が形成された状態とする。次に、振動部形成層１０４および歪み印加層１０３を選択的に除去し、基板１０１の上に細線構造１０５が形成された状態とする。この後、細線構造１０５の下部の歪み印加層１０３を除去し、２箇所の支持部１０６により支持された梁構造１０７が、基板１０１の上に離間して振動可能に形成された状態とする。 （もっと読む）

本発明は、一般に、光活性コーティング材料を含むコーティング材料に関する。本発明のある態様では、マイクロ流体チャネル上にコーティングとして形成することができるゾル−ゲルが提供される。ある場合には、このゾル−ゲルの１つまたは複数の部分を反応させてその疎水性を変えることができる。例えば、１組の実施形態では、ゾル−ゲルの一部を紫外線などの光に暴露することができる。この光を使用して、ゾル−ゲル中に、その疎水性を変える化学反応を引き起こすことができる。１組の実施形態では、ゾル−ゲルは、露光するとラジカルを生成する光開始剤を含むことができる。任意選択で、光開始剤は、ゾル−ゲル内のシランまたは他の材料と結合することができる。こうして生成したラジカルを用いてゾル−ゲルの表面で重合反応を引き起こし、表面の疎水性を変えることができる。
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【課題】構成が簡単で製造が容易であり、かつ従来のマイクロバルブと同程度に機能し得るマイクロバルブを有する微細流路を提供する。
【解決手段】微細流路１ａのマイクロチャンネル３が備える第１の反応流体Ａの流路６および第２の反応流体Ｂの流路７の所定位置に、マイクロバルブ１０，１１をそれぞれ備える。マイクロバルブ１０，１１は、微粒子状磁性体の滞留領域１２，１４と、これに対応して磁界の作用をおよぼし得る位置にそれぞれ付設した磁石機構１３，１５とをそれぞれ有する。これにより、磁石機構１３，１５による磁界の作用時には、凝集した微粒子状磁性体が滞留領域１２，１４に密着して流路を閉塞する。また、磁界の非作用時には、凝集した微粒子状磁性体が、滞留領域１２，１４内で移動するか第１の反応流体Ａおよび第２の反応流体Ｂ中にそれぞれ分散して流路６，７を開放する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳ等の機能素子への影響を抑えることができる小型な３次元モジュールを提供する。
【解決手段】電極基板３０と駆動基板４０を接合させる基板間接合部材２１は、導電性応力吸収部材４６と応力吸収接合部材６０を有し、導電性応力吸収部材４６は、電極基板３０と駆動基板４０を電気的に接続させつつ、例えば駆動基板４０が熱や外力等によって反って駆動基板４０に応力が生じた際、この応力を吸収するために所望する方向に変形し、応力吸収接合部材６０は、電極基板３０と駆動基板４０を機械的に接合する。 （もっと読む）

【課題】樹脂の硬化時に発生する反りを抑制することを可能にするとともに薄化を可能にする。
【解決手段】内部にＭＥＭＳデバイス２２を含み、ＭＥＭＳデバイスと電気的に接続される第１パッド２４がＭＥＭＳデバイスの上面に形成された第１チップ２０と、内部に半導体デバイス１２を含み、半導体デバイスと電気的に接続される第２パッド１２が半導体デバイスの上面に形成された第２チップ１０と、第１樹脂３４に第１材料定数調整剤３６ａが添加された第１接着膜３２ａと、第２樹脂３４に第２材料定数調整剤３６ｂが添加された第２接着膜３２ｂとが積層された積層構造を有し、少なくとも第１チップの側面と第２チップの側面とを接着する接着部３０と、を備えている。 （もっと読む）

【解決手段】構造は、少なくとも一つの装置、例えば超小型電子チップと、制御された気圧の下で基板（２）と封止カバーとによって画定されたキャビティ内に配設された少なくとも一つのゲッタ（６）と、を備える。ゲッタ（６）は、好ましくは金属性の少なくとも一層のゲッタ層（７）と、調整サブ層（８）とを含む。調整サブ層は、基板（２）上に純金属から形成され、ゲッタ層（７）と基板との間に配置される。調整サブ層（８）は、ゲッタ層（７）の活性化温度を調節するように設計される。ゲッタ層（７）は２層の基本ゲッタ層（７ａ，７ｂ）を含む。
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【課題】効率的に混合、分離作用を行わせることが可能なマイクロ流体コンポーネントの製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体コンポーネント１のチャンネル２の内壁にナノ構造体１３ａ〜１３ｃを埋設する。このナノ構造体１３ａ〜１３ｃは、その場成長により形成され、それにより前記チャンネル２の側壁４，５上及び前記下部壁３上に堆積された金属触媒の層となる。さらにマイクロチャンネル２に前記ナノ構造体が形成される前に、基板７の前記表面上を保護カバー１１で封止する。封止はカバー１１の材料と前記触媒の金属との間に共晶化合物を形成することにより行われ、その触媒は、前記ナノ構造体１３ａ〜１３ｃのその場成長の目的で用いられ、かつ、前記カバー１１と接触するように設計された前記基板７の表面上に堆積されている。 （もっと読む）