【課題】弁体が非接触であり、排気能力が高く、応答速度も速いという長所を維持しつつ、気密性を向上させて、高圧力下における高速処理に対応しうる流路開閉装置を提供する。
【解決手段】流体を流すための流路２１を有するボディ２０と、流路２１内でこの流路２１に対して垂直な回転軸を中心として回転可能な弁体２３と、を備えたバタフライバルブであって、弁体２３の縁部に沿って、弁体２３の全閉時に形成されるボディ２０と弁体２３との隙間ａにおける流路方向のシール長Ｌを拡張するシール長拡張壁６６を突設している。 （もっと読む）

【課題】真空弁の製造コストを下げ、部品点数を削減できる、真空弁用プラグを提供する。
【解決手段】ケース２１と、前記ケース２１に形成した弁体収納孔２１１に収納する弁体２２と、からなる真空弁２の前記弁体収納孔２１１を封止するための真空弁用プラグ１であって、前記弁体２２と嵌合可能な係止部を有し、前記弁体収納孔２１１に螺合可能であり、前記ケース２１との接触面には、前記弁体収納孔２１１の開口を囲繞するＯリングを設ける。 （もっと読む）

【課題】矩形の開口部においても、熱膨張や寸法誤差を吸収することができ、相手面の片当りなどが発生しても、均一な接触面圧を保持し、安定したシール性を発揮でき、放出ガスが発生して、環境に影響を及ぼすことがないメタルシール材を提供する。
【解決手段】シール溝に装着される環状の平板形状のメタルシール材であって、シール溝の一方側の側壁に立設したヒンジ部に当接する支点部と、支点部よりシール溝と反対側に延設したシール領域部と、支点部よりシール溝側に延設したスプリング領域部と、を備え、シール領域部は、メタルシール材が当接する被当接部材と当接する方向に突設したシール部を有し、スプリング領域部は、バネ弾性を有するスプリング部を有する。 （もっと読む）

【課題】容易に開弁することができるとともに落下防止用のストッパが不要な真空弁ユニットの仕切弁を提供する。
【解決手段】真空管路５６を塞ぐ弁体部４１と、弁体部４１が取り付けられた弁棒部４２と、真空管路５６の途中に設けた縦管部４３と、縦管部４３に取り付けられており弁棒部４２が挿通される挿通孔４４ａを有する弁蓋部４４と、を備える真空弁ユニットの仕切弁４である。
そして、弁蓋部４４の挿通孔４４ａには、雌ネジ溝が螺刻されるとともに、弁棒部４２の外周には、挿通孔４４ａに挿通される範囲の全長にわたって雌ネジ溝と螺合する雄ネジ溝が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ガスが漏れない方法で隔離することができる半導体または基材加工プロセスチャンバ内に半導体素子または基材を移送するためのフラップ移送弁を提供する。
【解決手段】第一の密封平面４１上に存在する第一の密封表面３により、フレームの形態に取り囲まれた細長い第一の開口部１と、第一の密封表面３に対応し、第二の密封平面４２上に位置する第二の密封表面９を有する細長い弁閉鎖体ビーム４とを有し、支持体４０は、弁閉鎖体ビーム４の背面７上に配置され、支持体４０上には、旋回可能な接続部４３を介し、傾斜軸４４を中心として、限定された旋回角度を通して旋回することができるように、弁閉鎖体ビーム４が配置されている。支持体４０は、弁閉鎖体ビーム４と合わせて、旋回軸受６０により、旋回軸１０を中心として旋回することができる。 （もっと読む）

【課題】ヒータの発熱によりバルブ内への生成物の付着を防ぎ、バルブのボデーを分解することなく弁体部分等のメンテナンスを実施できるバタフライ式圧力制御バルブを提供する。
【解決手段】流路を有するボデー８１とこの流路を弁軸８９により開閉可能な弁体８３とを有し、真空チェンバと真空ポンプとの間に接続されるバタフライ式圧力制御バルブである。弁軸８９に弁体８３を着脱自在に取付けると共にこの弁軸８９にヒータを取付け、このヒータに接続した配線９２を介して外部より電流を流すことでヒータを発熱させ、この熱を弁軸８９から８３弁体に伝導した。 （もっと読む）

バタフライ弁は、弁開口部（１４）を含む本体（１２）と、弁開口部に対して可動であるように回転軸（２２）を中心として回転可能に取り付けられたフラッパ（１６）とを備える。フラッパは、少なくとも１つの全開位置、全開位置から９０°離れた少なくとも１つの全閉位置、およびもう一方の同じ位置から１８０°離れた、全開位置または全閉位置のどちらかの第３の位置まで可動であるように、回転軸を中心として少なくとも１８０°回転可能である。一実施形態では、フラッパは、１８０°離れた２つの開位置のそれぞれまで、および互いに１８０°離れかつ全開位置のそれぞれから９０°および２７０°離れた２つの閉位置まで可動であるように、回転軸を中心として少なくとも３６０°回転可能である。本弁は、容易に較正および制御することができ、また洗浄と次の洗浄との間の耐用期間を延長させるために洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】バルブ全高を大きくせずにコンダクタンスを大きくできる真空弁を提供すること。
【解決手段】真空容器に接続される配管上に配設され、弁の開閉により真空容器内の真空度を制御する真空弁１において、弁体５を内包するボディ２が筒状であり、ボディ２の側面に第１筒状孔部１０９と第２筒状孔部３が同じ加工方法で設けられ、第１筒状孔部１０９にポート形成部材１０４が接続され、第２筒状孔部３に、第２筒状孔部３の開口端面を塞ぐ閉鎖部材４が接続されている。 （もっと読む）

【課題】大気圧又は大気圧に近い低真空から高真空までの広い圧力レンジを簡単に圧力制御でき、高精度に圧力制御しながらスロー排気してパーティクルの飛散を確実に防止する真空圧力制御システムを提供する。
【解決手段】真空ポンプ５を介して真空容器４内の真空圧力を変化させる開閉弁２と、真空容器４内の真空圧力を計測する真空圧力センサ３を介して開閉弁２の開度を制御する真空圧力制御システムであり、到達関数ｆ(ｘ)を算出する演算機能と、開閉弁２を任意の時間幅でオープンクローズするタイマー６０と、オープン・クローズ開度値を真空圧力センサ３の出力と到達関数ｆ(ｘ)から演算する機能とを有する制御ユニット手段１０と、開度値を駆動する駆動手段１２と、圧力低下の所要時間Ｔと到達圧力Ｐを外部からコマンド入力する入力手段１３とを設けて、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで低下させるようにした。 （もっと読む）

【課題】弁体の構造や形状を適正化し、弁体の開閉精度を向上させた調整弁装置を提供する。
【解決手段】弁体３１０は、弁体頭部３１０ａと弁体身部３１０ｂとが弁軸３１０ｃにより連結された構造を有する。弁箱３０５は、弁体３１０と動力伝達部材３２０ａとを摺動可能に内蔵する。第１のベローズ３２０ｂは、動力伝達部材３２０ａ及び弁箱３０５に固着されることにより、動力伝達部材３２０ａに対して弁体と反対側の位置に第１の空間Ｕｓを形成する。第２のベローズ３２０ｃは、動力伝達部材３２０ａ及び弁箱３０５に固着されることにより、動力伝達部材３２０ａに対して弁体側の位置に第２の空間Ｌｓを形成する。第１の配管３２０ｄから第１の空間Ｕｓに供給されたエアーと第２の配管３２０ｅから第２の空間Ｌｓに供給されたエアーとの比率に応じて動力伝達部材３２０ａから弁体頭部３１０ａに動力を伝達し、搬送路２００ａを開閉する。 （もっと読む）

【課題】磨減や摩擦を生じる運動がシール材に発生せず、長期間の耐用期間・動作期間後にも使用開始時のトルクが低下することがない、バタフライ型式のバルブ構造を提供する。
【解決手段】環状のハウジング部分１１およびその内部で回転軸を中心として回転可能に配置された弁体１２，１２’を含んでおり、ハウジング部分には弁座１７が配置されており、弁座はプレート状に構成されるとともに、隣接する２つの開口部２０，２１を有しており、回転軸はウェブと平行に配置されており、弁体は２部分で構成されており、弁体はそれぞれの平面で相互に平行に、かつこれに対する垂直方向ではオフセットされており、閉じた位置のとき弁体が弁座プレートの両方の側でそれぞれ位置決めされ、開口部の間にはその輪郭および両方の弁体に沿って弁座プレートの両側にそれぞれ１つのシール材１５，１６が配置されており、弁体が閉じたときに当接する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空処理装置における真空処理室の排気側に設けられる圧力調整弁において、弁体を加熱するようにするとともに、弁体および弁体加熱手段の交換を容易にし、弁体および弁体ホルダ等からなる弁部の厚みをできるだけ小さくした圧力調整弁を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の圧力調整弁は、真空処理装置における真空処理室の排気側に設けられる圧力調整弁において、弁体加熱手段を装着した弁体を弁体ホルダに着脱可能に取付け、該弁体と弁体ホルダとの対向面に位置し、かつ、対向面に沿って平板状接続端子を弁体および弁体ホルダにそれぞれ設けることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】一つの排気路（主排気路）のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を提供する。
【解決手段】減圧排気弁１０は、一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる。この減圧排気弁１０は、前記排気路に接続される管部１１と、前記管部１１内において支持軸１４によって支持され、当該支持軸の軸芯回りに回転して前記排気路を開閉する偏平状に形成されたバタフライ弁１２により構成される。前記バタフライ弁１２は、その全体が通気孔を有する多孔質部材により形成されている。 （もっと読む）

【課題】 排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。
【解決手段】 イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。圧力調整手段２０は、排気口２９の断面に平行な方向に沿って排気口２９の開位置と閉位置の間で移動可能に構成されている。コントローラ２０６は、排気系４による真空引きを行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の開位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出するとともに、真空容器２内での成膜を行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の閉位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出する。 （もっと読む）

【課題】高真空バルブにおいて、弁部材を開閉駆動するロッドの軸シール部から真空雰囲気にある流路へのグリースの蒸発、溶出、流出を抑制し、軸シール部の長寿命化を図る。
【解決手段】この高真空バルブは、第１のポート１２と第２のポート１３との間の流路１１に弁座１６を設け、該弁座に接離する弁部材１４を備えた弁体部１と、パイロット流体圧により駆動されるロッド１５が上記弁座に対向する流路壁を貫通して流路内に挿入され、その先端に連結した弁部材を弁座の開閉のために駆動する弁駆動機構部２とを備える。上記ロッドの軸シール部３０を、貫通孔１８内にグリース溜３１を設けて、該グリース溜の流路１１側にグリース保持用のシール部材３２を設けると共に、グリース溜の反対側に真空シール用シール部材３３を設け、グリース溜の軸方向長さを、上記弁部材の最大ストロークと同じかそれ以上に形成する。 （もっと読む）

【課題】真空領域内を圧力制御することに好適なバタフライ式圧力制御バルブであり、設置スペースが小さく、小さい操作力により高速制御して、弁閉時には弁閉状態を維持して高シール性を発揮し、流量制御時には微小流量から大流量まで正確に制御でき、一般的なバタフライバルブと同等の耐久性を発揮しつつ、単体でアイソレーション機能を発揮して大気圧から低真空までのソフト排気の排気時間を制御できるバタフライ式圧力制御バルブを提供する。
【解決手段】バタフライ式圧力制御バルブは、バルブ開閉機構２２を有する。バルブ開閉機構２２は、エア流路２５へのエアの供給によりシートリング２４を弁体２３から離間させた状態でこの弁体２３を無摺動で回転させ、弁体２３を弁閉状態に回転したときにエア流路２５へのエアの供給とスプリング２６の付勢力とにより弁体２３にシートリング２４を接離させて流路２１内の圧力を制御する。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子の製造において反応容器内の圧力を、１つで調整することができ、圧力の調整範囲が広く、かつ反応容器内における異物の舞い上がりを防止することのできる半導体素子製造用の圧力調整弁およびこれを備える半導体素子製造装置を提供することである。
【解決手段】 半導体素子製造用の圧力制御弁２１は、筒体３３と、弁体３４と、弁体駆動部３７とを含んで構成される。筒体３３は、内部に筒体３３内空間が形成され、開口部３６と弁座３５とを有する。開口部３６は、外部空間に開口する。弁体３４の変位方向Ｚに垂直な断面の形状は、円形に形成され、弁体３４は、筒体３３内空間から弁座３５に向かって先細状に形成される。弁体３４の弁座３５側の先端における直径は、弁座３５に形成される弁口の内径よりも小さく設定される。弁体駆動部３７は、弁体３４を変位方向Ｚに変位させる。 （もっと読む）

【課題】高温環境において使用された場合でもラジカルによりシール部材が劣化することを防止できるゲートバルブ装置を提供する。
【解決手段】弁座６３に対して所定の距離が離間した状態で着座して開口部を閉塞する弁体と、弁体が弁座に着座したときに弁体と弁座との間をシールするシール部材と、を有するゲートバルブ装置であって、シール部材は、常温環境下で弁座を押圧することにより弁座から作用する反作用力を受けて弾性変形する第１シール部５８と、高温環境下で熱膨張することにより弁座を押圧すると同時に弁座から作用する反作用力を受けて弾性変形する第２シール部６０と、を有し、第１シール部５８の体積は第２シール部６０の体積よりも小さく設定され、第１シール部５８の弁座側の先端部は第２シール部６０の弁座側の先端部よりも弁座側に位置している。 （もっと読む）

【課題】被処理体に付着する異物粒子数を低減させた半導体製造装置を提供する。
【解決手段】本発明では、被処理体を処理するための処理室と、該処理室にガスを供給するガス供給手段と、被処理体を戴置するための戴置電極と、前記処理室を減圧するターボ分子ポンプと、前記処理室の圧力を調整するために前記ターボ分子ポンプと前記処理室の間に設置されたバタフライバルブとを有する半導体製造装置において、前記バタフライバルブのフラッパーに異物粒子落下防止用のストッパーを設置した。 （もっと読む）

【課題】製品組立後でもストローク調整部材の原点位置を簡単且つ正確に調整できる真空弁を提供すること。
【解決手段】真空弁１は、第１ピストン２６と第２ピストン２７を個別に移動させることにより弁体７のストロークを変更し、流量を段階的に制御する。真空弁１は、第２ピストン２７を上蓋２２に当接させた状態で第２ピストン２７に突き当たるまでストローク調整部材３８を調整ネジ部１１ｄに締め付けてストローク調整部材３８を止めネジ３９で固定することにより、ストローク調整部材の原点位置を調整する。 （もっと読む）