【課題】上下シェルハーフが周壁の複数箇所において突合わせ溶接されて形成されかつ内蔵された記録媒体に対するアクセス用開口を備えた扁平なハウジングと、このハウジングのアクセス用開口を開閉すべくハウジングに移動可能に取り付けられた、開口を備えたシャッタとを有する記録媒体カートリッジにおいて、上下シェルハーフの溶接時に記録媒体が損傷を受けるのを防止する。
【解決手段】溶接箇所Ｗ_１〜Ｗ_３の溶接時には、シャッタ７を、その開口７ａが溶接箇所Ｗ_１〜Ｗ_３と対向しなくなる位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、周囲の画素に影響を当与えることなく、簡易な工程で輝点を黒点化することができ、この黒点が時間経ても輝点に戻ることなく、維持されるような輝点欠陥の補修方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、一対の基板（２０ａ、２０ｂ）と、当該一対の基板の間に介在する液晶層（１０）と、基板と液晶層の間に設けられて液晶層の液晶の配向を規制する配向膜（１２ａ、１２ｂ）とからなる液晶パネルを備える液晶表示装置の輝点欠陥画素（Ｂ）を補修する方法であって、配向膜の輝点欠陥画素に対応する範囲にレーザ光を照射して配向膜の配向規制力を局所的に低下または消失させる工程を含み、液晶を表示させる時に、前記配向規制力を低下または消失させた範囲を透過する光の強度を低下させることによって輝点欠陥画素を補修することを特徴とする液晶表示装置の欠陥補修方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】潤滑油漏れが無く、小径化及び或いは薄型化できる動圧流体軸受けユニット、その製造方法、レーザ溶接装置、動圧流体軸受けユニットを備えたモータ及びそのモータを備えた電子機器を得ること。
【解決手段】本発明の動圧流体軸受けユニット１０Ａは、内部に潤滑油Ｌが封入され、回転軸１１がラジアル軸受け１２に回転自在に支持され、そのラジアル軸受け１２の外郭が円筒状の金属ケース１３で、上方が円盤状の蓋１４で覆われた動圧流体軸受けユニットであって、金属ケース１３の内周面と蓋１４の外周面との接合部１７がレーザで溶接されて封止部１６Ａが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定して基板を分断するためのスクライブ線を形成することができる基板加工装置および基板加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ光源２から出射されたレーザ光は、光成形光学系３により平行化され、かつレーザ光のパワーが調整される。そして、１／２波長板４により偏光方向が調整されて、集光光学系５により基板７に集光される。基板７にレーザ光が集光されることにより、基板７の内部において多光子吸収が起こり、多光子吸収により生じたイオン化領域におけるガラスは昇華する。ＸＹステージ８により基板７は、レーザ光に対して相対移動しているので、昇華して溝となった部分がスクライブ線となる。本実施形態では、基板７に対するレーザ光の移動方向に対して、レーザ光の偏光方向が常に一定となるように、１／２波長板４の回転を制御する。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池製造装置を改良し、ＸＹテーブル、レーザー発生装置及び光学系部材が高精度であり、正確なレーザースクライブが可能である太陽電池製造装置を提供する。
【解決手段】 太陽電池製造装置１は、ＸＹテーブル２と、４基のレーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄと、光学系部材５及び空調室６によって構成されている。レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄＣ、いずれもファイバーレーザー装置である。レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄのそれぞれと、光学系部材５はユニット化されている。ＸＹテーブル２の上部に設けられた架台２０にユニット２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄが取付けられており、レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄと、光学系部材５の全てが、ＸＹテーブル２の上方にある。空調室６内にＸＹテーブル２と、レーザー発生装置３と、光学系部材５の全てが設置されている。 （もっと読む）

【課題】 集積型太陽電池では、透明導電膜をレーザスクライブして区画する工程があり、各区画は絶縁性を確保する必要がある。しかし透明導電膜として酸化亜鉛を使用すると、レーザスクライブによって溝を形成しただけでは必要な電気絶縁性能が得らず、付加的な加工工程を要する。付加的加工無しに絶縁性を確保する方策を開発する。
【解決手段】 特殊なパワー分布のレーザ光を使用して透明導電膜をレーザスクライブする。レーザ光線の照射形状のパワー分布は、台形である。レーザ光の中心部の単位面積あたりのパワーを基準としてその１０％のパワーを有する領域の外郭面積が、５０％のパワーを有する領域の外郭面積の１．７倍以下である。レーザ光のパワー分布は、裾野部分が全く無いものであり、照射領域の周端部分は、１０μｍの間で９０％以上パワーが減衰する。 （もっと読む）

【課題】 レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する場合に、分解物による被加工物表面の汚染を効果的に抑制することのできるレーザー加工用保護シートを提供すること。また、前記レーザー加工用保護シートを用いたレーザー加工品の製造方法を提供すること。
【解決手段】 レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用保護シートにおいて、前記保護シートは基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、粘着剤層は芳香族炭化水素基含有化合物を含む粘着剤からなり、かつ基材及び粘着剤層のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）がそれぞれ０．４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^２）〕以上であることを特徴とするレーザー加工用保護シート。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工装置の大型化及び複雑化を招かない簡単な構成で、セラミックグリーンシート等の被加工物に対して貫通孔を形成する際、その貫通孔の延在方向に沿った貫通孔内壁にテーパの生じないレーザ加工方法及びその装置を提供する。
【解決手段】レーザ源から被加工物に至るまでの前記レーザビームの光路上に、レーザビームのビーム強度分布を変換するためのビーム強度分布調整素子を備え、
前記ビーム強度分布調整素子により、前記レーザビームのビーム強度分布が、被加工物上においてレーザビームの外周側が大きく、かつ中心側が小さくなり、レーザビームの外周側から中心側に向かってビーム強度が漸減するレーザ加工方法及びレーザ加工装置。 （もっと読む）

【課題】加工対象物の表面の測定時点と加工時点とが同一でなくても、また前記加工対象物の表面に微細な塵埃が付着していても、レーザー（アニール）加工ができるレーザー加工装置を得ること。
【解決手段】本発明のレーザー加工装置１は、レーザー変位計３に所定の間隔を開けて追従するレーザ加工手段４を用い、レーザー変位計３で加工対象物Ｗであるアモルファスシリコン層Ｗａの異なる表面の測定位置における高さを順次測定し、高さデーターを収集し、その収集した高さデーターを加工してレーザ加工手段４のレーザービームＬｂをアモルファスシリコン層Ｗａの前記測定位置の表面にフォーカス或いはオフセットさせて、アモルファスシリコン層Ｗａをアニールできるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 反射型液晶表示素子において、高い材料使用効率と、高い生産性と、画像表示品質とを得る製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の表示エリア（２０）を有する反射画素電極（５ａ）を表面に備えた画素電極基板（５Ｎ）と透明電極（２）を表面に備えた透明基板（１Ｎ）とを各電極が対向するように所定の間隙を有して貼り合わされた貼り合わせ基板（１５０）を、表示エリア（２０）毎に所定の切断部（２３）で分断する製造方法であって、画素電極基板（５）の切断部（２３）にレーザ光（６３Ａ）を照射して画素電極基板（５）を切断する工程と、透明電極基板（１）における切断部（２３）に対応する部位に外側からキズ（２４）を形成する工程と、透明電極基板（１）のキズ（２４）を形成した部位に衝撃を加えて透明電極基板（１）を分断する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 はんだ付け加工において部品焼け、ピン焼け、基板焼けを防止するインナーフォーカス、アウターフォーカスでの加工を容易に行える光加工装置を提供する。
【解決手段】 光学手段を保持する加工ヘッドを被加工物に対して上下方向に移動する第１の移動手段と、前記糸はんだ送給手段を被加工物に対して上下方向に移動する第２の移動手段と、前記糸はんだ送給手段を被加工物に対して左右方向に移動する第３の移動手段を設け、糸はんだ送給手段と被加工物との位置を最適に保つ。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの欠陥を短時間で修正することができ、装置価格が低く、装置設置面積が小さく、修正の品質が高い微細パターン修正装置を提供する。
【解決手段】 この微細パターン修正装置は、レーザビームを照射して黒欠陥を除去するレーザ装置１、欠陥を観察する観察光学系２、インクを塗布して色抜け欠陥を修正するインク塗布ユニット３、および突起欠陥を研磨して修正するテープ研磨ユニット５を含む修正ヘッド部６と、修正ヘッド部６を位置決めするＸＹＺテーブル７〜９と、被修正ガラス基板１０を搭載するガラス定盤１１とを備える。したがって、１台の装置で色抜け欠陥、黒欠陥および突起欠陥を修正することができる。 （もっと読む）

本発明は、カシメ、ハンダ付けによる接続法の問題点を回避できる、ポリマーＰＴＣ素子と金属リード要素との間の新たな電気的接続法を提供する。このため本発明は、（Ａ）（ｉ）層状ポリマーＰＴＣ要素（１２）及び（ｉｉ）層状ポリマーＰＴＣ要素（１２）の主表面上に配置された金属箔電極（１４）を有するＰＴＣ素子（１０）、並びに（Ｂ）金属箔電極に電気的に接続された金属リード要素（２０）を有して成る接続構造体をレーザー溶接を用いて製造する方法であって、金属箔電極（１４）は、少なくとも二つの金属層から形成され、層状ポリマーＰＴＣ要素（１２）から最も離れて位置する金属箔電極の金属層（第一層：レーザー光吸収率（ｂ％））（１８）と層状ポリマーＰＴＣ要素（１２）との間に、金属箔電極（１４）の金属層の中でレーザー光吸収率が最も小さい金属層（第Ｘ層：レーザー光吸収率（ａ％）、ｂ＞ａ）（１６）が存在する方法を提供する。
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非金属基板の分割装置および方法が、第１ビームと、冷媒流が基板の第１スポットの終端部位あるいはそれに直隣接する部位に付与されるように位置された第１冷却装置と、第２ビームと、第１冷却装置と第２ビームの間に位置された第２冷却装置を有するものとして開示される。第１スクライブビームが基板に入射する角度および基板に入射する第１スクライブビームのエネルギー強度の少なくとも一つが、直角分割を達成するために調節される。クラックセンサとコントローラも設けられ、切断線の位置が測定され、その位置が基準位置を比較され、切断線位置の基準位置との比較に基づいて第２ビームのパワー強度が調節される。
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【課題】 鮮明にマーキングを行うことができ、クラックが発生するのを防止することもできる。
【解決手段】 紫外線レーザ光１によってマーキング３０を施すようにしている。紫外線レーザ光１としては、例えば波長が１００〜４００ｎｍの範囲からなり、各種の硬質材料の全てに対して明確にマーキングを施せ、熱衝撃によるクラックを生じさせることのない必要があることから、１５７ｎｍ以上３５５ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、更には熱衝撃に特に弱い硬質材料も存在することから、３００ｎｍ以下が望ましい。レーザ発振源としては、Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７、ＣｓＬｉＢ_６Ｏ_１０、β−ＢａＢ_２Ｏ_４、Ｓｒ_２Ｂｅ_２ＢＯ_７などの結晶を利用した固体からなる。 （もっと読む）

本発明は、被覆バイポーラプレートを有する燃料電池を効率的に製造する方法を開示する。本発明は、すでに被覆が施された個々の金属プレートを一緒にレーザ溶接して、燃料電池内で使用されるバイポーラプレートを形成することを企図している。被覆プレートのレーザ溶接は、望ましくないレベルの耐食性の原因となるのに十分な大きさのプレートの過敏化を引き起こさない。この結果は、溶接されるプレート領域における有機被覆の存在に関係なく、またレーザビームによる有機被覆の除去に関係なく達成される。
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【課題】
【解決手段】パターニングされた多層薄膜構造体は、超高速レーザ及び吸収分光法を用いて、多層構造体の下側の層にダメージを与えることなくパターニングされる。この構造体は、熱スペクトル、強度スペクトル及び吸光スペクトルに基づいて除去可能な層を選択し、適切な波長（Λ）、パルス幅（τ）、スペクトル幅（Δλ）、スポットサイズ、バイトサイズ及びフルエンスでプログラムされた超高速レーザを用いることによって形成される。最終の構造体は、最後に設けられた層（頂部層）又は多層構造体内のより下位の層においてパターニングされた構造的特徴（ビア、絶縁領域又はインクジェット印刷された領域など）を有し得、且つ、有機発光ダイオード（OLED）及び有機薄膜トランジスタ（OTFT）の構成要素などのアプリケーションにおいて使用され得る。本発明の方法は、製品のスペックを決定するステップと、基板を提供するステップと、層を選択するステップと、該層を設けるステップと、該層をパターニングするステップと、多層薄膜構造体にさらなる層を追加する必要があるかどうかを判定するステップとを包含する。 （もっと読む）

２００ｎｍ未満の寸法を有する少なくとも１つの要素を有するマイクロ構造を、ワークピース上に製造する方法。約ｆｐｓ未満の期間および約３８０ｎｍ未満のピーク波長を有するＵＶレーザ光のパルスを生成する。これらのＵＶレーザ光のパルスを、ワークピース（１２４）の目標エリア内の実質的に回折限界のビームスポット（３０６）に集束する。ワークピース（１２４）の目標エリアにおけるこの実質的に回折限界のビームスポット（３０６）のフルエンスを、目標エリア（３０４）のうちＵＶレーザ光のパルスの１つによって加工された部分の直径が２００ｎｍ未満であるように制御する。
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照明波長の回折限界よりも大きな位置揃え公差を達成するように、レーザマイクロ加工システムを予備較正する方法。ビームスポットが上面に入射するように、ブランクをシステム中に装着する。ブランクに２つのマークをアブレーションする。マークの中心は所定距離離れている。ブランクを光で照明し、デジタルカメラで撮像する。得られた画像は、各画素が、照明波長の半分未満である、被撮像面上のある距離に対応する幅を有するようなスケールにされる。マークの中心間の画素数がこの距離を決定する。画像におけるマークの位置を決定し、デジタルカメラによって撮像される表面に対して座標系を定義する。この座標系におけるビームスポットの座標もまた、第２のマークを用いて決定される。
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【課題】レーザービーム形成方法及びレーザー処理方法
【解決手段】本発明は、第１の横の強度分布を有する第１のレーザービーム２１１がビーム形成素子２１５に向けられ、第１のレーザービーム２１１が、ビーム形成素子２１５によって、第２の横の強度分布を有する第２のレーザービーム２１６に変換されることを特徴とした、レーザービーム形成方法に関する。本発明によれば、第２の強度分布は、第２のレーザービーム２１６の光軸に垂直な好適方向を有し、ビーム形成素子２１５は、好適方向が光軸の回りに回転するように動作する。ビーム形成素子２１５は、機械的動作によって、第１のレーザービーム２１１の光軸の回りを回転する光学素子になり得る。しかし、好適には、ビーム形成素子２１５は、同様に作動させた場合や、いかなる機械的回転も防止している間、どんな任意の強度分布でも有する第２のレーザービーム２１６のいかなるビームの広さも事実上発生せしめる、動的システムによって構成される。本発明は、また有利な方法で材料をレーザー処理するためのレーザービームを形成する方法を用いることを特徴とした、レーザー処理方法に関する。 （もっと読む）