【課題】電波透過性、耐擦傷性、および可視光透過性に優れる電波透過部材を提供すること。
【解決手段】透明基板２に電波透過性を有する導電層４が形成された電波透過部材１であって、前記導電層４は、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、およびＳｂから選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物を含有するＳｎ酸化物主成分層であり、かつシート抵抗が１５００Ω／□以上６０００Ω／□以下であるもの。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜での光線の吸収を減少させ、光電変換効率を向上させることができる透明導電膜基板およびその製造方法、ならびにこの基板を用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】ガラス基板１８上に第一酸化物構造層１２、第二酸化物層１４及び導電性酸化物層１６がその順に形成された光電変換デバイス用透明導電膜基板であって、第一酸化物構造層１２には、ガラス基板１８の面から突出した複数の凸部が設けられ、前記凸部のガラス基板１８の面からの高さは２００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であり、第二酸化物層１４は、ＳｉとＳｎとの混合酸化物で構成され、該混合酸化物における、ＳｉとＳｎとの合計に対するＳｎのモル比（Ｓｎ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．０５〜０．３であり、第二酸化物層１４の膜厚は２〜１０ｎｍであり、導電性酸化物層１６は、Ｆを含有したＳｎＯ₂で構成されている。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置を実現する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、マザーガラスのような大きな基板を用いて、信頼性の高い半導体装置の大量生産を行うことの出来る成膜装置を提供することを課題の一とする。また、上記成膜装置を用いて安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板の搬送機構と、搬送機構が送る基板の進行方向に沿って、酸化物半導体を成膜する第１の成膜室と、第１の熱処理を行う第１の加熱室とを有し、基板は、該基板の成膜面と鉛直方向との成す角が１°以上３０°以内に収まるよう保持され、大気に曝すことなく、基板に第１の膜を成膜した後に第１の熱処理を施すことのできる成膜装置を用いて、酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とモリブデン層との密着力の向上が図られた成膜基板を製造する方法、成膜基板、及び成膜装置を提供すること。
【解決手段】所定量の酸素を含有する第１の雰囲気中で、ガラス基板２の表面に第１のモリブデン層３ａを成膜し、第１の雰囲気よりも酸素の含有率が低い第２の雰囲気中で、第１のモリブデン層３ａの表面に第２のモリブデン層３ｂを成膜する。これにより、酸化モリブデンを含む密着層３ａをガラス基板２上に成膜し、この密着層３ａの上にモリブデン層３ｂを成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】赤外線放射を反射する熱安定性の透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラスを製造する方法に関し、オーブン又は暖炉のための前面窓ガラス、及び防火ガラスのような、高温において利用するためののぞき窓ガラスに用いるガラスセラミック製窓ガラスを提供する。
【解決手段】透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラス１は、４．２未満の熱膨張係数αを有するガラス又はガラスセラミック基板２と、単層反射層として形成され、２．２よりも大きな屈折率を有する赤外線放射反射層３とを含む。 （もっと読む）

【課題】グレージングの良好な美、および熱処理（焼きなまし、強靭化、曲げ、折り畳み）に対する良好な耐性を有する高い機械的および化学的耐久性の両方を保証する膜を提供する。
【解決手段】積層が、連続的に、１．８〜２．３の屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの幾何学的厚さの第１層（１）、１．３５〜１．６５の屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₂の第２層（２）、１．８〜２．３の屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₃の第３層（３）、１．３５〜１．６５の屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含む薄層の積層（Ａ）からなる透明基板（６）。 （もっと読む）

【課題】一般ガラスに赤外線反射物質をコーティングされたガラスを使用して赤外線を一次的に反射した後、遮断されない残りの赤外線を二次的にＬｏｗ−Ｅガラスまたは熱変色性物質がコーティングされたガラスで反射させて、室内に流入または室外に流出される熱エネルギーを遮断できる二重窓システムを提供する。
【解決手段】本発明は第１ガラス部材、第２ガラス部材及び第１ガラス部材と前記第２ガラス部材間に設けられて前記第１ガラス部材と前記第２ガラス部材の間隔を維持するスペース部材を有する赤外線遮断のための二重窓システムであって、第１ガラス部材の一表面には近赤外線反射用ナノ物質コーティング膜が形成されており、第２ガラス部材の一表面には熱変色性物質コーティング膜が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用基板に表面欠陥が発生した場合でも、簡便にかつ基板の平坦度及び表面粗さに悪影響を及ぼすことなくマスクブランク用基板の表面欠陥を修正することのできる、低コストかつ高い歩留まりのマスクブランク用基板の製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】低放射率かつ低太陽熱利得係数で、コーティングされた側の反射色が中間色である、日照調整用のコーティングされたガラス物品を提供する。
【解決手段】コーティングされたガラス物品は、ガラス基板と、少なくとも前記ガラス基板上に被膜された第一及び第二のコーティングを有して形成されている。前記第一のコーティングは低放射率層であり、第一の屈折率を有している。前記第二のコーティングは反射層であり、前記第一のコーティングの第一の屈折率よりも大きい第二の屈折率を有している。このコーティングされたガラス物品は、Ｒｆ＞１５％、かつ放射率が約０．３以下である。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル性のある薄膜ガラスからなるガスバリア性部材において、ガスバリア性が高く、屈曲後も高いガスバリア性を維持する、安定性の高いガスバリア性部材及びその製造方法を提供し、かつ、該ガスバリア性部材を有する有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】薄膜ガラス３の少なくとも片面に、パーヒドロポリシラザンを含有する組成物から形成された保護層を有するガスバリア性部材において、該保護層が、１）二酸化ケイ素層１、及び２）１）とは組成の異なるケイ素化合物層２の少なくとも２層以上の層からなることを特徴とするガスバリア性部材。 （もっと読む）

【課題】凸形の集光レンズを用いて、正面輝度がより大きいディスプレイパネルを実現する。
【解決手段】前面基板を有する前面板と、背面基板を有し、前面板と対向配置された背面板と、赤色、青色、緑色を発光する画素と、を備えるディスプレイパネルにおいて、
前面ガラス基板と背面ガラス基板のうち少なくとも一方は、第１透明材料と前面板と背面板とが対向配置される面に形成された第２透明材料とを有し、第１透明材料と第２透明材料とは、屈折率が異なり、第２の透明材料の形状は、前面ガラス基板または背面ガラス基板の平面に対して平行方向に割断したときの割断断面が、略楕円半球状に形成されていることを特徴とするディスプレイパネル （もっと読む）

【課題】厚みが２００μｍ以下のガラスフィルムを基材とした光学フィルムであって、反りの抑制された光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルム１は、透光性のガラスフィルム１１と、第１及び第２の無機光学的機能膜１２，１３とを備えている。ガラスフィルム１１の厚みは、２００μｍ以下である。第１の無機光学的機能膜１２は、ガラスフィルム１１の一方の表面１１ａの上に形成されている。第２の無機光学的機能膜１３は、ガラスフィルム１１の他方の表面１１ｂの上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、担体流体を含む異色の複数の原色セラミック・プロセスカラーインクをセラミック要素又はガラスの表面上の少なくとも一部分に滴状付与することによりセラミック要素又はガラス上に多色面を形成する方法に関する。
【解決手段】少なくとも二つの原色プロセスカラーインクを相互に重ねて印刷した後に付与されたインク滴を焼成して混色を生成する。少なくとも一つの（光）オリゴマー化又は（光）ポリマー化可能な添加剤が原色セラミック・プロセスカラーインクに添加される。最初に付与したインク滴の上に追加のインク滴を印刷する前に、最初のインク滴を少なくとも部分的に硬化するか、又はその粘度を増加する。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１と、ガラス板１１上に形成された透明導電膜１５と、を備え、透明導電膜１５が透明導電層（透明導電層Ａ）１３と透明導電層（透明導電層Ｂ）１４を有し、透明導電層Ｂ１４が透明導電層Ａ１３の上に形成され、透明導電膜１５が複数の空孔１３ａ（１３ｂ）を含み、複数の空孔１３ａ（１３ｂ）の各々が、透明導電層Ａ１３の表面における凹部１３ｈを透明導電層Ｂ１４塞いだものである、透明導電膜付きガラス板１０、を提供する。透明導電膜ガラス板１０は、透明導電層Ａ１３の表面の一部の領域をエッチングによって膜厚方向に後退させるとともに、当該一部の領域を塞ぐように透明導電層Ａ１３の上に透明導電層Ｂ１４を形成することで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】成膜処理を施すことによってガラス基板の一方の面全域に所定の薄膜を形成するに際し、ガラス基板の他方の面に余剰薄膜が形成されるのを可及的に防止する。
【解決手段】一方の面である表面１ａ全域に、紫外線遮断膜７が形成されたガラス基板１を製造するための方法である。成膜処理、例えばスパッタリングによって紫外線遮断膜７を形成する際、ガラス基板１の裏面１ｂを、該裏面１ｂ全域を覆う支持ガラス基板１７の支持面１８に対して剥離可能に直接接着させる。これにより、成膜処理中にはガラス基板１を安定的に支持することができて高精度の紫外線遮断膜７を形成することができる一方で、成膜処理後にはガラス基板１を支持ガラス基板１７から容易に取り外すことができる。しかも、成膜処理に伴って、ガラス基板１の裏面１ｂに余剰薄膜が形成されることもない。 （もっと読む）

【課題】可視光領域で十分に低い反射率を達成することができ、かつ、破壊強度に優れた遮光膜付ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板２０上に多層構造の遮光膜３０が形成されてなる遮光膜付ガラス基板であって、前記多層構造の遮光膜が、下記を満たす第１の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x1Ｎ_y1）３１および第２の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x2Ｎ_y2）３２が、透明基板側からこの順に積層された構造であることを特徴とする遮光膜付ガラス基板。０．１５＜ｘ₁＜０．５、０．１＜ｙ₁＜０．３５、０．４＜ｘ₁＋ｙ₁＜０．６５、０．０３＜ｘ₂＜０．１５、０．０９＜ｙ₂＜０．２５ （もっと読む）

【課題】被着体に直接貼付が可能であり、優れた耐熱性を有し、急激な温度上昇や急水冷等の急激な温度変化時においてもクラック等の発生がなく、さらに、焼成により耐薬品性及び引っかき抵抗性を発揮することができる焼成用積層シートを提供することを主な目的とする。
【解決手段】保護シート、仮接着層、耐熱基材層、可燃性接着剤層及び剥離シートが、この順で積層され、該耐熱基材層がガラスフリット層、識別インク層、及び基材色インク層で構成された３０μｍ以下の層であり、かつ、識別インク層及び基材色インク層が無機顔料を有する、焼成用積層シートである。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、基板の主表面における実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状とマスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第１の方向に沿う断面形状に近似する第１近似曲線を算出し、第１近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、所定閾値以下であるものを選定する。 （もっと読む）

【課題】透過する画像にゆがみが生じない反射防止膜付き防火保護板ガラス、反射防止膜付き防火保護合わせガラス、及びこれらの何れかを用いた特定防火設備を提供する。
【解決手段】反射防止膜付き防火保護板ガラス１０は、３０〜７５０℃の温度範囲において−１０〜１０×１０^−７／Ｋの平均線膨張係数を有する結晶化ガラス製の耐熱板ガラス１１の透光面１１ａ（１１ｂ）に、反射防止膜１２が形成され、表面粗さのＲａ値が０.０３μｍ以下であり、かつＪＩＳ Ｒ３１０６に規定の可視光反射率が０．４％以下である。また、反射防止膜付き防火保護合わせガラスは、複数枚の板ガラスの少なくとも１枚が、防火保護板ガラス１０である。また、特定防火設備は、全ての遮炎有効部位の厚みが１．６ｍｍ以上の枠体の溝部に、防火保護板ガラス１０が６．５ｍｍ以上のみ込まれており、枠体の溝部と防火保護板ガラス１０の間が耐熱性の材料で封止されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、新規な角度依存干渉顔料を提供する。
【解決手段】当該顔料は透明或いは半透明な無機材料薄片を基材とし、基材の表面に、外に向って（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）層と、非必要の（Ｄ）層を順に被覆し、「高―低―高」のような屈折率を有する被覆層構造が形成され、高屈折率の材料からなる被覆層（Ａ）と（Ｃ）は、金属酸化物とケイ酸塩、アルミン酸塩又は／及びこれらの混合物を含有し、低屈折率の被覆層（Ｃ）は、酸化ケイ素、水和酸化ケイ素、アルミナ、水和アルミナ、酸化マグネシウム、水和酸化マグネシウム又は／及びこれらの混合物或いは化合物を含有する。 （もっと読む）