説明

Fターム[4G072GG01]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 発明のカテゴリー (4,870) | 単一物質 (939)

Fターム[4G072GG01]に分類される特許

181 - 200 / 939


【課題】高い水蒸気吸着能を備える多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤の存在下、製造する多孔体の骨格原料を構成する金属酸化物の金属原子の、溶液中における濃度が0.0055〜1mol/l以下、(界面活性剤/骨格原料の骨格構成金属原子)のモル比が0.15以上36以下、前記界面活性剤の濃度が0.05〜0.5mol/lである溶液中で、骨格原料を縮合させて縮合物を得る工程と、該縮合物から界面活性剤を除去する工程、とを備え、縮合物を得る工程として、pH10以上の水性溶媒下、界面活性剤と製造する多孔体の骨格原料とを混合して混合液を調製する工程と、この混合液に酸を添加して混合液のpHを9以上とする工程とを含み、ジケイ酸ナトリウム又はテトラアルコキシシランを骨格原料とする。 (もっと読む)



【課題】亜鉛還元法により四塩化珪素から多結晶シリコンを製造する際に、塩化亜鉛を安定して再生しながら、太陽電池品質の多結晶シリコンを製造する方法の提供。
【解決手段】粗金属シリコンを塩化した四塩化珪素を蒸留して不純物を分離した精製四塩化珪素に、金属亜鉛を接触させて還元し、塩化亜鉛と高純度金属シリコンを生成する多結晶シリコンの精製方法において、(1)生成した前記塩化亜鉛に水酸化ナトリウム水溶液を添加し、水酸化亜鉛及び塩化ナトリウム水溶液を得る湿式反応工程、(2)前記(1)の工程で得た塩化ナトリウム水溶液を電気分解して陽極表面から発生する塩素ガスと、陰極表面から発生する水素ガスと、残置の水酸化ナトリウム水溶液とに分離する電解工程、(3)前記(2)の工程の陰極から発生した水素ガスを用いて、前記(1)の工程で得られた水酸化亜鉛を還元して金属亜鉛を生成する還元工程を有する多結晶シリコンの精製方法。 (もっと読む)


【課題】p型化が抑制され、狭エネルギーギャップ材料として好適なゲルマニウム多結晶またはシリコンゲルマニウム多結晶を提供すること
【解決手段】不純物として酸素及び炭素を含む多結晶ゲルマニウム、または不純物として酸素及び炭素を含むゲルマニウムを50原子数%を超える量含有する多結晶シリコンゲルマニウムを製造する。 (もっと読む)


【課題】内部に球状のシリコンナノ結晶が点在する、発光材料として利用可能なシリコンナノワイヤを提供する。
【解決手段】該シリコンナノワイヤは、一次元構造の結晶シリコンナノワイヤにO2+イオンを注入してから不活性ガス雰囲気下にアニールしてその内部にシリコンナノ結晶を析出させ、その後、加熱と共に水素プラズマ処理することにより得られる。 (もっと読む)


繊維状形態を有する高表面積ナノ粒子を開示する。ナノ粒子は複数の繊維を有し、ここで、それぞれの繊維は他の一つの繊維と接触しており、それぞれの繊維は、長さが約1nm〜約5000nmである。また、本発明のナノ粒子の適用、本発明のナノ粒子の製造方法が開示される。

(もっと読む)


【課題】結晶性が良好で、ライフタイムの長い、太陽電池の基板材として好適な多結晶シリコンを提供する。
【解決手段】冷却るつぼを用いた電磁誘導連続鋳造法により製造された太陽電池用多結晶シリコンであって、凝固界面から300mmまでの領域が1275℃以上に保持され、リン拡散後のライフタイムが80μsec以上である多結晶シリコン。凝固界面から300mmまでの領域の保持温度が1280℃以上であれば、当該多結晶シリコンを基板として太陽電池を構成したときにより高い変換効率が期待できるので、望ましい。 (もっと読む)


【課題】乾燥工程での亀裂の発生や多孔体破壊などを防止しつつ、エアロゲルを効率良く製造するための有用な製造装置を提供する。
【解決手段】第一の液体溶媒を含有する湿潤体中の該第一の溶媒を、高圧状態の第二の溶媒で置換しつつ乾燥処理してエアロゲルを製造する様に構成されたエアロゲルの製造装置において、前記第一の溶媒と同一または互いに相溶である溶媒を高圧状態にして供給する第一溶媒高圧供給部と、前記第二の溶媒を高圧状態にして供給する第二溶媒高圧供給部と、前記第一の溶媒と第二の溶媒を高圧状態で混合する高圧混合部と、前記高圧混合部から供給された高圧混合溶媒を、処理槽内に設置された湿潤体と接触させて処理するエアロゲル処理部と、を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】太陽電池に適用することにより、高い光電変換効率を得られる多結晶シリコンウェーハを提供する。
【解決手段】硝酸、酢酸および弗酸からなる混酸液に浸漬し、転位を顕在化させたとき、ウェーハ表面において観察される亜粒界の占有率が10%以下であることを特徴とする多結晶シリコンウェーハ。前記亜粒界の占有率を6%以下にすると、さらに光電変換効率を高めることができるので望ましい。 (もっと読む)


【課題】充放電時の体積変化による影響を緩和して、良好な充放電サイクル特性を発現することが可能なリチウムイオン二次電池用負極活物質を提供する。
【解決手段】少なくともシリコンと酸素とを構成元素中に含む物質からなるリチウムイオン二次電池用の負極活物質であって、厚みが30〜500nmであり、かつ、平均長径/厚みの比が10〜100である鱗片状の粉末からなり、酸素含有量が5〜38wt%であるようにした。 (もっと読む)


【課題】電磁鋳造法による連続鋳造の際に、チャンバー内で自然対流する雰囲気ガスに起因して、溶融シリコンが金属不純物で汚染されることを防止できるシリコンインゴットの連続鋳造方法を提供する。
【解決手段】チャンバー1内に配置した無底冷却ルツボ7にシリコン原料11を装入し、誘導コイル8からの電磁誘導加熱によりシリコン原料11を融解させ、この溶融シリコン12を冷却ルツボ7から引き下げながら凝固させてシリコンインゴット3を連続鋳造する方法において、チャンバー1の側壁に冷却ルツボ7の上方と下方で開口する配管15が連結され、冷却ルツボ7の上端とチャンバー1の側壁との間に仕切り板16が設けられており、配管15を通じて冷却ルツボ7の上方の雰囲気ガスを冷却ルツボ7の下方に導入しつつ、冷却ルツボ7の下方から上方に流入する雰囲気ガスの流れを仕切り板16によって遮断しながら鋳造を行う。 (もっと読む)


【課題】 本発明により、抵抗を高く保つことが重要視される目的で用いられる純Siにとって、充填、成形、塗布などに用いた際に、極めて重要な特性である電流遮断性である接触抵抗の高い純Si粉末を提供する。
【解決手段】 平均円形度が0.75〜1.00であり、かつ相対密度が65%以上を有するSiおよび不可避的不純物よりなることを特徴とする接触抵抗の高い純Si粉末。(なお、ここでいう相対密度とは、タップ密度を純Siの真密度2.33Mg/m3 で除して100を乗じた値(%)である)。また、上記相対密度が65〜80%である接触抵抗の高い純Si粉末。さらに、上記Si粉末をガスアトマイズ法にて製造する接触抵抗の高い純Si粉末。 (もっと読む)


【課題】 無機酸化物の粒子を凝集させずに反応液から分離・回収し、いつでも無機酸化物を単分散状態に戻すことができる形態で保存する方法、並びに無機酸化物を摂氏数百度以上の高温で焼成しても粒子同士が互いに焼結しない方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の粒子が懸濁した液に非イオン性高分子凝集剤を添加し、好適には、斯様に非イオン性高分子凝集剤を添加した後に、無機酸化物の粒子が懸濁した液に固体状COを添加して、該無機酸化物の粒子を回収することを特徴とする無機酸化物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】酸洗浄をより効果的に実施して、不純物であるアルミニウムが有利に低減されることにより精製されたシリコンを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の精製されたシリコンを製造する方法は、アルミニウムを含有するシリコンを加熱してシリコン融液を得る溶融工程(S10)、当該シリコン融液を凝固してシリコン塊を得る凝固工程(S20)、当該シリコン塊を粉砕してシリコン粒子を得る粉砕工程(S30)、及びシリコン粒子を酸性溶液に3時間以上浸漬して酸洗浄する洗浄工程(S40)、をこの順に備え、凝固工程(S20)において、1350℃までの平均冷却速度が100℃/分未満である。 (もっと読む)


【課題】ピュアシリコンの含有率が高いシリコン汚泥を回収すること。
【解決手段】結晶シリコンの研磨および/または研削に伴う排水を流通させる樹脂製またはステンレス製の配管を用いることとしたうえで、流通される排水を貯留する貯留槽内の排水に浸漬した膜エレメントへシリコン汚泥を吸着させる汚泥吸着装置と、吸着されたシリコン汚泥を乾燥させることによって乾燥シリコン汚泥を得る汚泥乾燥装置とを配置し、シリコンが水と接した状態で留まる滞留時間が、かかる状態のシリコンにおける酸素濃度の時間変化率を示す酸化係数および回収されるシリコンにおける酸素濃度の目標値に基づいて算出される上限時間以下となるように、配管によって流通される単位時間あたりの排水の量および汚泥吸着装置によって処理される単位時間あたりの排水の量を決定するようにシリコン回収システムを構成する。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.35を超え1.75以下、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.50以上0.75以下及び球状化率が0.20以上0.55未満であり、炭素濃度が2ppm未満又は塩素濃度が2ppm未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.75〜1.00及び球状化率が0.55〜1.00であり、炭素濃度が2ppm未満又は塩素濃度が2ppm未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.75〜1.00及び未溶解率が0.00〜0.25であることを特徴とする。 (もっと読む)


高品質シリコン材料(例えば、多結晶シリコン) を形成するためのシステム。特定の実施態様において、溶融材料には、シリコン材料及び不純物(例えば、リンの種)が含まれる。システムには、内側領域を備えるるつぼが含まれる。特定の実施態様において、るつぼは、適切な材料(例えば石英材料又は他のもの)でできている。石英材料は、シリコンを処理するために少なくとも摂氏1400度の温度に耐えることができる。特定の実施形態において、るつぼは、直立に配置されて、溶融材料を露出させる開放域を備える。特定の実施形態において、本システムは、エネルギー源を備える。かかるエネルギー源は、アークヒーター又は他の適切な加熱装置であってもよい。これには、複合加熱装置が含まれ、それらは、同じものか異なるものであってもよい。アークヒーターは、開放域より上に構成されて、露出溶融材料とアークヒーター銃口部との間の隙間によって間隔が開いている。露出溶融材料の中心付近内で、規定の温度プロファイルを形成させると共に、溶融材料の外側領域をるつぼの石英材料の融点より低い温度に維持する。システムは、結果としてリン種を0.1ppm以下含む溶融材料を生産する。これが、精製されたシリコンである。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、安定した測定性能を長期間保持した、測定システム更には定量測定システムを可能とする、シリカナノ粒子の製造方法、該シリカ粒子の製造方法により得られた制御型のシリカナノ粒子、及びそれを用いた標識試薬を提供することである。
【解決手段】下記の工程(a)及び(b)を含んでいることを特徴とするシリカナノ粒子の製造方法。
(a).含ケイ素アルコキシド類と標識機能分子とを結合した化合物を、テトラアルコキシシラン化合物とともに加水分解し、シリカナノ粒子を調製する工程
(b).前記工程(a)により調製したシリカナノ粒子の加水分解反応を反応停止剤により停止する工程 (もっと読む)


181 - 200 / 939